谷胱甘肽抑制剂-光敏剂共组装纳米粒及其构建.pdf

(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN110755637A(43)申请公布日2020.02.07(21)申请号201910917328.2A61P35/00(2006.01)(22)申请日2019.09.26(71)申请人沈阳药科大学地址110016辽宁省沈阳市沈河区文化路103号(72)发明人孙进何仲贵王秋孙孟驰李丹李畅(74)专利代理机构沈阳杰克知识产权代理有限公司21207代理人孙国瑞(51)Int.Cl.A61K47/69(2017.01)A61K47/60(2017.01)A61K31/4365(2006.01)A61K41/00(2020.01)权利要求书1页说明书7页附图10页(54)发明名称谷胱甘肽抑制剂-光敏剂共组装纳米粒及其构建(57)摘要本发明属于药物制剂新辅料和新剂型领域，涉及谷胱甘肽抑制剂-光敏剂共组装纳米粒的构建。其中，谷胱甘肽抑制剂与光敏剂的摩尔比为：5:1～1:5，并通过如下方法制备：将一定量的谷胱甘肽抑制剂与光敏剂或谷胱甘肽抑制剂、光敏剂与PEG的混合物溶解到适量的有机溶剂中，在搅拌条件下，将该溶液缓慢滴加到去离子水中，自发形成均匀的纳米粒。该纳米药物传递系统中，纳米粒子粒径小而均一，有利于纳米粒通过渗透与滞留增强(EPR)效应富集于肿瘤部位；具有超高的载药量，有利于减小辅料相关的不良反应和毒性，氯吡格雷作为一种新型的谷胱甘肽抑制剂能够增强ROS水平，与光敏剂产生协同的抗肿瘤效果。CN110755637ACN110755637A权利要求书1/1页1.谷胱甘肽抑制剂与光敏剂共组装纳米粒，其特征在于，谷胱甘肽抑制剂与光敏剂通过非共价作用力，π-π堆积和疏水作用共组装，谷胱甘肽抑制剂与光敏剂摩尔比为5:1～1:5，优选为5:1～2:1。2.如权利要求1所述的谷胱甘肽抑制剂-光敏剂共组装纳米粒，其特征在于，所述谷胱甘肽抑制剂为氯吡格雷；所述的光敏剂为焦脱镁叶绿素a、血卟啉单甲醚、卟啉类光敏剂二氢卟吩e6。3.如权利要求1所述的谷胱甘肽抑制剂-光敏剂共组装纳米粒，其特征在于，所述的谷胱甘肽抑制剂-光敏剂共组装纳米粒为氯吡格雷-焦脱镁叶绿素a共组装纳米粒，包含非PEG化的氯吡格雷-焦脱镁叶绿素a共组装纳米粒或PEG修饰的氯吡格雷-焦脱镁叶绿素a共组装纳米粒。4.如权利要求3所述的谷胱甘肽抑制剂与光敏剂共组装纳米粒的制备方法，其特征在于，氯吡格雷-焦脱镁叶绿素a共组装纳米粒的制备方法如下：将一定量的谷胱甘肽抑制剂与光敏剂或谷胱甘肽抑制剂、光敏剂与PEG的混合物溶解到适量的有机溶剂中，搅拌下，将该溶液缓慢滴加到去离子水中，自发形成均匀的纳米粒，所述的有机溶剂为乙醇、甲醇或四氢呋喃其中的一种或几种有机溶剂。5.如权利要求3所述的谷胱甘肽抑制剂-光敏剂共组装纳米粒的制备方法，其特征在于，将氯吡格雷与焦脱镁叶绿素a溶解到有机溶剂中，在搅拌条件下，将该溶液缓缓滴加到去离子水中，自发形成均匀的氯吡格雷-焦脱镁叶绿素a共组装纳米粒；或将PEG修饰剂、氯吡格雷与焦脱镁叶绿素a溶解到有机溶剂中，在搅拌条件下，将该混合溶液缓慢滴加到去离子水中，自发形成均匀的PEG修饰的氯吡格雷-焦脱镁叶绿素a共组装纳米粒。6.如权利要求5所述的谷胱甘肽抑制剂与光敏剂共组装纳米粒制备方法，其特征在于，所述有机溶剂为乙醇，甲醇或四氢呋喃中的一种或几种有机溶剂，优选甲醇和四氢呋喃混合溶剂，其中，甲醇与四氢呋喃的比例为80:20～50:50。7.如权利要求5所述的谷胱甘肽抑制剂与光敏剂共组装纳米粒制备方法，其特征在于，所述的纳米粒为非PEG化的共组装纳米粒和PEG修饰的共组装纳米粒；其中PEG修饰剂为DSPE-PEG、TPGS、PE-PEG、或PLGA-PEG，所述PEG的分子量为1000-5000，优选的PEG分子量为2000-5000；焦脱镁叶绿素a与PEG修饰剂的比例为90:10～80:20。8.权利要求1-3任何一项所述的谷胱甘肽抑制剂-光敏剂共组装纳米粒在制备药物传递系统中的应用。9.权利要求1-3任何一项所述的谷胱甘肽抑制剂-光敏剂共组装纳米粒在制备抗肿瘤药物中的应用。10.权利要求1-3任何一项所述的谷胱甘肽抑制剂-光敏剂共组装纳米粒在制备注射给药、口服给药或局部给药系统中的应用。2CN110755637A说明书1/7页谷胱甘肽抑制剂-光敏剂共组装纳米粒及其构建技术领域[0001]本发明属于药物制剂新辅料和新剂型领域，涉及谷胱甘肽抑制剂-光敏剂共组装纳米粒的构建，具体涉及一种氯吡格雷-焦脱镁叶绿素a共组装纳米粒的构建及其在药物递送系统中的应用。背景技术[0002]癌症已经成为严重威胁人类生命健康的疾病，据世界卫生组织(WHO)统计，全球每年有超过800万人死于癌症。近年来，光动力学治疗已经广泛应于