

封装膜层、显示面板及制作方法.pdf
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封装膜层、显示面板及制作方法.pdf
本发明公开了封装膜层、显示面板及制作方法。该封装膜层包括:封装基板;亲水膜层,亲水膜层设置在封装基板的一侧;疏水膜层,疏水膜层设置在封装基板远离亲水膜层的一侧,亲水膜层和疏水膜层均包括微介孔材料,疏水膜层的微介孔材料远离封装基板一侧的表面具有低表面能物质。亲水膜层可以很好的吸附封装膜层内部残留或产生的水氧,起到很好的干燥作用,疏水膜层可以很好的隔绝外部的水氧,由此,使得该封装膜层具有良好的隔绝水氧的作用,提升应用该封装膜层的有机发光显示面板的使用寿命以及显示品质。
导电层的制作方法和显示面板.pdf
本发明公开了一种导电膜的制作方法,包括步骤:在待涂布导电层的待涂布对象上涂布光阻;通过掩膜版曝光涂布光阻后的待涂布对象并显影处理,定义出无需涂布导电层的部分;在显影处理后的待涂布对象上涂布导电层;在涂布导电层后通过预设方式对涂布导电层后的待涂布对象清洗将无需涂布导电层的部分从待涂布对象上剥离,得到保留了需要涂布部分的导电层的待涂布对象。本发明还提供一种显示面板,本发明提供一种新的导电层的制作方法,省去湿法蚀刻的环节,避免因导电蚀刻药水特性,容易结晶,很容易发生制程异常与漏液风险,导致缺陷产生的问题,提高液
色转化层制作方法、显示面板及显示装置.pdf
本申请涉及显示技术领域,本申请实施例提供了色转化层制作方法、显示面板及显示装置。基于本申请实施例的色转化层制作方法,通过首先在基板的第一表面形成多个彼此间隔设置的光阻层,光阻层由正性光刻胶制成,便于在形成量子点层时调节每个量子点层所占的区域大小,随后在基板的第一表面和光阻层背离基板的一侧表面所形成的外露面上形成量子点层,移除位于基板的第一表面上的光阻层,此时只有位于两个相邻的光阻层之间的量子点层得以保留,因此,所形成的量子点层的线宽自然较窄。同时,可以按照使用需求重复这些步骤,直至满足使用需要。如此,可以
掩膜板、彩膜基板及其制作方法、显示面板、显示装置.pdf
本发明提供了一种掩膜板、彩膜基板及其制作方法、显示面板、显示装置,属于显示技术领域。其中,所述掩膜板包括对应所述彩膜基板的像素区域的透光图形,还包括对应所述彩膜基板的虚拟像素区的部分透光图形。彩膜基板的制作方法包括:在衬底基板上涂布彩色负性光阻材料,利用如上所述的掩膜板对所述彩色负性光阻材料进行曝光,显影后保留像素区域的彩色负性光阻材料,去除虚拟像素区的部分彩色负性光阻材料。通过本发明的技术方案能够防止液晶显示面板的边缘位置出现漏光。
掩膜版、阵列基板的制作方法及显示面板.pdf
本发明公开了一种掩膜版、阵列基板的制作方法及显示面板。其中,所述掩膜版包括:与所述沟道区域对应的第一曝光区、位于所述第一曝光区一侧的待形成源极的第二曝光区、位于所述第一曝光区相对的另一侧的待形成漏极的第三曝光区,以及位于所述第二曝光区部分边缘的与所述第一曝光区不重叠的第四曝光区,所述第一曝光区与所述第四曝光区均为半透光区域。本发明技术方案的掩膜版在曝光和显影的过程中,能使得部分光阻遗留在与第一曝光区和第四曝光区相对应的区域内,对待形成沟道区域和待形成源极的区域进行保护,从而保证源极的加工尺寸,提高源极与栅