控制直写式光刻机的方法和直写式光刻机.pdf

(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN113934115A(43)申请公布日2022.01.14(21)申请号202111235304.2(22)申请日2021.10.22(71)申请人合肥芯碁微电子装备股份有限公司地址230088安徽省合肥市高新区长宁大道789号1号楼(72)发明人赵美云(74)专利代理机构北京景闻知识产权代理有限公司11742代理人贾玉姣(51)Int.Cl.G03F7/20(2006.01)权利要求书3页说明书11页附图5页(54)发明名称控制直写式光刻机的方法和直写式光刻机(57)摘要本发明公开了控制直写式光刻机的方法和直写式光刻机，直写式光刻机包括空间光调制器件，方法包括：获取原始光刻图形；获得用于本次曝光的形变后光刻图形，并提取其中的第二特征图形数据单元；查询预存的数据仓库；确定数据仓库中存在同类型的目标形变后光刻图形；将第二特征图形数据单元与数据序列中的第三特征图形数据单元进行比对；确定存在与第二特征图形数据单元可相互替换的目标第三特征图形数据单元，将对应的空间光调制器件所需数据转换为第二特征图形数据单元对应的空间光调制器件目标数据；控制直写式光刻机的空间光调制器件。本发明的控制直写式光刻机的方法处理时间短，可通过软件实现对数据的处理，提升了直写式光刻机的产能。CN113934115ACN113934115A权利要求书1/3页1.一种控制直写式光刻机的方法，其特征在于，所述直写式光刻机包括空间光调制器件，所述方法包括：获取原始光刻图形，提取所述原始光刻图形中的第一特征图形数据单元；根据曝光对位信息对所述原始光刻图形进行形变处理以获得用于本次曝光的形变后光刻图形，并提取所述用于本次曝光的形变后光刻图形中与所述第一特征图形数据单元对应的第二特征图形数据单元；查询预存的数据仓库，其中，所述数据仓库包括不同类型的形变后光刻图形的数据序列，每个所述数据序列包括形变后光刻图形中的第三特征图形数据单元以及与所述第三特征图形数据单元对应的空间光调制器件所需数据；确定所述数据仓库中存在与所述用于本次曝光的形变后光刻图形同类型的目标形变后光刻图形；获取所述目标形变后光刻图形的数据序列，并将所述第二特征图形数据单元与所述目标形变后光刻图形的数据序列中的第三特征图形数据单元进行比对；确定所述目标形变后光刻图形的数据序列中存在与所述第二特征图形数据单元可相互替换的目标第三特征图形数据单元，则将所述目标第三特征图形数据单元对应的空间光调制器件所需数据转换为所述第二特征图形数据单元对应的空间光调制器件目标数据；根据所述空间光调制器件目标数据控制直写式光刻机的空间光调制器件。2.根据权利要求1所述的控制直写式光刻机的方法，其特征在于，确定所述数据仓库中存在与所述用于本次曝光的形变后光刻图形同类型的目标形变后光刻图形，包括：获取所述用于本次曝光的形变后光刻图形的比对参数，其中，所述比对参数包括图形顶点数量、灰度图阶数、图形格式和灰度图像素值中的至少一项；确定所述数据仓库中存在与所述用于本次曝光的形变后光刻图形的比对参数相同的形变后光刻图形；将所述数据仓库中与所述用于本次曝光的形变后光刻图形的比对参数相同的形变后光刻图形作为所述目标形变后光刻图形。3.根据权利要求1所述的控制直写式光刻机的方法，其特征在于，将所述第二特征图形数据单元与所述目标形变后光刻图形的数据序列中的第三特征图形数据单元进行比对，包括：计算所述目标形变后光刻图形的数据序列中的第三特征图形数据单元与所述第二特征图形数据单元的图形本征差值，若所述图形本征差值小于或等于相等阈值，则确定所述第三特征图形数据单元与所述第二特征图形数据单元相等；获得所述目标形变后光刻图形的数据序列中的第三特征图形数据单元与所述第二特征图形数据单元的图形本征差值，若所述图形本征差值小于相似阈值，则确定所述第三特征图形数据单元与所述第二特征图形数据单元相似，其中，所述相似阈值大于所述相等阈值；若所述差值大于所述相似阈值，则确定所述目标形变后光刻图形的数据序列中不存在与所述第二特征图形数据单元可相互替换的第三特征图形数据单元。4.根据权利要求3所述的控制直写式光刻机的方法，其特征在于，确定所述目标形变后光刻图形的数据序列中存在与所述第二特征图形数据单元可相互替换的目标第三特征图2CN113934115A权利要求书2/3页形数据单元，将所述目标第三特征图形数据单元对应的数字微镜器件所需数据转换为所述第二特征图形数据单元对应的数字微镜器件目标数据，包括：若所述第三特征图形数据单元与所述第二特征图形数据单元相等，将与所述第二特征图形数据单元相等的第三特征图形数据单元作为所述目标第三特征图形数据单元，并将所述目标第三特征图形数据单元对应的数字微镜器件所需数据作为所