一种激光直写光刻机长辊式压板机构.pdf
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一种激光直写光刻机长辊式压板机构.pdf
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激光直写光刻技术研究.docx
激光直写光刻技术研究一、概述激光直写光刻技术,作为一种高精度、高效率的微纳加工手段,近年来在半导体制造、微电子器件、光电子器件以及生物芯片等领域得到了广泛的应用。该技术利用激光束直接在基片上进行图形刻写,无需掩模版,从而实现了从设计到制造的快速转换,极大地提高了生产效率和灵活性。激光直写光刻技术的基本原理是,通过计算机控制激光束的聚焦、移动和能量分布,使激光与基片表面物质发生物理或化学变化,从而在基片上形成所需的图形结构。与传统的光刻技术相比,激光直写光刻技术具有更高的分辨率和更低的成本,特别是在小批量、
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激光直写光刻质量控制.docx
激光直写光刻质量控制激光直写光刻质量控制摘要:激光直写光刻技术是一种重要的微纳加工技术,在光子学、半导体和生物医学等领域具有广泛的应用。然而,激光直写光刻的质量控制一直是一个挑战。本论文通过综述文献,讨论了激光直写光刻技术的常见质量问题,并提出了一些解决方案。这些方案包括激光参数的优化、光刻薄膜的选择和优化、辅助实时监测和反馈控制等。本论文旨在为激光直写光刻的质量控制提供一些建议,并促进激光直写光刻技术的进一步发展。关键词:激光直写光刻、质量控制、激光参数、光刻薄膜、实时监测、反馈控制引言激光直写光刻技术
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本发明公开了控制直写式光刻机的方法和直写式光刻机,直写式光刻机包括空间光调制器件,方法包括:获取原始光刻图形;获得用于本次曝光的形变后光刻图形,并提取其中的第二特征图形数据单元;查询预存的数据仓库;确定数据仓库中存在同类型的目标形变后光刻图形;将第二特征图形数据单元与数据序列中的第三特征图形数据单元进行比对;确定存在与第二特征图形数据单元可相互替换的目标第三特征图形数据单元,将对应的空间光调制器件所需数据转换为第二特征图形数据单元对应的空间光调制器件目标数据;控制直写式光刻机的空间光调制器件。本发明的控制