柔性显示屏的制备方法及制备柔性显示屏用复合基板.pdf

(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN108807671A(43)申请公布日2018.11.13(21)申请号201810870402.5(22)申请日2018.08.02(71)申请人昆山国显光电有限公司地址215300江苏省苏州市昆山市开发区龙腾路1号4幢(72)发明人刘林佳朱阳杰陆海峰(74)专利代理机构北京国昊天诚知识产权代理有限公司11315代理人许志勇(51)Int.Cl.H01L51/00(2006.01)H01L51/52(2006.01)H01L51/56(2006.01)B82Y40/00(2011.01)权利要求书1页说明书5页附图1页(54)发明名称柔性显示屏的制备方法及制备柔性显示屏用复合基板(57)摘要本发明涉及一种制备柔性显示屏用复合基板，其中复合基板结构包括：基底；牺牲层，牺牲层设置在基底上，牺牲层为含有氢元素且半透明的无机层；以及柔性层，柔性层设置在牺牲层上。本发明还揭露一种制备方法包括以下步骤：在基底上沉积牺牲层，牺牲层为半透明的无机层、且牺牲层中残留有氢元素；在牺牲层上形成柔性层；在柔性层上形成电子元件；以及激光照射基底，使得牺牲层中氢元素形成氢气气泡，以剥离所述牺牲层和无机层。本发明通过牺牲层的设置，降低了激光剥离时基底与柔性层之间的粘附力，改善激光剥离制程中基底与柔性层之间的粘附力和剥离效果，从而达到保护柔性层、减少黑斑黑点发生率的效果。CN108807671ACN108807671A权利要求书1/1页1.一种制备柔性显示屏用复合基板，其特征在于，所述复合基板包括：基底；牺牲层，所述牺牲层设置在基底上，所述牺牲层为含有氢元素且半透明的无机层；以及柔性层，所述柔性层设置在牺牲层上。2.根据权利要求1所述的复合基板，其特征在于，所述牺牲层为通过化学气相沉积法沉积且未经脱氢处理制备的无机层。3.根据权利要求1所述的复合基板，其特征在于，所述牺牲层中的氢原子的原子数百分含量大于2％，优选为5-10％。4.根据权利要求1所述的复合基板，其特征在于，所述牺牲层为单一层结构。5.根据权利要求1至4中任意一项所述的复合基板，其特征在于，所述牺牲层的主体材质为非晶硅、碳化硅或氮化镓。6.根据权利要求5所述的复合基板，其特征在于，所述牺牲层的主体材质为非晶硅，厚度小于20nm，优选为5-10nm；所述牺牲层的主体材质为碳化硅，厚度小于30nm，优选为10-20nm；所述牺牲层的主体材质为氮化镓，厚度小于30nm，优选为10-20nm。7.根据权利要求1所述的复合基板，其特征在于，所述基底为玻璃层，优选所述柔性层的材质为聚酰亚胺。8.一种柔性显示屏的制备方法，其特征在于，所述制备方法包括以下步骤：在基底上沉积牺牲层，所述牺牲层为含有氢元素且半透明的无机层；在所述牺牲层上形成柔性层；在所述柔性层上形成电子元件；以及激光照射所述基底，使得所述牺牲层中氢元素形成氢气气泡，并剥离所述牺牲层和所述无机层。9.根据权利要求8所述的制备方法，其特征在于，所述牺牲层是以含氢物质为原料，通过化学气相沉积法形成在所述基底上，优选在化学气相沉积所述牺牲层后不对所述牺牲层进行脱氢处理，更优选所述牺牲层中的氢原子的原子数百分含量大于2％，优选为5-10％。10.根据权利要求8所述的制备方法，其特征在于，所述激光照射基底的过程中，所采用的激光束的功率为19-22.5W。2CN108807671A说明书1/5页柔性显示屏的制备方法及制备柔性显示屏用复合基板技术领域[0001]本发明涉及一种柔性显示技术领域，特别是涉及一种柔性显示屏的制备方法及制备柔性显示屏用复合基板。背景技术[0002]主动矩阵有机发光二极管(Active-matrixorganiclightemittingdiode，AMOLED)显示技术近年来较受关注，目前大多数柔性显示屏所采用的就是这种显示技术。在柔性显示屏的研发中，所需克服的技术难题之一就是对带有玻璃的柔性基板进行激光剥离(LaserLiftOff，LLO)的问题。在对带有玻璃的柔性基板进行激光剥离(LaserLiftOff，LLO)的制程中，可能会造成柔性基板损伤，随后水汽入侵将导致有机发光材料失效，进而导致有机发光二极管发光时会产生黑斑或黑点，造成较大的良率损失及材料浪费。[0003]经过申请人的长期观察与研究发现，AMOLED的柔性基板在通过激光剥离(LLO)后会产生黑斑或黑点的主要原因是，聚酰亚胺(PI)衬底和玻璃之间较强的粘附力，使聚酰亚胺(PI)在激光剥离(LLO)时难以剥离从而产生损伤，水汽入侵后导致有机发光材料失效，进而使得有机发光二极管发光时，由于失效的部分材料无法发光，所以会产生黑点。[0004]现有技术公开了一种在基底玻璃与柔性基底之间增加有机层/非