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(19)中华人民共和国国家知识产权局*CN102859396A*(12)发明专利申请(10)申请公布号CN102859396A(43)申请公布日2013.01.02(21)申请号201080065926.9代理人黄威严彩霞(22)申请日2010.05.19(51)Int.Cl.(30)优先权数据G02B1/10(2006.01)102010013865.72010.04.01DEG02B5/08(2006.01)(85)PCT申请进入国家阶段日2012.09.28(86)PCT申请的申请数据PCT/EP2010/0569022010.05.19(87)PCT申请的公布数据WO2011/120593DE2011.10.06(71)申请人阿兰诺德股份有限两合公司地址德国恩讷珀塔尔(72)发明人弗朗克·滕普林勒内·普施尔哈拉尔德·屈斯特(74)专利代理机构北京金信立方知识产权代理有限公司11225权利要求书权利要求书3页3页说明书说明书88页页附图附图11页(54)发明名称具有高的耐候性和耐腐蚀性的反射器及其制造方法(57)摘要本发明涉及一种用于在100nm至1mm的波长范围内的电磁辐射的反射器(1),其具有高的耐候性和耐腐蚀性,包括:有反射表面(3)的金属反射器主体(2),或者在其上沉积有反射层(9)的反射器主体(2),以及透明的、由聚硅氧烷制成的覆盖层(4),其在溶胶凝胶工艺中形成。为了在保留溶胶凝胶保护层的已知优点并实现一种在技术上更有利的制造方式,建议覆盖层(4)由至少一种硅酸酯与至少一种包含烷基、乙烯基和/或芳香基的环状硅氧烷低聚物的交联缩聚物制成。CN10285936ACN102859396A权利要求书1/3页1.一种用于在100nm至1mm的波长范围内的电磁辐射的反射器(1),其具有高的耐候性和耐腐蚀性,包括:-金属的反射器主体(2),所述反射器主体具有反射表面(3),-或者反射器主体(2),在所述反射器主体上沉积有反射层(9),-以及透明的、由聚硅氧烷制成的覆盖层(4),其在溶胶-凝胶工艺中形成,其特征在于,所述覆盖层(4)由至少一种硅酸酯与至少一种包含烷基、乙烯基和/或芳香基的环状硅氧烷低聚物的交联缩聚物制成。2.如权利要求1所述的反射器(1),其特征在于,所述硅酸酯为具有通式Si(OR)4的原硅酸的酯,其中R为芳香基和/或特别为烷基。3.如权利要求1或2所述的反射器(1),其特征在于,所述硅酸酯为四乙基正硅酸酯(TEOS)。4.如权利要求1至3中任一项所述的反射器(1),其特征在于,所述硅氧烷低聚物的环结构中连接有不多于七个,优选为四个单体组分。5.如权利要求1至4中任一项所述的反射器(1),其特征在于,所述硅氧烷低聚物包含一个至八个优选分别具有一个至六个碳原子的烷基和/或乙烯基。6.如权利要求1至5中任一项所述的反射器(1),其特征在于,所述硅氧烷低聚物为化学式为环-{SiO(CH3)[CH2CH2Si(CH3)(OC2H5)2]}4或环-{SiO(CH3)(CHCH2)]4的化合物或1,3,5,7-四乙烯基-1,3,5,7-四甲基环四硅氧烷。7.如权利要求1至6中任一项所述的反射器(1),其特征在于,所述反射器主体(2)由铝,镁,铜,钛,钼,钽或钢,例如不锈钢制成,或由这些物质的合金,例如黄铜制成。8.如权利要求1至7中任一项所述的反射器(1),其特征在于,在所述反射器主体(2)上直接施加通过铬化,磷化,阳极化,镀锌等方法制造的基层(5)。9.如权利要求8所述的反射器(1),其特征在于,所述基层(5)具有1nm的最小厚度(D5),其中所述基层(5)的最大厚度(D5)为5000nm。10.如权利要求1至9中任一项所述的反射器(1),其特征在于,对反射器主体(2)进行湿式和/或等离子体化学预处理,以进行清洗,尤其是去掉油污。11.如权利要求1至10中任一项所述的反射器(1),其特征在于,在所述覆盖层(4)下方具有涂覆在所述反射器主体(2)上的具有光学和/或机械功能的功能性的层组(6)。12.如权利要求11所述的反射器(1),其特征在于,涂覆光学层系统作为功能性的层组(6)。13.如权利要求12所述的反射器(1),其特征在于,所述光学层系统至少由三层组成,其中两个上层(7,8)为绝缘层,以及最下层(9)为金属的,特别是由铝制成的金属层,其形成反射层(9)。14.如权利要求13所述的反射器(1),其特征在于,所述光学层系统的金属层(9)为溅射层或通过蒸发,特别是通过电子轰击或由热源产生的层。15.如权利要求13或14所述的反射器(1),其特征在于,所述光学层系统的两个上层(7,8)的材料在化学上属于金属氧化物,金属氟化物,金属氮化物或金属硫化物或其混合物的组并且两个上层(7,8)具有不同的折射系数。16.如权利要求1