一种用于KDP晶体的含水有机清洗液.pdf
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一种用于KDP晶体的含水有机清洗液.pdf
本发明公开了一种用于KDP晶体的含水有机清洗液。该清洗液包括去离子水、有机溶剂和表面活性剂。本发明的用于KDP晶体的含水有机清洗液,利用KDP易溶于水这一理化特性,在清洗液中加入去离子水作为该清洗液的活性物质,通过控制清洗液中水的存在形式、含量来控制其与KDP元件表面的作用效率,能达到去除其表面污染物而不损害表面质量的目的。本发明的用于KDP晶体的含水有机清洗液性质稳定,采用去离子水作为活性成分不会在KDP晶体表面产生新的杂质;通过可控的潮解作用,能有效去除磁流变抛光加工后表面残留的基液和固体颗粒,提高K
一种用于KDP晶体的抛光液.pdf
本发明提供了一种用于磷酸二氢钾(KDP)晶体的抛光液,所述抛光液由油相、表面活性剂和KDP水溶液组成,是一种特殊的油包水微乳液。在表面活性剂的作用下,一定浓度的KDP水溶液作为分散相以纳米级液滴的形式被分散在油相中。在抛光过程中由于挤压力和摩擦应力,KDP水溶液液滴突破表面活性剂和油相分子组成的界面膜,到达KDP晶体表面,并与表面的凸起部位发生缓释潮解作用;通过改变KDP水溶液的浓度,对潮解作用进行调控,最终可以实现KDP晶体表面的精密去除;抛光过程不产生新的物质且表面残留为有机物,通过相匹配的有机溶剂清
用于KDP类晶体的油浴退火炉.pdf
一种用于KDP类晶体的油浴退火炉,包括保温筒、保温盖,在保温筒内设有内筒,在保温筒的内壁上安装有加热器,在内筒内设有晶体支撑板,还包括搅拌叶轮和固定在所述的保温盖上的搅拌电机,该搅拌叶轮由搅拌电机带动,在加热器的内壁与内筒的外壁之间布置有侧壁油道和多孔筛环,保温筒的底部上表面和内筒的底部下表面之间布置有底部油道,内筒底部上表面的中心与出油管的进油端相连,出油管的出油端与油泵的进口连接,在出油管旁边安装进油管,进油管的进油端与油泵的出口相连,进油管的出油端位于保温筒的底部上表面、连通所述的底部油道。本发明具
一种KDP倍频晶体结构.pdf
本发明公开一种KDP倍频晶体结构,包括晶体固定结构、KDP晶体、π偏振管和σ偏振管;中心波长800nm的π偏振光,经过π偏振管,进入KDP晶体,由KDP晶体将中心波长800nm的π偏振光倍频为中心波长400nm的σ偏振光,最后从σ偏振管输出。π偏振管和σ偏振管的封闭端斜面均采用布儒斯特角设计,KDP晶体置于由π偏振管、σ偏振管和晶体固定结构围合形成的真空密闭管腔中,省去了晶体镀膜烦杂的程序,也避免了KDP晶体在空气中潮解,克服了现有晶体KDP镀膜层易受高强度基频光损伤,从而造成晶体使用寿命短,镀膜难度增加
一种用于KDP晶体的抛光液及其制备方法、应用.pdf
本发明公开了一种用于KDP晶体的抛光液及其制备方法、应用,所述抛光液由以下体积百分比组分组成:极性相:1~10%;非极性相:30%~55%;余量为双溶剂相。本发明的抛光液制备方法简单、性质稳定,在较低的抛光压力下(1~2.5kPa)即可实现飞切刀纹的有效去除,避免了较高的抛光压力可能带来亚表面损伤等问题,且抛光后表面粗糙度得到一定程度的改善。抛光液成分为常用有机试剂且不与KDP发生化学反应,抛光液不使用两亲性表面活性剂,抛光后只需要采用抛光液的组分之一(双溶剂相)进行简单的表面冲洗,即可实现表面清洁,不会