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(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN106462055A(43)申请公布日2017.02.22(21)申请号201580020461.8(74)专利代理机构中国国际贸易促进委员会专(22)申请日2015.03.13利商标事务所11038代理人任宗华(30)优先权数据61/953,8362014.03.15US(51)Int.Cl.G03F7/00(2006.01)(85)PCT国际申请进入国家阶段日C09D153/00(2006.01)2016.10.19(86)PCT国际申请的申请数据PCT/US2015/0204172015.03.13(87)PCT国际申请的公布数据WO2015/142641EN2015.09.24(71)申请人得克萨斯大学体系董事会地址美国得克萨斯(72)发明人C·G·威尔森C·艾里森M·马赫C·贝茨D·简斯权利要求书2页说明书15页附图11页(54)发明名称有序化嵌段共聚物(57)摘要有序化嵌段共聚物的方法包括形成具有第一优先模式的第一层;和在第一层的选择区域内提供反应性试剂,所述反应性试剂改性选择区域成第二优先模式,其中该选择区域界定保留第一优先模式的第一层的其他区域,进而形成嵌段共聚物的校准层。CN106462055ACN106462055A权利要求书1/2页1.一种校准并定向嵌段共聚物的方法,该方法包括:a)提供含A嵌段和B嵌段的重复单元的嵌段共聚物,基材,和形成层的材料;b)在或者优先润湿所述嵌段共聚物的A嵌段或者为中性且没有优先润湿所述嵌段共聚物的任一嵌段的所述基材上形成第一层,所述第一层包括反应性试剂载体;c)在所述第一层的上面和相邻处形成嵌段共聚物层;d)在步骤c)之前或之后,在图案内选择性辐照所述第一层中的所述反应性试剂载体,于是辐照过的反应性试剂载体在第一层的所选区域内提供反应性试剂,以便改性所选区域的优先润湿;e)在嵌段共聚物层的上面施加顶涂层,以便生成组装件;和f)处理所述组装件,以便定向并校准该嵌段共聚物。2.权利要求1的方法,其中所述顶涂层没有优先润湿所述嵌段共聚物的任一嵌段。3.权利要求1的方法,其中步骤f)的所述处理包括热退火。4.权利要求1的方法,进一步包括处理所述第一层,使得反应性试剂扩散,进而扩大第一层中所选择区域的尺寸并减少第一层其他区域的尺寸。5.权利要求1的方法,其中它在步骤b)中形成之后,将所述反应性试剂载体引入到所述第一层内。6.权利要求1的方法,其中反应性试剂载体是光酸产生剂。7.权利要求6的方法,其中所述反应性试剂是酸。8.权利要求1的方法,其中所述反应性试剂是碱。9.一种校准并定向嵌段共聚物的方法,该方法包括:a)提供含A嵌段和B嵌段的重复单元的嵌段共聚物,基材,和形成层的材料;b)在没有优先润湿所述嵌段共聚物的任一嵌段的所述基材上形成第一层;c)在所述第一层的上面和相邻处形成嵌段共聚物层;d)在或者优先润湿所述嵌段共聚物的A嵌段或者为中性且没有优先润湿所述嵌段共聚物的任一嵌段的所述嵌段共聚物层的上面形成顶涂层,以便生成组装件,所述顶涂层包括反应性试剂载体;e)在图案中选择性辐照所述顶涂层中的所述反应性试剂载体,于是辐照过的反应性试剂载体在第一层的所选区域内提供反应性试剂,以便改性所选区域的优先润湿性;和f)处理所述组装件,以便定向并校准嵌段共聚物。10.权利要求9的方法,其中步骤f)的所述处理包括热退火。11.权利要求9的方法,其中它在步骤d)中形成之后,将所述反应性试剂载体引入到所述顶涂层内。12.权利要求9的方法,其中反应性试剂载体是光酸产生剂。13.权利要求12的方法,其中所述反应性试剂是酸。14.权利要求9的方法,其中所述反应性试剂是碱。15.权利要求9的方法,进一步包括在步骤f)之前,处理所述顶涂层,使得反应性试剂被扩散,进而扩大第一层中所选区域的尺寸并减少第一层中其他区域的尺寸。16.一种校准并定向嵌段共聚物的方法,该方法包括:a)提供A嵌段和B嵌段的重复单元的嵌段共聚物,基材,和形成层的材料;2CN106462055A权利要求书2/2页b)在或者优先润湿所述嵌段共聚物的A嵌段或者为中性且没有优先润湿所述嵌段共聚物的任一嵌段的所述基材上形成第一层,所述第一层包括反应性试剂载体;c)在所述第一层的上面和相邻处形成嵌段共聚物层;d)在或者优先润湿所述嵌段共聚物的嵌段A或者为中性且没有优先润湿所述嵌段共聚物的任一嵌段的所述嵌段共聚物层的上面形成顶涂层,以便生成组装件,所述顶涂层包括反应性试剂载体;e)在图案中选择性辐照所述第一和顶涂层中的所述反应性试剂载体,于是辐照过的反应性试剂载体在第一层和顶涂层的所选区域内提供反应性试剂,以便改性所选区域的优先润湿;和f)处理所述组装件,以便定向并校准该嵌段共聚物