用于KDP类晶体的油浴退火炉.pdf

(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN107475776A(43)申请公布日2017.12.15(21)申请号201710576931.X(22)申请日2017.07.14(71)申请人中国科学院上海光学精密机械研究所地址201800上海市嘉定区清河路390号申请人杭州锐研科技有限公司(72)发明人齐红基陈端阳邵建达谢晓义王琤王明明高杰赵波张辉郑丽丽(74)专利代理机构上海恒慧知识产权代理事务所(特殊普通合伙)31317代理人张宁展(51)Int.Cl.C30B33/02(2006.01)C30B29/14(2006.01)权利要求书1页说明书3页附图1页(54)发明名称用于KDP类晶体的油浴退火炉(57)摘要一种用于KDP类晶体的油浴退火炉，包括保温筒、保温盖，在保温筒内设有内筒，在保温筒的内壁上安装有加热器，在内筒内设有晶体支撑板，还包括搅拌叶轮和固定在所述的保温盖上的搅拌电机，该搅拌叶轮由搅拌电机带动，在加热器的内壁与内筒的外壁之间布置有侧壁油道和多孔筛环，保温筒的底部上表面和内筒的底部下表面之间布置有底部油道，内筒底部上表面的中心与出油管的进油端相连，出油管的出油端与油泵的进口连接，在出油管旁边安装进油管，进油管的进油端与油泵的出口相连，进油管的出油端位于保温筒的底部上表面、连通所述的底部油道。本发明具有很高的温度均匀性，试验结果表明，待退火的晶体附近的温度均匀性在±0.05℃以内，可以为提升KDP类晶体的退火温度、达到较为理想的退火效果提供有力的保障。CN107475776ACN107475776A权利要求书1/1页1.一种用于KDP类晶体的油浴退火炉，包括保温筒(1)、保温盖(2)、位于该保温筒(1)外的防护罩(3)和支撑架(4)，在所述的保温筒(1)内设有内筒(5)，在该内筒(5)的内部设有晶体支撑板(6)和支撑板支座(7)，在所述的保温筒(1)的内壁上安装有加热器(8)，其特征在于，还包括搅拌叶轮(17)和固定在所述的保温盖(2)上的搅拌电机(18)，该搅拌叶轮(17)由搅拌电机(18)带动，进而在所述的保温筒(1)内晶体支撑板(6)上方产生高温度均匀性的温度场。2.根据权利要求1所述的用于KDP类晶体的油浴退火炉，其特征在于，所述的加热器(8)的内壁与内筒(5)的外壁之间布置有侧壁油道(9)和多孔筛环(10)，所述的侧壁油道(9)由一系列上下分布的水平圆环组成，在每个水平圆环上均设有开口，且上下相邻的两个水平圆环的开口相互交错，所述的多孔筛环(10)水平设置在所述的侧壁油道(9)的上方，该多孔筛环(10)上均匀分布有通孔，所述的保温筒(1)的底部上表面和内筒(5)的底部下表面之间布置有底部油道(11)，该底部油道(11)由一系列不同半径的圆环相互嵌套而成，每个圆环上均设有开口，且相邻的两个圆环的开口相互交错，所述的内筒(5)底部上表面的中心与出油管(12)的进油端相连，该出油管(12)的出油端与油泵(13)的进口连接，该油泵(13)位于所述的保温筒(1)的外部，在所述的出油管(12)旁边安装进油管(14)，该进油管(14)的出油端位于保温筒(1)的底部上表面、连通所述的底部油道(11)，所述的进油管(14)的进油端与油泵(13)的出口相连。3.根据权利要求1-2所述的用于KDP类晶体的油浴退火炉，其特征在于，所述的晶体支撑板(6)上设有定位螺孔，待退火的晶体通过定位螺栓和所述的定位螺孔被固定在晶体支撑板(6)上，所述的支撑板支座(7)固定在所述的底部油道(11)的上表面上。4.根据权利要求1-2所述的用于KDP类晶体的油浴退火炉，其特征在于，所述的保温盖(2)下部安装有密封圈(15)，在该保温盖(2)上还设有安全阀(16)。2CN107475776A说明书1/3页用于KDP类晶体的油浴退火炉技术领域[0001]本发明涉及光学晶体的退火，具体涉及一种用于KDP类晶体的油浴退火炉。背景技术[0002]目前，各国的ICF装置都需要大量高质量、大口径的KDP类晶体。退火有利于KDP类晶体光学质量的提升，但由于KDP类晶体的相变点低，要想达到较为理想的退火效果，需要精确控制退火温度及其均匀性，尽可能提升晶体的退火温度。申请号CN201510594258.3、公开号CN106544478A的发明专利包括炉壳、炉膛、炉门、发热元件、测温热电偶和智能控温器，炉壳和炉膛之间填有隔热保温层，所述发热元件绕于所述炉膛四壁内，这种离散分布的测温点测得的温度数据不能很好的放映整个炉膛、特别是待退火的工件附近的温度场的分布，所以用智能温控器根据离散分布的测温点测得的温度数据来调节温度，并无法保证其退火工件附近的温度均匀性。发明内容[0003]为提升KDP类晶体的退火温度，本发明提供一种用于KDP类