白光LED芯片及其制备方法.pdf
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白光LED芯片及其制备方法.pdf
本发明提供了一种白光LED芯片及其制备方法,包括:金属电极、倒装蓝光LED芯片、透明硅胶、保护层、高反胶以及荧光膜片;其中,金属电极设于LED芯片的下表面;荧光膜片设于LED芯片的上表面,且荧光膜片的面积大于LED芯片表面的面积;透明硅胶于荧光膜片表面呈弧状设于LED芯片四周;保护层位于透明硅胶表面;高反胶沿保护层表面设于LED芯片和荧光膜片四周。在透明硅胶和高反胶的接触界面制备一层致密的硬质保护层,有效阻挡挥发性有机物透过透明硅胶进入LED芯片,解决由挥发性有机物的残留导致LED芯片色度发生变化的技术问
LED芯片及其制备方法.pdf
本发明涉及一种LED芯片及其制备方法。LED芯片设置有将芯片主体至少部分包覆的阻挡层,以及将阻挡层包覆的第一钝化层,阻挡层可阻挡第一钝化层中氯离子进入芯片主体,且保留在第一钝化层中的氯离子可与外部进入的金属离子结合,避免金属离子从LED芯片外界透过钝化层到达芯片主体,从而对芯片主体进行有效的保护。因此上述LED芯片的第一钝化层抗金属离子污染的能力得到明显提升,同时LED芯片的可靠性、质量以及良品率也都能得到明显的提升。
垂直LED芯片结构及其制备方法.pdf
本发明提供一种垂直LED芯片结构及其制备方法,包括:1)提供蓝宝石衬底,在蓝宝石衬底上依次生长UID-GaN层、N-GaN层、多量子阱层以及P-GaN层;2)在P-GaN层上形成P电极;3)提供键合衬底,将键合衬底与步骤2)得到的结构键合;4)剥离蓝宝石衬底;5)去除UID-GaN层;6)在N-GaN层表面形成掩膜层,依据掩膜层,采用ICP刻蚀工艺去除部分位于切割道区域的GaN;7)去除掩膜层,采用湿法刻蚀工艺去除保留于切割道区域的GaN,同时形成台阶结构;8)对N-GaN层表面进行表面粗化,形成粗化微结
一种复合白光LED及其制备方法.pdf
本发明公开了一种复合白光LED,包括基板,LED芯片及透光壳体,所述LED芯片底部固定于所述基板表面,所述基板上部套有透光壳体,在LED芯片上部覆盖有荧光粉胶体,所述透光壳体内表面附着有量子点薄膜,所述量子点薄膜与荧光粉胶体间为空气间隙。本发明还公开了该复合白光LED的制备方法。由于荧光粉胶与量子点壳体间留有空气间隙,该空气间隙可以防止量子点发射光与荧光粉发射光之间的吸收效应;并且量子点薄膜与荧光粉层为曲面形貌,更利于光能量的取出,从而显著提高复合白光LED的发光效率。本发明的操作方法简单,成本低,可灵活
一种白光LED制备方法及白光LED器件.pdf
本发明提供一种白光LED器件制备方法,步骤为:化学机械抛光得到蓝宝石片,使用激光切割蓝宝石表面,掩膜制备、刻蚀、裂片,得到上表面具备蛾眼微结构阵列的蓝宝石片;制备荧光粉层,并在空气炉中烧结,得到具备蛾眼微结构阵列荧光玻璃;在芯片和陶瓷基板上方涂覆硅胶;将具备蛾眼微结构阵列的荧光玻璃设置于硅胶上方;固化得到白光LED器件。本发明还提供了使用该方法制备的白光LED器件。相较于现有技术,本申请的白光LED器件制备方法工艺简单,适用于工业化生产,白光LED器件克服材料紫外照射下有机聚合物变黄的问题,提高白光LED