半导体晶片、半导体芯片以及半导体装置及其制造方法.pdf
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半导体晶片、半导体芯片以及半导体装置及其制造方法.pdf
本发明公开一种半导体晶片、半导体芯片以及半导体装置及其制造方法。为了解决在切割道切割半导体晶片时探针测试垫残留垫金属造成的半导体芯片可靠度恶化的问题,在具有多个半导体芯片的半导体晶片,具有形成于半导体晶片的切割区的多个探针测试垫、形成于半导体芯片上的多个直通硅晶穿孔、与将各探针测试垫连接于各直通硅晶穿孔的线路层,而被构成为:在晶片测试后,通过蚀刻移除多个探针测试垫及线路层的一部分的至少其中之一。另外,半导体晶片还具有以覆盖移除线路层的一部分时残留的线路层的曝露面的形式形成的保护膜。
切割半导体晶片的方法、从半导体晶片切割的芯片以及从半导体晶片切割的芯片的阵列.pdf
一种切割半导体晶片的方法,包括:在该晶片的背面主表面中切割基准槽;在该背面主表面中切割背槽,该背槽相对该基准槽定位;确定所需的芯片边缘相对该基准槽的位置;以及在某个路径中施加辐射能量,从而在该晶片内沿该路径形成一系列改造区域。该晶片的晶体结构在这一系列改造区域中被改变,并且该激光的边缘相对该芯片边缘的所需位置对齐且与该背槽对齐。该方法包括沿这一系列改造区域将该晶片分开成在这一系列改造区域任一侧上的该晶片的分割区域。
半导体晶片的加工方法、加工装置以及半导体晶片.pdf
本发明提供半导体晶片的加工方法、加工装置以及半导体晶片。通过实施例公开半导体晶片加工方法。该方法包括以下工序:用第一砂轮或刀片对在表面形成有半导体元件的半导体晶片背面的外缘部进行研磨以形成环状的槽的工序;用第二砂轮对所述槽内侧的凸部进行研磨以在所述半导体晶片的背面与所述槽一体地形成凹部的工序;和用第三砂轮进一步对包含由所述第二砂轮研磨出的研磨面的所述凹部的底面进行研磨的工序。
半导体晶片及其制造方法.pdf
本公开涉及一种在PSS衬底上沿半极性面外延生长GaN基片的方法,包括:在PSS衬底上在处理腔室内的第一温度环境下沿着半极性面外延生长成平坦的第一GaN半导体层;停止施加Ga载气,在处理腔室内第三温度环境下施加Si载气,从而采用MOCVD方式在第一GaN半导体层表面生成第三厚度的氮化硅层;停止施加硅载气,并将处理腔室内温度升高到第四温度从而使得氮化硅层部分熔化而形成氮化硅岛体;在第一温度下,在之前生成的第一GaN半导体层的表面以及氮化硅岛体的侧壁上继续外延生长形成第一GaN半导体层,直到最后包裹并覆盖氮化硅
半导体装置以及制造半导体装置的方法.pdf
半导体装置以及制造半导体装置的方法。在一个实例中,一种半导体装置包括具有引线的衬底,引线包括引线端子、引线阶梯和引线偏移件,引线偏移件在引线阶梯之间延伸,使得至少一些引线阶梯驻留在不同平面上。第一电子组件耦合到第一引线阶梯侧,且包括第一电子组件第一侧和与第一电子组件第一侧相对的第一电子组件第二侧。第二电子组件耦合到第二引线阶梯侧,且包括第二电子组件第一侧和与第二电子组件第一侧相对的第二电子组件第二侧。密封物密封第一电子组件、第二电子组件和衬底的部分。引线端子从密封物的第一侧暴露。