显影工艺中的玻璃基板的水洗装置及方法.pdf

(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN107015444A(43)申请公布日2017.08.04(21)申请号201710259909.2(22)申请日2017.04.20(71)申请人武汉华星光电技术有限公司地址430070湖北省武汉市东湖开发区高新大道666号生物城C5栋(72)发明人吴利峰(74)专利代理机构北京聿宏知识产权代理有限公司11372代理人吴大建何娇(51)Int.Cl.G03F7/30(2006.01)权利要求书1页说明书4页附图1页(54)发明名称显影工艺中的玻璃基板的水洗装置及方法(57)摘要本发明提供一种显影工艺中的玻璃基板的水洗装置及方法，其中所述装置包括水洗腔体，所述水洗腔体的内部上方设置有多个水洗喷嘴；托盘平台，所述托盘平台用于承载待水洗的玻璃基板并对玻璃基板进行限位；以及摆动机构，所述摆动机构设置于所述水洗腔体的内部并用于驱动所述托盘平台进行摆动。本发明的水洗搬送方式与传统水洗方式不同，在水洗过程中，通过搬送轴上的托盘承载基板，托盘左右摇摆来使整个玻璃基板在一定角度随同摆动，玻璃基板与干净的纯水充分接触清洗玻璃基板上面的残留异物，从而异物清洗不充分的现象得到了有效的限制，同时这种处理方式还能够纯水的消耗，降低了水洗的工艺时间，提升了产线的生产效率。CN107015444ACN107015444A权利要求书1/1页1.一种显影工艺中的玻璃基板的水洗装置，其特征在于，包括：水洗腔体，所述水洗腔体的内部上方设置有多个水洗喷嘴；托盘平台，所述托盘平台用于承载待水洗的玻璃基板并对玻璃基板进行限位；以及摆动机构，所述摆动机构设置于所述水洗腔体的内部并用于驱动所述托盘平台进行摆动。2.根据权利要求1所述的显影工艺中的玻璃基板的水洗装置，其特征在于，所述摆动机构包括圆形导轨以及伺服马达，所述伺服马达分别连接于所述圆形导轨的两端并用于驱动圆形导轨进行旋转，所述托盘平台的下方设有连接件，所述连接件能够与所述圆形导轨的圆周表面进行可拆卸地连接。3.根据权利要求2所述的显影工艺中的玻璃基板的水洗装置，其特征在于，所述圆形导轨的下方位于摆动槽内，并且圆形导轨与摆动槽之间设有滚珠或滚柱。4.根据权利要求3所述的显影工艺中的玻璃基板的水洗装置，其特征在于，所述摆动槽的下方设有支撑架，所述支撑架的下方与蜗杆式驱动装置通过螺纹连接，所述蜗杆式驱动装置由另外的伺服马达驱动。5.根据权利要求2至4中任一项所述的显影工艺中的玻璃基板的水洗装置，其特征在于，所述伺服马达由PLC程序进行控制。6.根据权利要求2至4中任一项所述的显影工艺中的玻璃基板的水洗装置，其特征在于，所述托盘平台的旋转范围在-60到60度之间。7.根据权利要求1至4中任一项所述的显影工艺中的玻璃基板的水洗装置，其特征在于，所述水洗喷嘴的排列方式包括呈矩阵式排列、呈圆环形排列、呈Z字形排列或呈米字形排列。8.根据权利要求1至4中任一项所述的显影工艺中的玻璃基板的水洗装置，其特征在于，所述水洗腔体内的玻璃基板的下方设置有水洗液回收装置。9.根据权利要求1至4中任一项所述的显影工艺中的玻璃基板的水洗装置，其特征在于，所述托盘平台与玻璃基板接触的表面采用聚四氟乙烯材料制成。10.一种采用权利要求1至9中任一项所述的显影工艺中的玻璃基板的水洗装置实施的水洗方法，其特征在于，具有以下步骤：一、将待水洗的玻璃基板放置于托盘平台上，并且玻璃基板由托盘平台上进行限位；二、将托盘平台连同玻璃基板运送至水洗腔体中；三、开启水洗喷嘴，对玻璃基板进行喷淋，同时启动摆动机构，使托盘平台带动玻璃基板进行摆动，同时所述托盘平台在所述水洗腔体内做线性移动；四、水洗完成后，将托盘平台连同玻璃基板运送出水洗腔体，并依次重复步骤一～步骤三。2CN107015444A说明书1/4页显影工艺中的玻璃基板的水洗装置及方法技术领域[0001]本发明涉及显影工艺的制程，特别涉及一种显影工艺中的玻璃基板的水洗装置及方法。背景技术[0002]在薄膜晶体管-液晶显示器(thinfilmtransistor-liquidcrystaldisplay，简称TFT-LCD)的彩色滤光片(CF)显影工艺中，未经过曝光后的有机光刻胶和显影液反应后被冲洗掉，曝光的光刻胶固化留下掩膜(mask)上工艺制程所需的图案，在显影之后的玻璃基板往往还需要进行清洗，以便去除显影后的药液残留和异物(particle)，如果清洗工艺出现问题的话，会直接导致各类微观和宏观缺陷的产生，影响整张玻璃基板的良品率。[0003]随着高精细低温多晶硅技术(LowTemperaturePoly-silicon，简称LTPS)等技术的发展，产品微观缺陷的控制要求越来越严格，影响微观缺陷的最重要的一个环节就是显影后的水洗工艺，