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(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN106406037A(43)申请公布日2017.02.15(21)申请号201610406739.1(22)申请日2016.06.12(30)优先权数据10-2015-00829012015.06.11KR(71)申请人易安爱富科技有限公司地址韩国首尔市江南区奉恩寺路151号(72)发明人郑玄铁李相大丁镇培(74)专利代理机构深圳市顺天达专利商标代理有限公司44217代理人蔡晓红柯夏荷(51)Int.Cl.G03F7/32(2006.01)权利要求书1页说明书7页附图3页(54)发明名称光刻胶显影液(57)摘要本发明所提供的光刻胶显影液包含特定结构的非离子性表面活性剂及碱源,其在进行显影工程时,能够维持微细图案的显影性,并且减少因化合物残留所导致的残影及气泡的产生。CN106406037ACN106406037A权利要求书1/1页1.一种光刻胶显影液,其特征在于,包含如下化学式1所表示的非离子性表面活性剂及碱源:[化学式1]在上述式中,R1及R2各自独立为氢原子,或者碳原子数为1至20的烷基,AO1及AO2各自独立为由乙烯基、氧化丙烯基及从聚氧乙烯-聚氧丙烯嵌段共聚物衍生的基团所构成的群中选择的一种以上的基团,Ar表示亚芳基,m及n各自独立为1至50的整数。2.根据权利要求1所述的光刻胶显影液,其特征在于,R1及R2各自独立为氢原子,或者碳原子数为1至6的烷基,AO1及AO2各自独立为由乙烯基、氧化丙烯基及从聚氧乙烯-聚氧丙烯嵌段共聚物衍生的基团所构成的群中选择的一种以上的基团,Ar表示取代或未取代的亚苯基,m及n各自独立为2至20的整数。3.根据权利要求1所述的光刻胶显影液,其特征在于,所述碱源包括无机碱性化合物、有机胺化合物或它们的混合物。4.根据权利要求3所述的光刻胶显影液,其特征在于,所述无机碱性化合物为从氢氧化钾、碳酸钾、碳酸氢钾、氢氧化钠、碳酸钠、碳酸氢钠、硅酸钾及硅酸钠中选择的一种以上的化合物。5.根据权利要求3所述的光刻胶显影液,其特征在于,所述有机胺化合物为从乙醇胺、二乙醇氨、三乙醇胺、1-咪唑乙醇、单异丙醇胺、1-氨基异丙醇、2-氨基-1-丙醇、N-甲基氨基乙醇、3-氨基-1-丙醇、4-氨基-1-丁醇、2-(2-氨基乙氧基)-1-乙醇(AEE)、2-(2-氨基乙基氨基)-1-乙醇、四氢呋喃、二乙烯三胺、三乙烯四胺以及四乙烯五胺中选择的一种以上的化合物。6.根据权利要求1所述的光刻胶显影液,其特征在于,以组成物总重量为基准,上述化学式1所表示的非离子性表面活性剂的含量为0.05至30重量%。7.根据权利要求1所述的光刻胶显影液,其特征在于,以组成物总重量为基准,所述碱源的含量为0.01至30重量%。8.根据权利要求1所述的光刻胶显影液,其特征在于,所述光刻胶显影液用于负性光刻胶显影工程中。2CN106406037A说明书1/7页光刻胶显影液技术领域[0001]本发明涉及光刻胶显影液(Photoresistdeveloper),更具体涉及在对负性光刻微细胶(Negativephotoresist)进行显影以构成彩色滤光片(Colorfilter)阵列等的工程中,能够提高工程性的光刻胶显影液。背景技术[0002]通常,使用于液晶显示单元等的彩色滤光片利用负性光刻胶来制造,可使用如下方法:在根据感光性树脂组成物形成图案后,对图案进行染色的方法;对形成的图案施加电压,使含有分散的颜料的组成物离子化而形成的方法;使含有热固化或光固化组成物的墨水分散而制作的方法;或者,利用分散着颜料的感光性组成物而形成图案,等等。[0003]上述这种用于形成彩色滤光片的显影处理工程中,通常使用氢氧化钾(KOH)、四甲基氢氧化铵(Tetramethylammoniumhydroxide)等碱性显影液,这种显影液在显影工程进行时,会浸透用于着色或遮光的有机颜料、无机颜料及感光性树脂成分等,并使它们溶解及分散,未被溶解的化合物的残留及再附着等导致的残渣的问题应当得以防止。[0004]为此,大韩民国公开专利第10-2004-0043620号、大韩民国公开专利第10-2005-0082810号、公开专利第10-2006-0017870号等公开了含有大量表面活性剂的显影液。然而,如上所述的现有的显影液仍然会吸附于光刻胶表面并残留,由此会造成产生液晶配向问题或像素驱动中残影等不良,并且,在溅射(spray)式工程等中,有可能产生气泡等问题,因此存在显影性被降低等问题。发明内容[0005]本发明的目的在于提供一种光刻胶显影液,其在负性光刻胶显影处理工程中,能够防止表面活性剂残留,抑制气泡产生,提高微细图案的形成性。[0006]为了实现上述目的,提供一种光刻胶显影液,其包含如下