彩膜基板及其制作方法、显示装置.pdf

(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN105404050A(43)申请公布日2016.03.16(21)申请号201610004370.1(22)申请日2016.01.04(71)申请人京东方科技集团股份有限公司地址100015北京市朝阳区酒仙桥路10号申请人北京京东方显示技术有限公司(72)发明人陈曦刘明悬刘正刘耀张小祥张治超(74)专利代理机构北京天昊联合知识产权代理有限公司11112代理人彭瑞欣陈源(51)Int.Cl.G02F1/1335(2006.01)权利要求书2页说明书7页附图5页(54)发明名称彩膜基板及其制作方法、显示装置(57)摘要本发明提供一种彩膜基板的制作方法，包括：在衬底基板的第一表面上形成掩膜图形，所述掩膜图形包括镂空部和不透光部，所述不透光部包括第一不透光子部，所述第一不透光子部的厚度小于不透光部其他部分的厚度；在衬底基板的第二表面形成黑矩阵材料层；从形成有掩膜图形的一侧对黑矩阵材料层进行曝光并显影，以形成黑矩阵；进行第一次灰化，以将第一不透光子部去除，不透光部的其他部分保留一部分；在衬底基板的第二表面形成第一颜色的色阻材料层；从形成有掩膜图形的一侧对所述第一颜色的色阻材料层进行曝光并显影，以形成第一颜色的色阻块。相应地，本发明还提供一种彩膜基板和一种显示装置。本发明能够减少掩膜板的使用数量，降低生产成本。CN105404050ACN105404050A权利要求书1/2页1.一种彩膜基板的制作方法，所述彩膜基板包括多种不同颜色的子像素区，其特征在于，所述制作方法包括：在衬底基板的第一表面上形成掩膜图形，所述掩膜图形包括镂空部和不透光部，所述镂空部的位置与待形成黑矩阵的位置相对应，所述不透光部包括与所述彩膜基板的第一颜色子像素区对应的第一不透光子部，所述第一不透光子部的厚度小于所述不透光部的其他部分的厚度；在所述衬底基板的与第一表面相对的第二表面形成黑矩阵材料层；从所述衬底基板的形成有掩膜图形的一侧对所述黑矩阵材料层进行曝光并显影，以形成黑矩阵；对所述不透光部进行第一次灰化，以将所述第一不透光子部去除，所述不透光部的其他部分保留一部分；在所述衬底基板的第二表面形成第一颜色的色阻材料层；从所述衬底基板的形成有掩膜图形的一侧对所述第一颜色的色阻材料层进行曝光并显影，以形成第一颜色的色阻块。2.根据权利要求1所述的制作方法，其特征在于，所述彩膜基板包括三种颜色的子像素区以及位于所有子像素区和黑矩阵周围的外围区，所述不透光部还包括对应于第二颜色子像素区的第二不透光子部、对应于第三颜色子像素区的第三不透光子部以及对应于外围区的外围不透光子部，所述第三不透光子部和所述外围不透光子部的厚度均大于所述第二不透光子部的厚度；从所述衬底基板的形成有掩膜图形的一侧对所述第一颜色的色阻材料层进行曝光并显影，之后还包括：对剩余的不透光部进行第二次灰化，以将所述第二不透光子部去除，所述第三不透光子部和所述外围不透光子部均保留一部分；在所述衬底基板的形成有黑矩阵的一侧形成第二颜色的色阻材料层；从所述衬底基板的形成有掩膜图形的一侧对所述第二颜色的色阻材料层进行曝光并显影，以形成第二颜色的色阻块。3.根据权利要求2所述的制作方法，其特征在于，所述第三不透光子部的厚度小于所述外围不透光子部的厚度，从所述衬底基板的形成有掩膜图形的一侧对第二颜色的色阻材料层进行曝光并显影，之后还包括；对剩余的不透光部进行第三次灰化，以将所述第三不透光子部去除，所述外围不透光子部保留一部分；在所述衬底基板的形成有黑矩阵的一侧形成第三颜色的色阻材料层；从所述衬底基板的形成有掩膜图形的一侧对所述第三颜色的色阻材料层进行曝光并显影，以形成第三颜色的色阻块。4.根据权利要求3所述的制作方法，其特征在于，从所述衬底基板的形成有掩膜图形的一侧对所述第三颜色的色阻材料层进行曝光并显影，之后还包括：将所述掩膜图形剩余的部分去除。5.根据权利要求1至4中任意一项所述的制作方法，其特征在于，进行所述显影时，通过喷淋的方式向所述衬底基板的形成有黑矩阵的一侧喷淋显影液。2CN105404050A权利要求书2/2页6.根据权利要求3所述的制作方法，其特征在于，所述在衬底基板的第一表面上形成掩膜图形，具体包括：形成掩膜材料层；对所述掩膜材料层进行构图工艺，以将待形成黑矩阵的位置对应的掩膜材料去除，形成所述镂空部，其余部分保留形成所述不透光部，并且，在所述不透光部中，第二颜色子像素区对应的掩膜材料的厚度大于第一颜色子像素区对应的光刻胶厚度、并小于第三颜色子像素区对应的光刻胶厚度，所述第三颜色子像素区对应的掩膜材料的厚度小于所述外围区对应的掩膜材料的厚度。7.根据权利要求6所述的制作方法，其特征在于，所述掩膜材料层为不透光的光刻胶层，所述构图工艺包