蚀刻切割玻璃基材的方法.pdf

(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号(10)申请公布号CNCN103693855103693855A(43)申请公布日2014.04.02(21)申请号201210369577.0(22)申请日2012.09.27(71)申请人杜邦公司地址美国特拉华(72)发明人吕勇军李泰城(74)专利代理机构永新专利商标代理有限公司72002代理人苗征于辉(51)Int.Cl.C03C15/00(2006.01)权权利要求书2页利要求书2页说明书11页说明书11页附图1页附图1页(54)发明名称蚀刻切割玻璃基材的方法(57)摘要本发明涉及一种蚀刻切割玻璃基材的方法，所述方法使用蚀刻切割溶液，所述蚀刻切割溶液包含：(a)约10.1重量%~约20重量%的氢氟酸；(b)约5重量%~约20重量%的乙醇酸；(c)0重量%~约30重量%的硝酸；和(d)约30重量%~约84.9重量%的水；其中所述重量百分含量是基于所述蚀刻切割溶液的总重量，并且所述蚀刻切割溶液基本上不含氟化铵。本发明还涉及一种玻璃基材，所述玻璃基材是通过如上所述的方法而制得的经切割玻璃基材，与用仅含氢氟酸溶液蚀刻切割的玻璃基材相比，本发明的经切割玻璃基材具有较小的侧蚀和较大的棱角的优点。CN103693855ACN1036985ACN103693855A权利要求书1/2页1.用于切割玻璃基材的方法，该方法包括：(i)提供玻璃基材；(ii)用保护膜覆盖所述玻璃基材；(iii)图案化所述保护膜以得到部分覆盖的玻璃基材，其中所述部分覆盖的玻璃基材是包含遮蔽区域和暴露区域；(iv)用蚀刻切割溶液在10℃~900℃下接触所述部分覆盖的玻璃基材1分钟~120分钟；(v)用水清洗经接触的玻璃基材；(vi)干燥经清洗的玻璃基材；和(vii)移除步骤(vi)的所述玻璃基材上的保护膜；其中，步骤(iv)中所述的蚀刻切割溶液包含：(a)10.1重量%~20重量%的氢氟酸；(b)5重量%~20重量%的乙醇酸；(c)0重量%~30重量%的硝酸；和(d)30重量%~84.9重量%的水；其中，所述重量百分含量是基于所述蚀刻切割溶液的总重量，并且所述蚀刻切割溶液基本上不含氟化铵。2.根据权利要求1所述的方法，其中所述蚀刻切割溶液包含(a)12重量%~18重量%的氢氟酸。3.根据权利要求1所述的方法，其中所述蚀刻切割溶液包含(b)5重量%~15重量%的乙醇酸。4.根据权利要求1所述的方法，其中所述蚀刻切割溶液包含(c)5重量%~15重量%的硝酸。5.根据权利要求1所述的方法，其中所述接触是通过浸没、浸入或喷淋进行。6.根据权利要求1所述的方法，其中所述干燥是用风刀进行。7.根据权利要求1所述的方法，其中所述干燥是在10~200℃下进行至少0.5分钟。8.根据权利要求1所述的方法，其中所述玻璃基材是选自钠钙硅玻璃、硅酸盐玻璃、氟硅酸盐玻璃、磷硅酸盐玻璃、硼硅酸盐玻璃、硼磷硅酸盐玻璃、氟锆酸盐玻璃和铅玻璃。9.根据权利要求8所述的方法，其中所述玻璃基材是经强化的玻璃。10.根据权利要求1所述的方法，其中所述玻璃基材是平整的玻璃片材。11.根据权利要求1所述的方法，其中所述玻璃基材是厚度为300μm~2000μm的单层玻璃片材。12.根据权利要求1所述的方法，其中所述玻璃基材是厚度为900μm~6000μm的多层玻璃片材。13.根据权利要求1所述的方法，其中所述保护膜是由耐氢氟酸的聚合物材料制成。14.根据权利要求13所述的方法，其中所述聚合物材料是选自聚四氟乙烯、聚酰亚胺、聚(氯乙烯)、聚(对苯二甲酸乙二醇酯)、聚丙烯、全氟磺酸聚合物和聚乙烯。15.根据权利要求1所述的方法，其中所述保护膜的厚度为0.01mm~0.8mm。16.根据权利要求1所述的方法，其中所述保护膜在其面向玻璃基材的一面上具有耐2CN103693855A权利要求书2/2页氢氟酸的粘合剂，所述粘合剂是选自橡胶、聚氨酯、聚丙烯酸酯、聚环氧化物及其混合物。17.根据权利要求1所述的方法，其中通过机器压合或人工将所述保护膜粘附在所述玻璃基材的两面上。18.根据权利要求1所述的方法，其中所述保护膜的图案化是通过切割和移除该区域之上的保护膜，或通过光刻工艺形成图案；其中所述保护膜的切割是通过刀具、辊刀、激光切割/雕刻机或CNC等离子体切割机进行。19.根据权利要求18所述的方法，其中在所述保护膜上的图案在所述玻璃基材的两面上是对称和对齐的。20.根据权利要求1所述的方法，其中，在步骤(iii)和/或步骤(vii)之后，任选地，用溶剂清除残余的粘合剂，所述溶剂选自甲醇、乙醇、丙酮或甲苯中的一种或多种。21.玻璃基材，其为通过权利要求1-20任一项所述的方法而制得的经切割玻璃基材。3CN103693855A说明书1/11页蚀刻切割玻璃