彩膜基板的制作方法及其结构.pdf
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彩膜基板的制作方法及其结构.pdf
本发明提供一种彩膜基板的制作方法及其结构。本发明的彩膜基板的制作方法,通过采用三道半色调光罩依次对红、绿、蓝色阻层进行曝光、显影,分别在形成红、绿、蓝色阻块的同时,形成红、绿、蓝色阻薄膜,使红、绿、蓝色阻薄膜叠加构成复合色阻薄膜,代替了黑色矩阵,省去了黑色矩阵制程,并可通过调节红、绿、蓝色阻薄膜的厚度控制所述复合色阻薄膜的厚度,以调节遮光效果;同时避免了因色阻和黑色矩阵之间相互覆盖而产生的牛角现象,避免了色差,改善了产品品质,提升了产品良率。本发明的彩膜基板结构,采用红、绿、蓝色阻薄膜叠加构成的复合色阻薄
彩膜基板及其制作方法、显示装置.pdf
本发明提供一种彩膜基板的制作方法,包括:在衬底基板的第一表面上形成掩膜图形,所述掩膜图形包括镂空部和不透光部,所述不透光部包括第一不透光子部,所述第一不透光子部的厚度小于不透光部其他部分的厚度;在衬底基板的第二表面形成黑矩阵材料层;从形成有掩膜图形的一侧对黑矩阵材料层进行曝光并显影,以形成黑矩阵;进行第一次灰化,以将第一不透光子部去除,不透光部的其他部分保留一部分;在衬底基板的第二表面形成第一颜色的色阻材料层;从形成有掩膜图形的一侧对所述第一颜色的色阻材料层进行曝光并显影,以形成第一颜色的色阻块。相应地,
彩膜基板的制作方法及制作装置.pdf
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一种彩膜基板的制作方法、彩膜基板以及液晶显示面板.pdf
本发明公开了一种彩膜基板的制作方法包括:提供一基板,基板包括彩膜区域、W子像素区域、以及黑色矩阵区域;在基板上涂覆一第一OC层;对第一OC层进行图形化处理,保留W子像素区域的第一OC层,其他区域的第一OC层均去除;在基板上沉积一黑色矩阵层;对黑色矩阵层进行图形化处理,保留黑色矩阵区域的黑色矩阵层,其他区域的黑色矩阵层均去除;在基板上的彩膜区域涂布RGB色阻层,以形成RGB彩膜,RGB彩膜的厚度与W子像素区域的第一OC层的厚度相同;在基板上涂覆第二OC层;以及在第二OC层上沉积透明金属层,以形成透明电极。本
掩膜板、彩膜基板及其制作方法、显示面板、显示装置.pdf
本发明提供了一种掩膜板、彩膜基板及其制作方法、显示面板、显示装置,属于显示技术领域。其中,所述掩膜板包括对应所述彩膜基板的像素区域的透光图形,还包括对应所述彩膜基板的虚拟像素区的部分透光图形。彩膜基板的制作方法包括:在衬底基板上涂布彩色负性光阻材料,利用如上所述的掩膜板对所述彩色负性光阻材料进行曝光,显影后保留像素区域的彩色负性光阻材料,去除虚拟像素区的部分彩色负性光阻材料。通过本发明的技术方案能够防止液晶显示面板的边缘位置出现漏光。