一种光学真空镀膜机内腔清洁方法.pdf

(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN108517494A(43)申请公布日2018.09.11(21)申请号201810495558.X(22)申请日2018.05.22(71)申请人桑尼光电技术（安徽）有限公司地址243000安徽省马鞍山市雨山区郑蒲港新区联合路成都机械电子创业园5#厂房(72)发明人柳一民王静辉(74)专利代理机构合肥顺超知识产权代理事务所(特殊普通合伙)34120代理人黄晶晶(51)Int.Cl.C23C14/22(2006.01)C23G1/02(2006.01)B08B1/00(2006.01)权利要求书1页说明书3页(54)发明名称一种光学真空镀膜机内腔清洁方法(57)摘要本发明提供一种光学真空镀膜机内腔清洁方法，涉及光学元件真空镀膜领域，清洁方法如下：用钢丝刷清除光学真空镀膜机内腔及夹具上的残留镀膜，使用腐蚀剂对光学真空镀膜机内腔及夹具冲刷30-40min，持续用去离子水一次冲洗10-20min后，在去离子水中通入惰性气体，升温后继续二次冲洗40-50min，将夹具放入超声波机器中，升温后震荡清洗10-20min，待光学真空镀膜机内腔及夹具通过流动的热风蒸发干燥后重新安装回系统内，结束清洗工作，本发明通过物理方法与化学方法的双重结合，实现对光学真空镀膜机内腔及其夹具上残留镀膜的充分清除，提高光学真空镀膜机的使用寿命。CN108517494ACN108517494A权利要求书1/1页1.一种光学真空镀膜机内腔清洁方法，其特征在于，包括以下步骤：(1)用钢丝刷清除光学真空镀膜机内腔及夹具上的残留镀膜；(2)使用腐蚀剂对光学真空镀膜机内腔及夹具冲刷30-40min；(3)持续用去离子水一次冲洗10-20min后，在去离子水中通入惰性气体，升温后继续二次冲洗40-50min；(4)将夹具放入超声波机器中，升温后震荡清洗10-20min；(5)待光学真空镀膜机内腔及夹具通过流动的热风蒸发干燥后重新安装回系统内，结束清洗工作。2.如权利要求1所述的光学真空镀膜机内腔清洁方法，其特征在于，步骤(2)中所述腐蚀剂为磷酸稀释液、硝酸稀释液中的任意一种。3.如权利要求1所述的光学真空镀膜机内腔清洁方法，其特征在于，步骤(3)所述惰性气体为氮气。4.如权利要求1所述的光学真空镀膜机内腔清洁方法，其特征在于，步骤(3)中所述升温为升高温度至30-40℃。5.如权利要求1所述的光学真空镀膜机内腔清洁方法，其特征在于，步骤(5)中所述升温为升高温度至40-50℃。6.如权利要求1所述的光学真空镀膜机内腔清洁方法，其特征在于，步骤(5)中所述热风的温度为100-120℃。2CN108517494A说明书1/3页一种光学真空镀膜机内腔清洁方法技术领域[0001]本发明涉及光学元件真空镀膜领域，具体涉及一种光学真空镀膜机内腔清洁方法。背景技术[0002]光学镀膜是指在光学零件表面上镀上一层(或多层)金属(或介质)薄膜的工艺过程。在光学零件表面镀膜的目的是为了达到减少或增加光的反射、分束、分色、滤光、偏振等要求。常用的镀膜法有真空镀膜(物理镀膜的一种)和化学镀膜，其中真空镀膜是指在高真空的条件下加热金属或非金属材料，使其蒸发并凝结于镀件(金属、半导体或绝缘体)表面而形成薄膜的一种方法。[0003]然而现实生活中，在进行真空镀膜时，真空镀膜设备内表面上会受到溅射物或者蒸涂物的污染，它们冷凝在光学真空镀膜机的内腔或夹具上，并在与空气接触时发生反应，形成污染物质。发明内容[0004](一)解决的技术问题[0005]针对现有技术的不足，本发明提供了一种光学真空镀膜机内腔清洁方法，通过物理方法与化学方法的双重结合，实现对光学真空镀膜机内腔及其夹具上残留镀膜的充分清除，提高光学真空镀膜机的使用寿命。[0006](二)技术方案[0007]为实现以上目的，本发明通过以下技术方案予以实现：[0008]一种光学真空镀膜机内腔清洁方法，包括以下步骤：[0009](1)用钢丝刷清除光学真空镀膜机内腔及夹具上的残留镀膜；[0010](2)使用腐蚀剂对光学真空镀膜机内腔及夹具冲刷30-40min；[0011](3)持续用去离子水一次冲洗10-20min后，在去离子水中通入惰性气体，升温后继续二次冲洗40-50min；[0012](4)将夹具放入超声波机器中，升温后震荡清洗10-20min；[0013](5)待光学真空镀膜机内腔及夹具通过流动的热风蒸发干燥后重新安装回系统内，结束清洗工作。[0014]优选地，步骤(2)中所述腐蚀剂为磷酸稀释液、硝酸稀释液中的任意一种。[0015]优选地，步骤(3)所述惰性气体为氮气。[0016]优选地，步骤(3)中所述升温为升高温度至30-40℃。[0017]优选地，步骤(5)中所述升温