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(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN106458588A(43)申请公布日2017.02.22(21)申请号201580028837.X(74)专利代理机构上海专利商标事务所有限公(22)申请日2015.05.28司31100代理人徐鑫项丹(30)优先权数据62/005,3672014.05.30US(51)Int.Cl.C01B25/44(2006.01)(85)PCT国际申请进入国家阶段日B02C17/02(2006.01)2016.11.30B02C17/20(2006.01)(86)PCT国际申请的申请数据B02C23/08(2006.01)PCT/US2015/0329002015.05.28(87)PCT国际申请的公布数据WO2015/184102EN2015.12.03(71)申请人康宁股份有限公司地址美国纽约州(72)发明人K·E·希尔M·J·穆塔权利要求书1页说明书6页附图5页(54)发明名称对偏磷酸铝进行球磨的方法(57)摘要制备偏磷酸铝(ALMP)微粒产品的方法包括:球磨机的研磨室装料研磨介质,以及将ALMP进料装载到研磨室中。以0.25-0.5的颗粒降低指数,用研磨介质将ALMP进料研磨成ALMP颗粒。在进行研磨时间段期间的多个时间阶段,从研磨室去除ALMP颗粒的细部分,同时使得ALMP颗粒的粗部分仍然留在研磨室内进行额外研磨。从由研磨室取出的ALMP颗粒制备具有中值粒度为100-700μm的粒度分布的ALMP微粒产品。CN106458588ACN106458588A权利要求书1/1页1.一种制备偏磷酸铝微粒产品的方法,所述方法包括:用研磨介质对球磨机的研磨室进行装料;将偏磷酸铝进料负载到所述研磨室中;以0.25-0.5的颗粒降低指数,用所述研磨介质将所述偏磷酸铝进料研磨成偏磷酸铝颗粒;在进行研磨时间段期间的多个时间阶段,从所述研磨室去除所述偏磷酸铝颗粒的细部分,同时使得所述偏磷酸铝颗粒的粗部分仍然留在所述研磨室内进行额外研磨;以及从由所述研磨室取出的所述偏磷酸铝颗粒制备具有中值粒度为100-700μm的粒度分布的偏磷酸铝微粒产品。2.如权利要求1所述的方法,其特征在于,用研磨介质对所述研磨室进行装料包括选择由陶瓷材料制造的研磨介质。3.如权利要求2所述的方法,其特征在于,选择由陶瓷材料制造的研磨介质包括选择由氧化铝制造的研磨介质。4.如权利要求2所述的方法,其特征在于,对所述研磨室进行装料包括选择衬有陶瓷材料的研磨室。5.如权利要求4所述的方法,其特征在于,选择衬有陶瓷材料的研磨室包括选择衬有氧化铝的研磨室。6.如权利要求1所述的方法,其特征在于,所述偏磷酸铝颗粒的细部分包括100-700μm的粒度。7.如权利要求1所述的方法,其特征在于,所述偏磷酸铝微粒产品具有中值粒度大于100μm的粒度分布。8.如权利要求1所述的方法,其特征在于,所述偏磷酸铝进料的团聚体粒度为0.1-5.0mm。9.如权利要求1所述的方法,其特征在于,在所述多个时间阶段去除所述细部分,而不暂停对所述偏磷酸铝进料的研磨。10.如权利要求1所述的方法,其特征在于,所述偏磷酸铝微粒产品的粒度分布具有400-700μm的中值粒度。11.如权利要求10所述的方法,其特征在于,所述研磨介质包括多个单独球体,每个球的尺寸是所述偏磷酸铝进料中的最大颗粒的10-15倍。12.如权利要求10所述的方法,其特征在于,在研磨过程中,输入到所述球磨机的输入比能是0.5-2kWh/吨。2CN106458588A说明书1/6页对偏磷酸铝进行球磨的方法[0001]相关申请的交叉参考[0002]本申请要求2014年5月30日提交的美国临时申请第61/005367号的优先权,其全文通过引用结合入本文。技术领域[0003]本申请的技术领域一般地涉及粉碎方法,具体地,涉及制备用于给定粒度分布的耐火材料微粒产品。技术背景[0004]偏磷酸铝(ALMP)(Al(PO3)3)生产作为煅烧产物,其团聚粒度为0.1mm至大于5mm。图1显示刚煅烧的ALMP粒度的例子。一旦经过煅烧,ALMP是具有颗粒硬度(高至约10GPa)的耐火材料。在将经煅烧的ALMP用于玻璃批料之前,通过粉碎方法,采用颗粒破裂机制(例如,压碎、冲击和研磨)使得ALMP经受粒度降低。[0005]目前在研磨金属筒中进行ALMP的冲击研磨,在筒内具有环和/或转子刀片用于压碎颗粒。但是,由于经煅烧的ALMP的耐火特性,在研磨操作过程中,环和/或转子刀片发生磨损,导致最终的ALMP微粒产品中的金属(主要是铁)污染。对于玻璃生产而言,最终的ALMP微粒产品中的铁污染对于最终玻璃产品的性能属性是不利的。通常采用磁分离作为后期解决方案步骤,从经研磨的产品去除金属污染物。[0006]