一种腐霉利半抗原及其合成方法和应用.pdf

(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN109956895A(43)申请公布日2019.07.02(21)申请号201910194037.5(22)申请日2019.03.14(71)申请人深圳市易瑞生物技术股份有限公司地址518102广东省深圳市宝安区新安街道留仙一路2-1号易瑞生物园(72)发明人杨星星李细清付辉王西丽陈允玲黄永健王炳志马涛严义勇周巧妮(74)专利代理机构广州粤高专利商标代理有限公司44102代理人许青华廖苑滨(51)Int.Cl.C07D209/52(2006.01)G01N33/531(2006.01)G01N33/02(2006.01)权利要求书3页说明书11页附图1页(54)发明名称一种腐霉利半抗原及其合成方法和应用(57)摘要本发明公开了一种腐霉利半抗原及其合成方法和应用，其合成为（1）以α-氯代丙烯酸甲酯、甲基丙烯酸甲酯为起始原料合成1,2-二甲基-1,2-环丙烷二羧酸甲酯；1,2-二甲基-1,2-环丙烷二羧酸甲酯再经过水解和分子内缩合后生成1,2-二甲基环丙烷-1,2-二羧酸酐；（2）以3-氯-5-硝基苯酚、化合物3为原料合成带有手臂的中间体，该中间体经还原反应得到中间体B；（3）1,2-二甲基环丙烷-1,2-二羧酸酐与中间体B经过两次缩合反应成环以及一次水解反应得到最终目标物。本发明中，合成的腐霉利半抗原既最大程度保留了腐霉利的特征结构，使得腐霉利半抗原的免疫原性明显增强，又具有可以与载体发生偶联的羧基，为后续建立腐霉利的各种免疫分析方法提供基础。CN109956895ACN109956895A权利要求书1/3页1.一种腐霉利半抗原，其特征在于，其结构式如式（Ⅰ）所示：其中，n为-CH2基团数目，n为1-5的整数。2.如权利要求1所述的腐霉利半抗原的合成方法，其特征在于，其包括如下步骤：S1，提供中间体A，所述中间体A具有结构式；S2，提供中间体B，所述中间体B具有结构式；S3，将所述中间体A和中间体B进行反应，得到化合物5，所述化合物5具有结构式；S4，将所述化合物5进行缩合反应，得到化合物6，所述化合物6具有结构式；2CN109956895A权利要求书2/3页S5，将所述化合物6进行水解反应，得到所述腐霉利半抗原。3.如权利要求2所述的腐霉利半抗原的合成方法，其特征在于，所述步骤S4包括如下步骤：将所述化合物5溶解于二氯甲烷中，加入脱水缩合剂，回流反应0.5-5h，反应完毕后，蒸干溶剂，过柱纯化得到所述化合物6；其中所述脱水缩合剂为N,N'-二环己基碳酰亚胺、EDC·HCl、或N,N’-羰基二咪唑；所述化合物5和脱水缩合剂的物质的量之比为1:1。4.如权利要求2所述的腐霉利半抗原的合成方法，其特征在于，所述步骤S1中，所述中间体A的制备方法为：由甲基丙烯酸甲酯和α-氯代丙烯酸甲酯进行反应，得到化合物1，所述化合物1具有结构式；（2）将所述化合物1进行水解反应，得到化合物2，所述化合物2具有结构式；（3）将所述化合物2进行缩合反应，得到中间体A。5.如权利要求4所述的腐霉利半抗原的合成方法，其特征在于，所述化合物1的制备方法为：在反应容器中加入反应溶剂，在冰水浴条件下，加入氢化钠，搅拌一定时间后缓慢滴加α-氯代丙烯酸甲酯和甲基丙烯酸甲酯，滴加完毕后室温反应过夜，反应完毕后，进行分离纯化，得到所述化合物1；其中所述反应溶剂为甲苯、二氯甲烷和DMF中的一种或多种；所述氢化钠、α-氯代丙烯酸甲酯和甲基丙烯酸甲酯的物质的量之比为（2-5）:1:（1-1.3）。6.如权利要求4所述的腐霉利半抗原的合成方法，其特征在于，所述化合物2的制备方法为：称取化合物1，用乙醇溶解后，加入碱性溶液，加热回流，进行水解反应；反应结束后减压蒸馏除去乙醇，加入水，用乙酸乙酯萃取，分离出水层，水层用稀盐酸调节pH至2-3，再用乙酸乙酯萃取，经洗涤、干燥、旋蒸后得到所述化合物2；其中，所述碱性溶液采用质量浓度均为10％以上的氢氧化钠或氢氧化钾溶液。7.如权利要求4所述的腐霉利半抗原的合成方法，其特征在于，所述步骤（3）中缩合反应的步骤为：将所述化合物2加入乙酸酐，回流反应，反应结束后，蒸馏除去乙酸酐，剩余物经油泵减压蒸馏、结晶得到所述中间体A；其中，所述回流反应的时间为2-5h；蒸馏除去乙酸酐的温度为160-180℃。8.如权利要求2所述的腐霉利半抗原的合成方法，其特征在于，所述步骤S2中，所述中间体B的制备方法为：（1）将3-氯-5-硝基苯酚和化合物3进行反应，得到化合物4，所述化合物3具有结构式3CN109956895A权利要求书3/3页，其中化合物3中的X为卤素，所述化合物4具有结构式；（2）将所述化合物4进行硝基还原反应，得到中间体B。9.如权利要求8所述的腐霉利半抗原的合成方法