高阶负型光阻剥膜槽.pdf

(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN110888305A(43)申请公布日2020.03.17(21)申请号201811043114.9(22)申请日2018.09.07(71)申请人王彦智地址中国台湾新竹县竹北市三民路148号5楼(72)发明人王彦智(74)专利代理机构昆山中际国创知识产权代理有限公司32311代理人张文婷(51)Int.Cl.G03F7/42(2006.01)权利要求书1页说明书3页附图4页(54)发明名称高阶负型光阻剥膜槽(57)摘要本发明公开了一种高阶负型光阻剥膜槽，包括用于盛装剥膜液的主槽体，主槽体内设有用于固定待剥膜的基板的挂架和能够使剥膜液产生涡流的摇摆机构；主槽体的上端设有循环槽以及底部设有循环管道，该循环管道从主槽体的外部连通至循环槽，循环管道上设有用于使膜渣和溶液分离的系统马达和用于过滤分离后的溶液的过滤器。该高阶负型光阻剥膜槽通过摇摆机构形成的涡流将光刻胶干膜溶解，使干膜细小化，不仅浸泡时间短，剥膜速度快，产能高，而且对高纵横比/高深宽比的剥膜制程，于基板底部不留干膜，产品良率大大提高。CN110888305ACN110888305A权利要求书1/1页1.一种高阶负型光阻剥膜槽，包括用于盛装剥膜液的主槽体(1)，其特征在于：所述主槽体内设有用于固定待剥膜的基板(2)的挂架和能够使所述剥膜液产生涡流的摇摆机构(3)；所述主槽体的上端设有循环槽(4)以及底部设有循环管道(5)，该循环管道从所述主槽体的外部连通至所述循环槽，所述循环管道上设有用于使膜渣和溶液分离的系统马达(6)和用于过滤分离后的溶液的过滤器(7)。2.根据权利要求1所述的高阶负型光阻剥膜槽，其特征在于：所述摇摆机构包括摇摆框架(31)、驱动马达和依次平行间隔设于所述摇摆框架上的叶片(32)，所述驱动马达能够带动每个叶片绕其轴线按设定的频率和角度摇摆。3.根据权利要求2所述的高阶负型光阻剥膜槽，其特征在于：所述驱动马达为线性马达。4.根据权利要求2所述的高阶负型光阻剥膜槽，其特征在于：所述叶片的厚度为0.3～50mm，所述叶片的摇摆频率为0.1～15Hz，所述叶片的摇摆行程为0.3～50mm，所述叶片的摇摆角度为15°～85°。5.根据权利要求2所述的高阶负型光阻剥膜槽，其特征在于：所述叶片为金属、塑料或金属包塑形成。6.根据权利要求5所述的高阶负型光阻剥膜槽，其特征在于：所述塑料包括PVC、PP、PE和PEEK至少其中之一。7.根据权利要求2所述的高阶负型光阻剥膜槽，其特征在于：所述摇摆机构为两个，分别沿相互垂直的两个竖直方向设置于所述主槽体内。8.根据权利要求7所述的高阶负型光阻剥膜槽，其特征在于：所述基板与其中一个摇摆机构平行设置。2CN110888305A说明书1/3页高阶负型光阻剥膜槽技术领域[0001]本发明涉及一种高阶负型光阻剥膜槽。背景技术[0002]光刻胶(英语：photoresist)，亦称为光阻或光阻剂，是指通过紫外光、深紫外光、电子束、离子束、X射线等光照或辐射，其溶解度发生变化的耐蚀刻薄膜材料，是光刻工艺中的关键材料，主要应用于集成电路和半导体分立器件的细微图形加工。[0003]光阻主要可分为正型光阻和负型光阻，正型光阻就是被光照射的部分可以背显影液去除，而未曝光的光阻则不会被显影液去除；而负型光阻则相反，被光照射的部分不会被显影液去除，而其余不被光所照射的区域将会被显影液去除。[0004]负型光阻因其可于剥膜后，维持高纵横比，圆形电镀即细线路(L/S＜10μm)圆形电镀的形状优于正型光阻，在未来先进制造于印刷电路板/载板/软板/3DIC封装市场中，将是不可或缺的重要材料。[0005]但现有的负型光阻在剥膜时存在产能低、均匀性不佳、制程时间长、底部有残膜等缺点。发明内容[0006]为了克服上述缺陷，本发明提供了一种高阶负型光阻剥膜槽，能够实现快速剥膜，底部无残留。[0007]本发明为了解决其技术问题所采用的技术方案是：一种高阶负型光阻剥膜槽，包括用于盛装剥膜液的主槽体，所述主槽体内设有用于固定待剥膜的基板的挂架和能够使所述剥膜液产生涡流的摇摆机构；所述主槽体的上端设有循环槽以及底部设有循环管道，该循环管道从所述主槽体的外部连通至所述循环槽，所述循环管道上设有用于使膜渣和溶液分离的系统马达和用于过滤分离后的溶液的过滤器。[0008]作为本发明的进一步改进，所述摇摆机构包括摇摆框架、驱动马达和依次平行间隔设于所述摇摆框架上的叶片，所述驱动马达能够带动每个叶片绕其轴线按设定的频率和角度摇摆。[0009]作为本发明的进一步改进，所述驱动马达为线性马达。[0010]作为本发明的进一步改进，所述叶片的厚度为0.3～50mm，所述叶片的摇摆频率为0.1～15Hz，所述叶片的摇摆