彩膜基板及其制备方法、显示面板.pdf

(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN108873453A(43)申请公布日2018.11.23(21)申请号201810688010.7(22)申请日2018.06.28(71)申请人武汉华星光电技术有限公司地址430070湖北省武汉市东湖开发区高新大道666号生物城C5栋(72)发明人聂晓辉(74)专利代理机构深圳市威世博知识产权代理事务所(普通合伙)44280代理人钟子敏(51)Int.Cl.G02F1/1335(2006.01)权利要求书1页说明书4页附图1页(54)发明名称彩膜基板及其制备方法、显示面板(57)摘要本申请公开了一种彩膜基板及其制备方法、显示面板，该彩膜基板的制备方法包括：提供衬底基板；在衬底基板上依次形成遮光层、色阻块、覆盖层、离子吸收层；待离子吸收层充分吸收遮光层、色阻块、覆盖层中的至少一种离子杂质后，去除掉离子吸收层。通过离子吸收层能充分吸收遮光层、色阻块、覆盖层中的离子杂质，充分吸收后再将该离子吸收层去除掉，从而能降低彩膜基板中离子杂质的浓度，进而降低画面残留的发生，提高显示质量。CN108873453ACN108873453A权利要求书1/1页1.一种彩膜基板的制备方法，其特征在于，所述制备方法包括：提供衬底基板；在所述衬底基板上依次形成遮光层、色阻块、覆盖层、离子吸收层；待所述离子吸收层充分吸收所述遮光层、所述色阻块、所述覆盖层中的至少一种离子杂质后，去除掉所述离子吸收层。2.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述在所述衬底基板上依次形成遮光层、色阻块、覆盖层、离子吸收层的步骤包括：在所述衬底基板上依次形成遮光层、色阻块、覆盖层；通过涂布机在所述覆盖层上涂布一层厚度为2微米～2.5微米的离子吸收层。3.根据权利要求2所述的制备方法，其特征在于，所述离子吸收层为冠醚和/或冠醚衍生物层，所述冠醚分子中含有多个-OCH2CH2-结构单元。4.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述待所述离子吸收层充分吸收所述遮光层、所述色阻块、所述覆盖层中的至少一种离子杂质后，去除掉所述离子吸收层的步骤包括：对含有所述离子吸收层的所述衬底基板在70摄氏度～90摄氏度的环境中进行烘烤，使所述离子吸收层充分吸收所述遮光层、所述色阻块、所述覆盖层中的至少一种所述离子杂质；充分吸收所述离子杂质后，通过清洗液进行清洗的方式将所述离子吸收层去除掉。5.根据权利要求4所述的制备方法，其特征在于，所述对所述离子吸收层在70摄氏度～90摄氏度的环境中进行烘烤的步骤包括：将涂布有离子吸收层的所述衬底基板放入恒温箱中，并将所述恒温箱的温度设置为70摄氏度～90摄氏度；对涂布有离子吸收层的所述衬底基板持续进行烘烤8分钟～12分钟。6.根据权利要求4所述的制备方法，其特征在于，所述通过清洗液进行清洗的方式将所述离子吸收层去除掉的步骤包括：通过异丙醇对所述离子吸收层进行清洗4分钟～6分钟。7.根据权利要求6所述的制备方法，其特征在于，所述通过异丙醇对所述离子吸收层进行清洗4分钟～6分钟的步骤之后还包括：对所述衬底基板进行干燥处理；在所述覆盖层上形成配向膜层。8.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述覆盖层的材质为有机光阻。9.一种彩膜基板，其特征在于，所述彩膜基板为根据权利要求1～8任一项所述的方法制成的彩膜基板。10.一种显示面板，其特征在于，所述显示面板包括如权利要求9所述的彩膜基板。2CN108873453A说明书1/4页彩膜基板及其制备方法、显示面板技术领域[0001]本申请涉及显示技术领域，特别是涉及一种彩膜基板及其制备方法、显示面板。背景技术[0002]显示面板的画面残留指的是长时间显示同一静止画面，当切换成其他画面时，此前的画面仍残留显示的一种现象。[0003]本申请的发明人在长期研发中发现，造成画面残留的两个必要因素：一是驱动上存在直流偏置电压；二是显示屏内存在离子型杂质。由于像素结构、工艺技术等的原因，在像素区会出现交流驱动不对称的区域，偏离对称中心的那部分电压形成直流偏置电压。由于屏内离子型杂质的存在，直流偏置会吸引屏内离子型杂质，导致交流驱动不对称的地方形成残留直流偏置。如此，当画面切换后，由于残留直流偏置的作用，液晶分子不能按照设计要求排列，导致此前画面出现残留。画面残留导致新画面出现重影，从而对比度下降，图像模糊。[0004]本申请的发明人进一步发现，彩膜基板中的覆盖层(OverCoater)、黑色矩阵(BlackMatrix)、色阻层(RGB)都含有树脂成分，极易引入离子型杂质。且，面内开关(In-PlaneSwitching)和边缘电场开关(FringeFieldSwitching)型液晶显示面板彩膜基板侧没有设置屏蔽有机层离子杂质进入液晶层的ITO