在玻璃基材上选择性地蚀刻层或层堆叠体的方法.pdf

(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN108698921A(43)申请公布日2018.10.23(21)申请号201780013221.4(74)专利代理机构中国专利代理(香港)有限公司720(22)申请日2017.02.2301代理人黄念(30)优先权数据16516292016.02.26FR(51)Int.Cl.C03C17/36(2006.01)(85)PCT国际申请进入国家阶段日2018.08.24(86)PCT国际申请的申请数据PCT/FR2017/0504052017.02.23(87)PCT国际申请的公布数据WO2017/144823FR2017.08.31(71)申请人法国圣戈班玻璃厂地址法国库伯瓦(72)发明人B.布鲁迪厄V.拉谢F.吉耶莫N.纳多权利要求书2页说明书5页附图1页(54)发明名称在玻璃基材上选择性地蚀刻层或层堆叠体的方法(57)摘要本发明涉及用于在玻璃基材上沉积一个或多个无机功能层的方法，它包括以下步骤：-根据图案在基材上在其表面一部分但不是全部上沉积有机涂层，-在如此涂覆的基材上沉积一个或多个无机功能层，-使该整体经受热处理，以使有机涂层燃烧，然后-通过用布擦拭和/或通过气流和/或通过洗涤来除去所述涂层和覆盖它的无机功能层，使得保留的无机功能层堆叠体排列成图案，该图案对应于用有机涂层产生的图案的负片。本发明还涉及该方法的中间产品，和该获得的玻璃允许射频穿过它的用途。CN108698921ACN108698921A权利要求书1/2页1.一种在玻璃基材上沉积基本上无机的功能层或基本上无机的功能层堆叠体的方法，其特征在于它包括以下步骤：-根据图案在基材上在其表面一部分但不是全部上沉积基本上有机的涂层，-在如此涂覆的基材上沉积基本上无机的功能层或基本上无机的功能层堆叠体，-使该整体经受热处理，以使基本上有机的涂层燃烧，然后-通过擦拭如用布擦拭和/或通过气流和/或通过洗涤来除去基本上有机的涂层和覆盖它的基本上无机的功能层或基本上无机的功能层堆叠体，以便获得按照图案的基本上无机的功能层或基本上无机的功能层堆叠体，该图案对应于用基本上有机的涂层产生的图案的负片。2.如权利要求1所述的方法，其特征在于，基本上有机的涂层的根据图案的沉积通过液体途径方法、直接或间接雕刻辊方法，如胶版印刷，苯胺橡皮版印刷，通过喷墨印刷方法，通过掩模方法，平版印刷或丝网印刷进行实施。3.如权利要求2所述的方法，其特征在于，所述基本上有机的涂层选自丙烯酸酯单体和/或低聚物，环氧丙烯酸酯单体和/或低聚物，聚酯丙烯酸酯单体和/或低聚物，聚氨酯丙烯酸酯单体和/或低聚物，聚乙烯吡咯烷酮+EDTA组合物，聚酰胺，聚乙烯醇缩丁醛，重氮萘醌-酚醛清漆类型正性光敏性树脂，在红外或紫外辐射下交联的任何有机材料，单独的或为它们中多种的混合物形式。4.如前述权利要求中任一项所述的方法，其特征在于，所述基本上有机的涂层具有至多等于30μm，并且按优选级递增的顺序，至多等于20μm和至多等于10μm，特别优选约为5μm的厚度。5.如前述权利要求中任一项所述的方法，其特征在于，在沉积基本上无机的功能层或基本上无机的功能层堆叠体之前，基本上有机的涂层的制备包括通过热处理和/或在辐射如紫外线下和/或通过干燥进行交联，然后洗涤该整体。6.如前述权利要求中任一项所述的方法，其特征在于，基本上无机的功能层或基本上无机的功能层堆叠体通过真空物理气相沉积法(PVD)如阴极溅射，特别是磁控管增强阴极溅射，蒸发或等离子体增强化学气相沉积(PECVD)，或通过湿法形成。7.如权利要求6所述的方法，其特征在于，基本上无机的功能层或基本上无机的功能层堆叠体由以下组成：Ag，透明导电氧化物(TCO)，如锡掺杂的氧化铟(ITO)，锌掺杂的氧化铟(IZO)，ZnO:Al，Ga，锡酸镉，Al，Nb，Cu，Au，Si和N的化合物，如Si3N4，相关的介电堆叠体，单独的或它们中多种的组合。8.如前述权利要求中任一项所述的方法，其特征在于，所述热处理形成所述玻璃基材的热淬火的一部分。9.如前述权利要求任一项所述的方法，其特征在于，热处理形成玻璃基材的弯曲操作的一部分。10.如权利要求9所述的方法，其特征在于，所述弯曲通过压制进行实施。11.如前述权利要求中任一项所述的方法，其特征在于，在沉积了基本上无机的功能层或基本上无机的功能层堆叠体之后，再沉积至少一个基本上有机的涂层-基本上无机的功能层或基本上无机的功能层堆叠体的序列。12.一种玻璃基材，其在其表面的一部分但不是全部上根据图案覆盖有至少一个序列，2CN108698921A权利要求书2/2页该序列由不易通过在用水(任选酸化的或碱化的)或有机溶剂的洗涤可除去的基本上有机的涂层组成，其再用基本上无机的功能层或