一种用于光刻胶剥离的水性剥离液.pdf

(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN111352315A(43)申请公布日2020.06.30(21)申请号202010197575.2(22)申请日2020.03.19(71)申请人厦门思美科新材料有限公司地址361000福建省厦门市中国(福建)自由贸易试验区厦门片区港中1730号01单元501(72)发明人庄英毅王雪刚其他发明人请求不公开姓名(74)专利代理机构北京科亿知识产权代理事务所(普通合伙)11350代理人汤东凤(51)Int.Cl.G03F7/32(2006.01)权利要求书1页说明书4页附图1页(54)发明名称一种用于光刻胶剥离的水性剥离液(57)摘要本发明公开了一种用于光刻胶剥离的水性剥离液，所述的水性剥离液由重量份5-18％的有机胺化合物、重量份55-75％的有机溶剂、重量份0.2-10％的添加剂、重量份0.1-3％的金属抗蚀剂以及余量的水组成；本申请的水性剥离液通过增加有机胺化合物比例的同时加入一定量的金属抗蚀剂，减少剥离时间的同时防止腐蚀，能够同时实现液晶面板及AMOLED行业生产中ITO/Ag/ITO及Mo/Al/Mo结构层中光刻胶的快速剥离、剥离后无光刻胶残留、对环境污染小、使用安全，剥离效果良好。CN111352315ACN111352315A权利要求书1/1页1.一种用于光刻胶剥离的水性剥离液，其特征在于：所述的水性剥离液由重量份5-18％的有机胺化合物、重量份55-75％的有机溶剂、重量份0.2-10％的添加剂、重量份0.1-3％的金属抗蚀剂以及余量的水组成；所述的有机胺化合物选自乙醇胺、二乙醇胺、三乙醇胺、N-甲基单乙醇胺和N-甲基二乙醇胺中的至少一种；所述的有机溶剂由二乙醇类溶剂和酰胺类溶剂混合而成，二乙醇类溶剂选自二乙二醇单丁醚、二乙二醇甲醚、二乙二醇叔丁基醚和二乙二醇乙醚；酰胺类溶剂选自N-甲基甲酰胺、N-二甲基甲酰胺和二甲基乙酰胺；所述的金属抗蚀剂是2-氨基环乙醇或2-氨基环丙醇。2.根据权利要求1所述的一种用于光刻胶剥离的水性剥离液，其特征在于：所述的添加剂选自环己醇六磷酸脂、氨基酸的碱盐、苯并三氮唑、1-羟基苯并三氮唑、3-羟基甲酯-1、3-羟基甲酯-2、4-三氮唑、二巯基噻二唑二钠盐和油酸三乙醇胺脂中的至少一种。3.根据权利要求1所述的一种用于光刻胶剥离的水性剥离液，其特征在于：所述的有机溶剂中二乙醇类溶剂和酰胺类溶剂的含量是，二乙醇类溶剂重量占比30％-80％，酰胺类溶剂重量占比10％-60％。2CN111352315A说明书1/4页一种用于光刻胶剥离的水性剥离液技术领域[0001]本发明涉及光刻胶领域，尤其涉及一种用于光刻胶剥离的水性剥离液。背景技术[0002]光刻胶又称光致抗蚀剂，主要由感光树脂、增感剂和溶剂三种成分组成。感光树脂经光照后，在曝光区能很快地发生光固化反应，使得这种材料的物理性能，特别是溶解性、亲合性等发生明显变化。经曝光、显影、刻蚀、扩散、离子注入、金属沉积等工艺将所需的微细图形从掩模版转移至加工的基板上、最后通过去胶剥离液将未曝光部分余下的光刻胶清洗掉，从而完成整个图形转移过程。在液晶面板和AMOLED生产中广泛使用。现有的剥离液主要有两种，分别是水性剥离液和有机剥离液，由于有机剥离液只能用于具有Mo/Al/Mo结构的制程中，无法用于ITO/Ag/ITO；且乙醇胺的含量高达60％以上，有很强的腐蚀性，因此，常用的剥离液是水性剥离液，现有的水性剥离液主要成分为有机胺化合物、极性有机溶剂以及水，但现有的水性剥离液大都存在腐蚀金属配线、光刻胶残留、环境污染大、影响操作人员的安全性、剥离效果差等问题。发明内容[0003]本发明所要解决的技术问题在于提供一种能同时实现ITO/Ag/ITO及Mo/Al/Mo结构层中光刻胶的快速剥离、无光刻胶残留、对环境污染小、使用安全，剥离效果良好的用于光刻胶剥离的水性剥离液。[0004]为解决上述技术问题，本发明的技术解决方案是：[0005]一种用于光刻胶剥离的水性剥离液，所述的水性剥离液由重量份5-18％的有机胺化合物、重量份55-75％的有机溶剂、重量份0.2-10％的添加剂、重量份0.1-3％的金属抗蚀剂以及余量的水组成；[0006]所述的有机胺化合物选自乙醇胺、二乙醇胺、三乙醇胺、N-甲基单乙醇胺和N-甲基二乙醇胺中的至少一种；[0007]所述的有机溶剂由二乙醇类溶剂和酰胺类溶剂混合而成，二乙醇类溶剂选自二乙二醇单丁醚、二乙二醇甲醚、二乙二醇叔丁基醚和二乙二醇乙醚；酰胺类溶剂选自N-甲基甲酰胺、N-二甲基甲酰胺和二甲基乙酰胺；[0008]所述的金属抗蚀剂是2-氨基环乙醇或2-氨基环丙醇。[0009]进一步的，所述的添加剂选自环己醇六磷酸脂、氨基酸的碱盐、苯并三氮唑、1-羟基苯并三氮