一种水性光刻胶剥离液.pdf

(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号(10)申请公布号CNCN103676504103676504A(43)申请公布日2014.03.26(21)申请号201310677506.1(22)申请日2013.12.13(71)申请人江阴润玛电子材料股份有限公司地址214423江苏省无锡市江阴市周庄镇欧洲工业园区(72)发明人戈士勇(74)专利代理机构江阴大田知识产权代理事务所(普通合伙)32247代理人杜兴(51)Int.Cl.G03F7/42(2006.01)权利要求书1页权利要求书1页说明书4页说明书4页(54)发明名称一种水性光刻胶剥离液(57)摘要本发明公开了一种水性光刻胶剥离液，水性光刻胶剥离液由醇醚、二元醇、水溶性有机溶剂、季铵类氢氧化物、表面活性剂和纯水按一定比例混合而成。该剥离液剥离速度适中，1000倍显微镜下，剥离后的晶圆表面无光刻胶残留；10000倍显微镜下，对铝和铜金属层几乎没有腐蚀；与现有技术中有机剥离液使用温度在60℃~90℃以上相比，该剥离液在25~45℃使用温度下剥离速率快，使用能耗低；使用成本低，寿命长，环保。CN103676504ACN1036754ACN103676504A权利要求书1/1页1.一种水性光刻胶剥离液，其特征在于，所述水性光刻胶剥离液由下列组分组成，所述组分的重量百分比为：醇醚30~40%；二元醇10~20%；水溶性有机溶剂15~30%；季铵类氢氧化物0.1~1%；表面活性剂0.05~0.1%；其余为纯水。2.根据权利要求1中所述的水性光刻胶剥离液，其特征在于，所述醇醚为二乙二醇单丁醚、丙二醇单丁醚、二丙二醇单丁醚、二乙二醇单甲醚、乙二醇单甲醚、丙二醇单甲醚、二乙二醇单乙醚和二丙二醇单乙醚中的一种。3.根据权利要求1中所述的水性光刻胶剥离液，其特征在于，所述二元醇为乙二醇或丙二醇。4.根据权利要求1中所述的水性光刻胶剥离液，其特征在于，所述水溶性有机溶剂由组分A和组分B混合而成，所述组分A为选自砜类和亚砜类有机溶剂中的一种、所述组分B为选自酰胺类和内酰胺类有机溶剂中的一种，所述组分A在所述水性光刻胶剥离液中的质量百分比为3～20%。5.根据权利要求4所述的水性光刻胶剥离液，其特征在于，所述组分A在所述水性光刻胶剥离液中的质量百分比为5～10%。6.根据权利要求5所述的水性光刻胶剥离液，其特征在于，所述组分A为二甲基亚砜、二甲基砜、二乙基砜和四亚甲基砜中的一种，所述组分B为、N，N-二甲基甲酰胺、N，N-二甲基乙酰胺、N-甲基甲酰胺、N，N-二乙基乙酰胺、N-甲基-2-吡咯烷酮、N-乙基-2-吡咯烷酮和N-丙基-2-吡咯烷酮中的一种。7.根据权利要求1中所述的水性光刻胶剥离液，其特征在于，所述季铵类氢氧化物为四甲基氢氧化铵、四乙基氢氧化铵、四丙基氢氧化铵和四丁基氢氧化铵中的一种或几种。8.根据权利要求1中所述的水性光刻胶剥离液，其特征在于，所述表面活性剂为阴离子表面活性剂。9.根据权利要求8中所述的水性光刻胶剥离液，其特征在于，所述阴离子表面活性剂为烷基苯磺酸钠、烷基硫酸钠、烷基聚氧乙烯醚硫酸钠、脂肪酸钠、烷基聚氧乙烯醚羧酸钠、烷基磺酸钠的一种或几种。2CN103676504A说明书1/4页一种水性光刻胶剥离液技术领域[0001]本发明涉及液晶显示器薄膜晶体管（TFT）和触摸屏行业电子化学品技术领域，具体涉及一种水性光刻胶剥离液。背景技术[0002]液晶面板和触摸屏等制造过程中，还需要通过多次图形掩膜照射曝光及蚀刻等工序在硅晶圆或玻璃基片上形成多层精密的微电路，形成微电路之后，进一步用光刻胶剥离液将涂覆在微电路保护区域上作为掩膜的光刻胶除去。在电容式触摸屏生产中，采用真空镀膜方式在玻璃基板上溅镀上底层ITO镀层之后，需要采用旋涂方式在ITO玻璃基板上多次制作光刻胶层、曝光显影及脱模工序；液晶显示装置的彩色滤光片制造过程中，利用旋转涂布、狭缝涂布或狭缝与旋转涂布等方法涂布光刻胶的过程中，不可避免地将光刻胶涂布于基板边缘或背面，这些多余的光刻胺会造成设备污染，从而增加了清洗设备的生产成本，因此必须用光刻胶剥离液去除多余光刻胶。现有技术中常用来移除光刻胶的剥离液主要成分为极性溶剂、胺类（包括季铵盐）及水。[0003]CN102944986A中公开了一种由吡咯烷酮、亚砜、醇醚、季铵、碱和水按一定比例混合而成的芯片用聚酰亚胺剥离液，该剥离液能防止金属材料受损，其使用条件为70～90℃，而且剥离液中含有的碱为选自氢氧化钠和氢氧化钾一类的无机强碱，无机强碱在有机溶剂中的溶解度较低，且会对金属层侵蚀比较严重；CN187543B中公开了一种含季铵氢氧化物、从二元醇类和二元醇醚类中选出的至少一种水溶性有机溶剂、选自亚砜类、砜类、酰胺类、内酰胺类、咪唑烷酮类的至少一种