二嵌段共聚物、二嵌段共聚物的制造方法和二嵌段共聚物的用途.pdf

(19)国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN115943171A(43)申请公布日2023.04.07(21)申请号202180044086.6(74)专利代理机构中国贸促会专利商标事务所(22)申请日2021.05.11有限公司11038专利代理师杜丽利(30)优先权数据2020-0896412020.05.22JP(51)Int.Cl.C08F293/00(2006.01)(85)PCT国际申请进入国家阶段日C08F290/06(2006.01)2022.12.20C09C3/10(2006.01)(86)PCT国际申请的申请数据C09C3/12(2006.01)PCT/JP2021/0178272021.05.11C09D201/00(2006.01)(87)PCT国际申请的公布数据C09D11/00(2006.01)WO2021/235266JA2021.11.25C09D7/62(2006.01)(71)申请人信越化学工业株式会社地址日本东京(72)发明人今井太郎秦龙之介权利要求书4页说明书26页(54)发明名称原子数为1～4的烷基，R7相互独立地表示为氢原二嵌段共聚物、二嵌段共聚物的制造方法和子或碳原子数为1～4的烷基，X表示为以式[I]中二嵌段共聚物的用途的A或式[II]中的B表示的基团)。(57)摘要本发明提供赋予分散性、流动性和经时稳定性优异的分散体的用于粉体的表面处理剂、和包含通过该用于粉体的表面处理剂所处理的粉体的分散体。一种二嵌段共聚物，所述二嵌段共聚物由以式[I]表示的有机硅接枝共聚物嵌段和以式[II]表示的极性共聚物嵌段构成主链，主链一端的末端结构为以式[III]表示的结构，主链另一端的末端结构为以式[IV]表示的结构。(在式中，R1表示为氢原子或甲基，A表示为含有有机聚硅氧烷的基团，n1表示为1≤n1≤50，B表示为具有极性基团的碳原子数为1～20的一价烃CN115943171A基、氨基或羟基，n2表示为1≤n2≤50，R6表示为碳CN115943171A权利要求书1/4页1.一种二嵌段共聚物，所述二嵌段共聚物由以式[I]表示的有机硅接枝共聚物嵌段和以式[II]表示的极性共聚物嵌段构成主链，主链一端的末端结构为以下述式[III]表示的结构，另一端的末端结构为以式[IV]表示的结构，其中，在式[I]中，R1为氢原子或甲基，A为以下述通式(1)表示的含有有机聚硅氧烷的基团或以下述通式(2)表示的含有有机聚硅氧烷的基团，n1表示重复单元的数、且为1≤n1≤50，以通式(1)表示的含有有机聚硅氧烷的基团具有重复单元数m为0～100的直链有机聚硅氧烷结构，在通式(1)中，Z表示为二价有机基团，R2各自独立地表示为碳原子数为1～10的饱和烃基或苯基，R3表示为碳原子数为1～10的饱和烃基，m表示为0～100的数，以通式(2)表示的含有有机聚硅氧烷的基团具有层级数c为1～10的树枝状有机聚硅氧烷结构，在通式(2)和通式(3)中，i表示为树枝状结构的各层级的编号，为从1至c的各整数，在通式(2)中，Li为以通式(3)表示的甲硅烷基有机基团，i为1，在通式(3)中，Z表示为二价有机基团，R4表示为碳原子数1～10的饱和烃基或苯基，R5各自独立地表示为碳原子数1～8的烷基或苯基，Li+1在层级i小于c(低于最上层级)时，为以通式(3)表示的甲硅烷基有机基团Li；Li+1在层级i＝c(最上层级)时，为氢原子、碳原子数为1～10的饱和烃基或苯基，2CN115943171A权利要求书2/4页ai表示为在层级i中的OR4基团的数，为0～3范围的数，在式[II]中，R1表示为氢原子或甲基，22B表示选自‑OB’、‑NH2和‑OH中的任一种基团，n表示为重复单元的数、且1≤n≤50，其中，B’表示为具有选自碳原子数1～20的聚氧化亚烷基、‑C(O)‑、‑O‑、‑S‑和‑NR‑中的1种或2种以上的二价基团的、碳原子数为1～20的一价烃基，且‑NR‑中R表示为氢原子或碳原子数为1～20的一价烃基，在式[III]中，R6表示为碳原子数为1～4的烷基，R7相互独立地表示为氢原子或碳原子数为1～4的烷基，在式[IV]中，R1为氢原子或甲基，X表示为以上述式[I]中的A或式[II]中的B所表示的基团。2.根据权利要求1所述的二嵌段共聚物，其中，在式[II]中的B为以通式(8’)或通式(9’)表示的基团，7‑O‑CH2‑CH2‑N(R)2(8')在式(8’)中，R7相互独立地表示为氢原子或碳原子数为1～4的烷基，在式(9’)中，R3表示为碳原子数为1～10的饱和烃基，n3表示重复单元的数，且为1≤n3≤10。3.根据权利要求1或权利要求2所述的二嵌段共聚物，其中，以在通式(2)和通式(3)中的Z表示的二价有机基团为碳原子数