光刻胶显影液.pdf
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光刻胶显影液.pdf
本发明所提供的光刻胶显影液包含特定结构的非离子性表面活性剂及碱源,其在进行显影工程时,能够维持微细图案的显影性,并且减少因化合物残留所导致的残影及气泡的产生。
一种负性光刻胶显影液及其制备方法.pdf
一种负性光刻胶显影液及其制备方法。所述负性光刻胶显影液包括:无机碱、有机碱、非离子表面活性剂、阳离子表面活性剂、缓冲盐和水,其中所述表面活性剂为式I所示化合物。所述制备方法制备简单,有利于产业化生产。
正性光刻胶用显影液及光刻工艺中的显影方法.pdf
本发明提供了一种正性光刻胶用显影液,包括:碱性物质、水、表面活性剂和蛋白水解酶。本发明还提供了一种光刻工艺中的显影方法,包括以下步骤:提供半导体晶片,所述半导体晶片上具有由正性光刻胶形成的光敏材料层,所述光敏材料层与所述半导体晶片之间具有胺类增黏剂形成的膜;向所述光敏材料层喷洒上述技术方案所述的显影液,使所述光敏材料层可溶解区域的光敏材料溶解;向所述光敏材料层喷洒去离子水,去除所述溶解后的光敏材料。本发明提供的正性光刻胶显影液中,蛋白水解酶能够催化曝光过程中生成的溶解度较小的肽键化合物进行水解,使其溶于显
一种显影液及其制备方法、光刻胶的显影方法.pdf
本申请提供了一种显影液及其制备方法、光刻胶的显影方法,所述显影液包括以下重量份数的各组分:1?20份的碱,0.01?5份的金属保护剂,0.01?5份的表面活性剂,余量为水;其中,所述表面活性剂包括十二烷基苯磺酸盐、十二烷基硫酸盐、脂肪醇聚氧乙烯醚硫酸盐、重烷基苯磺酸钠、聚氧丙烯?聚氧乙烯嵌段共聚物中的至少一种;所述金属保护剂包括山梨酸盐、苯甲酸盐、醋酸氯乙啶、甲基苯并三氮唑中的至少一种。该显影液显影速率适中、可控性强、显影分辨率高,且显影后基板的净度高、光刻胶侧壁的垂直度好、对基板无腐蚀。
一种显影液及其制备方法、光刻胶的显影方法.pdf
本申请提供了一种显影液及其制备方法、光刻胶的显影方法,所述显影液包括以下重量份数的各组分:1?20份的碱,0.01?5份的金属保护剂,0.01?5份的表面活性剂,余量为水;其中,所述表面活性剂包括十二烷基苯磺酸盐、十二烷基硫酸盐、脂肪醇聚氧乙烯醚硫酸盐、重烷基苯磺酸钠、聚氧丙烯?聚氧乙烯嵌段共聚物中的至少一种;所述金属保护剂包括山梨酸盐、苯甲酸盐、醋酸氯乙啶、甲基苯并三氮唑中的至少一种。该显影液显影速率适中、可控性强、显影分辨率高,且显影后基板的净度高、光刻胶侧壁的垂直度好、对基板无腐蚀。