基于CUDA的直写式光刻机数据拓展方法.pdf
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基于CUDA的直写式光刻机数据拓展方法.pdf
本发明的一种基于CUDA的直写式光刻机数据拓展方法,可解决传统使用CPU对数据进行二维扫描处理时单线程处理的滞后,效率低影响产能的技术问题。本发明使用CUDA技术,对直写式光刻机的栅格化图像数据进行拓展,以高阶M进行渲染,然后使用低阶M/2进行拆分,再将一个高阶像素的灰度值以特定规则赋值到这N*N个低阶像素。本发明的基于CUDA的直写式光刻机数据拓展方法,通过并行化提高了计算效率,增加了写式光刻机的产能,也保留了图形特征,同时降低了数据规模,减少了对CPU计算能力及传输带宽的依赖,降低了成本。
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基于达曼光栅的并行激光直写光刻机研究摘要:本文主要介绍基于达曼光栅的并行激光直写光刻机研究,首先介绍了激光直写光刻技术的发展和应用,然后详细介绍了该光刻机的工作原理和结构组成,包括达曼光栅、光源、光路系统和控制系统等。接着,介绍了该光刻机的性能指标和优越性,包括分辨率、速度和适用范围。最后,对该光刻机的发展前景进行了探讨,指出了其在微纳加工、半导体、光电子等领域的广泛应用前景。关键词:激光直写光刻、达曼光栅、光源、光路系统、控制系统、微纳加工、半导体、光电子1.概述激光直写光刻技术是一种在半导体工艺、微纳
一种激光直写光刻机长辊式压板机构.pdf
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无掩模激光直写纳米光刻机一、引言近年来,随着科技的不断发展,纳米科技的研究越来越受到人们的关注。纳米科技是一门研究纳米级别物质的特性、制备、处理和应用的学科,其研究范围涉及到物理、化学、材料等多个领域。纳米科技的应用领域十分广泛,如纳米材料、纳米电子、纳米医学等,其应用前景巨大。其中,光刻技术作为纳米制造中的关键技术之一,受到了广泛的研究和应用。无掩模激光直写纳米光刻技术的出现,极大的扩展了光刻技术的应用范围,加速了纳米制造领域的发展。本文将介绍无掩模激光直写纳米光刻机的原理、应用以及发展现状。二、无掩模