一种钨表面阻氧膜及其制备方法.pdf
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一种钨表面阻氧膜及其制备方法.pdf
本发明公开了一种钨表面阻氧膜,包括钨基体,钨基体表面镀有复合膜层,复合膜层依次为铝层、第一氮化铬铝层、铬层、第二氮化铬铝层,复合膜层的底层为铝层,复合膜层的顶层为第二氮化铬铝层。本发明还公开了该阻氧膜的制备方法,首先,将钨基体表面打磨、抛光;再将钨基体依次置于碱溶液和酸溶液中,进行超声波清洗;最后将钨基体置于镀膜机,采用PVD法镀制阻氧膜。钨表面经处理后,不仅可以耐800℃高温,而且具有优良的润滑性能,极大改善了钨工件的使用环境,其硬度可达1800HV以上,该抗氧化膜薄而均匀,保留钨原有尺寸,不影响钨使用
一种钼表面阻氧膜及其制备方法.pdf
本发明公开了一种钼表面阻氧膜,包括钼基体,钼基体表面镀有阻氧膜层,阻氧膜层依次为铬层、第一氮化铬铝硅层、铝层、第二氮化铬铝硅层,阻氧膜层的底层为铬层,阻氧膜层的顶层为第二氮化铬铝硅层。本发明还公开了该钼表面阻氧膜的制备方法,首先,将钼基体表面打磨、抛光;再将钼基体依次置于碱溶液和酸溶液中,进行超声波清洗;最后,将钼基体置于镀膜机,采用PVD法镀制阻氧膜。钼表面经处理后,不仅可以耐650℃以上高温,而且具有优良的润滑性能,极大改善了钼工件的使用环境,其硬度可达1800HV以上,阻氧膜层厚度1~3μm,薄而均
金属钨膜及其制备方法.pdf
本发明提供一种金属钨膜及其制备方法,其制备方法包括:提供半导体衬底;于半导体衬底上沉积钨成核层;于钨成核层上沉积钨体沉积层;钨成核层与钨体沉积层的总厚度小于预设厚度,重复进行沉积钨成核层及钨体沉积层至少一次形成多层结构,直至得到预设厚度的金属钨膜。本发明通过一种简单的多层膜层结构设计和WCVD制备方法结合的方式,在不需要改变现有工艺参数的基础上,解决制备大厚度的金属钨膜因应力、衬底弯曲形变较大,出现膜层破裂、剥离翘曲或剥落等问题;本发明以多层结构的方式,将金属钨膜分层沉积,通过细化晶粒、增加晶界面积,使得
一种石墨烯覆膜钡钨阴极及其制备方法.pdf
本发明公开了一种石墨烯覆膜钡钨阴极及其制备方法,所述石墨烯覆膜钡钨阴极包括石墨烯层和B型钡钨阴极层,B型钡钨阴极层的上表面覆石墨烯层,B型钡钨阴极层置于支撑筒内,支撑筒内的B型钡钨阴极层下设置灯丝。所述制备方法包括以下步骤:(1)制备B型钡钨阴极;(2)在衬底生长石墨烯一侧覆TRT,通过溶液腐蚀去除衬底,保留石墨烯,将覆有石墨烯的TRT清洗,烘干;(3)在温控台上放置石墨烯/TRT膜,B型钡钨阴极倒置其上,控制温度达到TRT热剥离温度,再将阴极取开,石墨烯附着在阴极表面。本发明有利于降低钡钨阴极表面逸出功
一种干膜光阻剂及其制备方法和应用.pdf
本发明涉及线路板制作技术领域,公开了一种干膜光阻剂,以质量百分比计,包括以下的原料:高分子粘合剂40?70%、SMA树脂1?10%、光聚合单体10?40%、热聚合抑制剂0.001?0.1%、自由基光引发剂0.1?5%。本发明中的SMA树脂具有优异的耐碱性、抗化性,同时SMA树脂具有双重溶解性,既溶于碱性水溶液也溶于部分有机溶剂中,通过添加SMA树脂,可以显著提高干膜光阻剂的附着能力及解析度。