表面处理组合物及其制造方法、以及使用表面处理组合物的表面处理方法及半导体基板的制造方法.pdf

(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN110383426A(43)申请公布日2019.10.25(21)申请号201880016155.0(74)专利代理机构北京林达刘知识产权代理事务所(普通(22)申请日2018.02.19合伙)11277代理人刘新宇李茂家(30)优先权数据2017-0421122017.03.06JP(51)Int.Cl.2017-1851502017.09.26JPH01L21/304(2006.01)C11D3/37(2006.01)(85)PCT国际申请进入国家阶段日C11D7/22(2006.01)2019.09.05(86)PCT国际申请的申请数据PCT/JP2018/0057792018.02.19(87)PCT国际申请的公布数据WO2018/163781JA2018.09.13(71)申请人福吉米株式会社地址日本爱知县(72)发明人石田康登吉野努大西正悟吉崎幸信权利要求书2页说明书31页(54)发明名称表面处理组合物及其制造方法、以及使用表面处理组合物的表面处理方法及半导体基板的制造方法(57)摘要[课题]目的为提供充分地去除研磨完成的研磨对象物的表面上残留的残渣的手段。[解决手段]一种表面处理组合物，其含有高分子化合物和水，该高分子化合物具有选自由磺酸(盐)基、磷酸(盐)基、膦酸(盐)基、及氨基组成的组中的至少1种离子性官能团，该表面处理组合物的pH不足7，前述高分子化合物的pKa为3以下，且离子性官能团密度超过10％。CN110383426ACN110383426A权利要求书1/2页1.一种表面处理组合物，其含有高分子化合物和水，所述高分子化合物具有选自由磺酸(盐)基、磷酸(盐)基、膦酸(盐)基、及氨基组成的组中的至少1种离子性官能团，所述表面处理组合物的pH不足7，所述高分子化合物的pKa为3以下，且下述式(1)所示的离子性官能团的密度超过10％，式(1)离子性官能团密度(％)＝100×(源自具有离子性官能团的单体的结构单元数/高分子化合物的源自全部单体的结构单元数)。2.根据权利要求1所述的表面处理组合物，其中，所述高分子化合物包含共聚物，该共聚物包含具有选自由磺酸(盐)基及氨基组成的组中的至少1种离子性官能团的结构单元和其他结构单元。3.根据权利要求2所述的表面处理组合物，其中，所述其他结构单元包含源自烯属不饱和单体的结构单元。4.根据权利要求1～3中任一项所述的表面处理组合物，其中，所述高分子化合物包含均聚物，该均聚物仅包含具有选自由磺酸(盐)基、磷酸(盐)基及膦酸(盐)基组成的组中的至少1种酸性官能团的结构单元。5.根据权利要求1～4中任一项所述的表面处理组合物，其中，所述高分子化合物包含具有磺酸(盐)基的高分子化合物。6.根据权利要求5所述的表面处理组合物，其中，所述具有磺酸(盐)基的高分子化合物为选自由含磺酸(盐)基聚乙烯醇、含磺酸(盐)基聚苯乙烯、含磺酸(盐)基聚乙酸乙烯酯、含磺酸(盐)基聚酯、含(甲基)丙烯酰基单体-含磺酸(盐)基单体的共聚物、含磺酸(盐)基聚异戊二烯、含磺酸(盐)烯丙基聚合物、及它们的盐组成的组中的至少1种。7.根据权利要求1～6中任一项所述的表面处理组合物，其中，相对于表面处理组合物中包含的聚合物的总质量，所述高分子化合物的含量为50质量％以上。8.根据权利要求1～7中任一项所述的表面处理组合物，其还包含润湿剂。9.根据权利要求8所述的表面处理组合物，其中，所述润湿剂为选自由以下物质组成的组中的至少一种：包含具有选自由磺酸(盐)基及氨基组成的组中的至少1种离子性官能团的结构单元和其他结构单元、且所述式(1)所示的离子性官能团密度为10％以下的共聚物；包含具有选自由磺酸(盐)基及氨基组成的组中的至少1种离子性官能团的结构单元和其他结构单元、且pKa超过3的共聚物；包含具有羧酸(盐)基的结构单元和其他结构单元的共聚物；聚乙烯醇及聚乙烯吡咯烷酮。10.根据权利要求1～9中任一项所述的表面处理组合物，其pH值为1以上且不足3。11.根据权利要求1～10中任一项所述的表面处理组合物，其实质上不含有磨粒。12.根据权利要求1～11中任一项所述的表面处理组合物，其用于减少研磨完成的研磨对象物的表面上的残渣。13.根据权利要求12所述的表面处理组合物，其中，所述研磨完成的研磨对象物包含选自由氮化硅、氧化硅及多晶硅组成的组中的至少1种。14.根据权利要求12或13所述的表面处理组合物，其中，所述残渣为有机物残渣。15.一种表面处理方法，其中，使用权利要求1～14中任一项所述的表面处理组合物对2CN110383426A权利要求书2/2页研磨完成的研磨对象物进行表面处理，从而减少研磨完成的研磨对象物的表面上的有机物残渣。16.根据权