衬底处理方法及衬底处理装置.pdf

(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN110660641A(43)申请公布日2020.01.07(21)申请号201910583654.4(22)申请日2019.06.28(30)优先权数据2018-1247462018.06.29JP(71)申请人株式会社斯库林集团地址日本京都府(72)发明人尾辻正幸高桥弘明加藤雅彦藤原直澄山口佑佐佐木悠太(74)专利代理机构北京市金杜律师事务所11256代理人杨宏军唐峥(51)Int.Cl.H01L21/02(2006.01)H01L21/67(2006.01)权利要求书2页说明书25页附图11页(54)发明名称衬底处理方法及衬底处理装置(57)摘要本发明涉及衬底处理方法及衬底处理装置。该衬底处理方法包括：干燥前处理液供给工序，向衬底的表面供给干燥前处理液，所述干燥前处理液包含形成凝固体的凝固体形成物质、和与上述凝固体形成物质互溶的溶解物质，并且所述干燥前处理液具有比上述凝固体形成物质的凝固点低的凝固点；凝固体形成工序，通过使上述衬底的表面上的上述干燥前处理液的一部分固化，从而在上述干燥前处理液中形成包含上述凝固体形成物质的上述凝固体；液体除去工序，在将上述凝固体保留于上述衬底的表面上的同时，将上述衬底的表面上的上述干燥前处理液除去；和固体除去工序，通过使保留于上述衬底的表面上的上述凝固体变化为气体，从而将所述凝固体从上述衬底的表面除去。CN110660641ACN110660641A权利要求书1/2页1.衬底处理方法，其包括下述工序：干燥前处理液供给工序，向衬底的表面供给干燥前处理液，所述干燥前处理液包含形成凝固体的凝固体形成物质、和与所述凝固体形成物质互溶的溶解物质，并且，所述干燥前处理液具有比所述凝固体形成物质的凝固点低的凝固点；凝固体形成工序，通过使所述衬底的表面上的所述干燥前处理液的一部分固化，从而在所述干燥前处理液中形成包含所述凝固体形成物质的所述凝固体；液体除去工序，在将所述凝固体保留于所述衬底的表面上的同时，将所述衬底的表面上的所述干燥前处理液除去；和固体除去工序，通过使保留于所述衬底的表面上的所述凝固体变化为气体，从而将所述凝固体从所述衬底的表面除去。2.如权利要求1所述的衬底处理方法，其中，所述凝固体形成工序包括将所述衬底的表面上的所述干燥前处理液冷却的冷却工序。3.如权利要求2所述的衬底处理方法，其中，所述冷却工序包括析出工序，即，将所述衬底的表面上的所述干燥前处理液冷却，使得所述衬底的表面上的所述干燥前处理液中的所述凝固体形成物质的饱和浓度降低至比所述衬底的表面上的所述干燥前处理液中的所述凝固体形成物质的浓度低的值。4.如权利要求3所述的衬底处理方法，所述衬底处理方法还包括事先加热工序，即，在将所述衬底的表面上的所述干燥前处理液冷却前，通过加热而使所述衬底的表面上的所述干燥前处理液的一部分蒸发。5.如权利要求4所述的衬底处理方法，其中，所述溶解物质的蒸气压高于所述凝固体形成物质的蒸气压。6.如权利要求2所述的衬底处理方法，其中，所述干燥前处理液中的所述凝固体形成物质的浓度为所述干燥前处理液中的所述凝固体形成物质及溶解物质的共晶点浓度以上，所述冷却工序包括将所述衬底的表面上的所述干燥前处理液冷却至所述干燥前处理液的凝固点以下的凝固工序。7.如权利要求2～6中任一项所述的衬底处理方法，其中，所述冷却工序包括间接冷却工序，即，通过介由所述衬底将所述衬底的表面上的所述干燥前处理液冷却，从而在所述干燥前处理液中的与所述衬底的表面接触的底层形成所述凝固体，所述液体除去工序包括在将所述凝固体保留于所述衬底的表面上的同时、将位于所述凝固体上的所述干燥前处理液除去的工序。8.如权利要求7所述的衬底处理方法，其中，所述间接冷却工序包括冷却流体供给工序，即，在所述干燥前处理液处于所述衬底的表面的状态下，向所述衬底的背面供给冷却流体，所述冷却流体为比所述衬底的表面上的所述干燥前处理液温度低的流体。9.如权利要求7所述的衬底处理方法，其中，所述间接冷却工序包括冷却构件配置工序，即，将比所述衬底的表面上的所述干燥前处理液温度低的冷却构件配置于所述衬底的背面侧。10.如权利要求1～5中任一项所述的衬底处理方法，其中，所述液体除去工序包括衬底旋转保持工序，即，通过使所述衬底一边保持水平一边围绕竖直的旋转轴线旋转，从而在将所述凝固体保留于所述衬底的表面上的同时，将所述衬底的表面上的所述干燥前处理液除2CN110660641A权利要求书2/2页去。11.如权利要求1～7中任一项所述的衬底处理方法，其中，所述液体除去工序包括气体供给工序，即，通过朝向所述衬底的表面喷出气体，从而在将所述凝固体保留于所述衬底的表面上的同时、将所述衬底的表面上的所述干燥前处理液除去。1