一种彩膜基板及其制备方法、显示装置.pdf

(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN106773259A(43)申请公布日2017.05.31(21)申请号201710002473.9(22)申请日2017.01.03(71)申请人京东方科技集团股份有限公司地址100015北京市朝阳区酒仙桥路10号申请人合肥鑫晟光电科技有限公司(72)发明人蒋松阳江亮亮戴珂尹傛俊(74)专利代理机构北京中博世达专利商标代理有限公司11274代理人申健(51)Int.Cl.G02F1/1335(2006.01)G02F1/1339(2006.01)权利要求书2页说明书7页附图5页(54)发明名称一种彩膜基板及其制备方法、显示装置(57)摘要本发明实施例提供了一种彩膜基板及其制备方法、显示装置，涉及显示技术领域，可在不增加构图工艺次数的基础上，获得具有较好平坦度的彩膜基板，保证了对合后液晶显示装置的画面显示品质。该方法包括，在衬底基板上形成分别位于第一子像素区域、第二子像素区域、第三子像素区域的第一色阻、第二色阻、第三色阻的步骤；其中，第一色阻、第二色阻和第三色阻具有第一厚度；形成覆盖衬底基板上方的保护层；形成覆盖保护层的透明绝缘层；其中，透明绝缘层的厚度大于第一厚度；对透明绝缘层进行一次构图工艺处理，在保护层上形成隔垫物和隔垫物材料保留部；其中，隔垫物材料保留部位于第四子像素区域，且隔垫物材料保留部的厚度等于第一厚度。CN106773259ACN106773259A权利要求书1/2页1.一种彩膜基板的制备方法，所述彩膜基板划分有多个第一子像素区域、第二子像素区域、第三子像素区域和第四子像素区域；所述制备方法包括，在衬底基板上形成分别位于所述第一子像素区域、所述第二子像素区域、所述第三子像素区域的第一色阻、第二色阻、第三色阻的步骤；其中，所述第一色阻、所述第二色阻和所述第三色阻具有第一厚度；形成覆盖所述衬底基板上方的保护层；其特征在于，所述制备方法还包括，形成覆盖所述保护层的透明绝缘层；其中，所述透明绝缘层的厚度大于所述第一厚度；对所述透明绝缘层进行一次构图工艺处理，在所述保护层上形成隔垫物和隔垫物材料保留部；其中，所述隔垫物材料保留部位于所述第四子像素区域，且所述隔垫物材料保留部的厚度等于所述第一厚度。2.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述透明绝缘层由光刻胶材料构成；所述对所述透明绝缘层进行一次构图工艺处理，在所述保护层上形成隔垫物和隔垫物材料保留部；其中，所述隔垫物材料保留部位于所述第四子像素区域，且所述隔垫物材料保留部的厚度等于所述第一厚度，包括，采用灰色调掩膜板或半色调掩膜板对所述透明绝缘层进行曝光、显影，形成完全保留部、部分保留部和完全去除区域；其中，所述完全保留部形成隔垫物；所述部分保留部形成位于所述第四子像素区域的隔垫物材料保留部，且所述部分保留部的厚度等于所述第一厚度；所述完全去除区域对应于所述透明绝缘层上的其他区域。3.根据权利要求2所述的制备方法，其特征在于，所述灰色调掩膜板或所述半色调掩膜板中对应于待形成的隔垫物材料保留部的部分透过区域的遮光度根据待形成的所述隔垫物材料保留部的第一厚度与所述透明绝缘层的厚度的比值选取。4.根据权利要求2所述的制备方法，其特征在于，所述采用灰色调掩膜板或半色调掩膜板对所述透明绝缘层进行曝光、显影，形成完全保留部、部分保留部和完全去除区域，包括，根据待形成的部分保留部的厚度选择曝光强度和曝光时间，以形成厚度等于所述第一厚度的部分保留部。5.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述在衬底基板上形成分别对应于所述第一子像素区域、所述第二子像素区域、所述第三子像素区域的第一色阻、第二色阻、第三色阻的步骤之前，所述制备方法还包括，在衬底基板上形成黑矩阵的步骤；所述黑矩阵的开口区域限定出所述第一子像素区域、所述第二子像素区域、所述第三子像素区域和所述第四子像素区域。6.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述第一色阻为红色色阻，所述第二色阻为绿色色阻，所述第三色阻为蓝色色阻。7.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述在衬底基板上形成分别对应于所述第一子像素区域、所述第二子像素区域、所述第三子像素区域的第一色阻、第二色阻、第三色阻的步骤之前，所述制备方法还包括，在衬底基板远离所述保护层的一侧形成透明静电屏蔽层的步骤。8.一种彩膜基板，所述彩膜基板划分有多个第一子像素区域、第二子像素区域、第三子像素区域和第四子像素区域；所述彩膜基板包括，设置在衬底基板上的分别位于所述第一子像素区域、所述第二子像素区域、所述第三子像素区域的第一色阻、第二色阻、第三色阻；其中，所述第一色阻、所述第二色阻和所述第三色阻具有第一厚度；覆盖所述衬底基板上方2CN106773259A权利要求书2/2页的保护层；