一种高延展性光学硬化膜及其制备方法.pdf

(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN111849008A(43)申请公布日2020.10.30(21)申请号202010674931.5(22)申请日2020.07.14(71)申请人宁波惠之星新材料科技有限公司地址315000浙江省宁波市江北区慈城镇庆丰路988号4幢(72)发明人来荣旭董红星刘楷楷(74)专利代理机构余姚德盛专利代理事务所(普通合伙)33239代理人吴晓微(51)Int.Cl.C08J7/046(2020.01)C08J7/043(2020.01)C08J7/04(2020.01)C09D175/14(2006.01)C08L75/04(2006.01)权利要求书1页说明书6页附图1页(54)发明名称一种高延展性光学硬化膜及其制备方法(57)摘要本发明公开一种高延展性光学硬化膜及其制备方法，所述高延展性光学硬化膜包括自上而下依次层叠的高延展性硬化层、底涂层及基材层。本发明保护膜具有高延展性，可普遍应用于各类手机的屏幕保护，能实现各种成型方式，且考虑到指纹解锁，基材的选用可满足产品光通量的要求；并且该保护膜具有优异的触摸手感和耐磨性，在长时间使用的情况下可防止刮花，防止指纹残留，为屏幕提供稳定、有效及全面的保护。CN111849008ACN111849008A权利要求书1/1页1.一种高延展性光学硬化膜，其特征在于，包括自上而下依次层叠的高延展性硬化层(1)、底涂层(2)及基材层(3)；以质量百分含量计，所述高延展性硬化层(1)包括六官能度的不饱和官能团的聚合物30％～45％、溶剂45％～63％、引发剂2％～8％和添加剂1％～5％；以质量百分含量计，所述底涂层(2)包括三官能度或四官能度的不饱和官能团的聚合物20％～55％、溶剂40％～75％和引发剂2％～8％；所述不饱和官能团的聚合物包括聚氨酯低聚物、聚氨酯丙烯酸酯低聚物、聚酯丙烯酸酯低聚物、环氧丙烯酸酯低聚物中的任意一种或几种。2.如权利要求1所述的一种高延展性光学硬化膜，其特征在于，所述六官能度的不饱和官能团的聚合物为六官能度的聚氨酯丙烯酸酯低聚物。3.如权利要求1所述的一种高延展性光学硬化膜，其特征在于，所述溶剂包括异丙醇、丙酮、甲基异丁基酮、丁酮、丙二醇甲醚、丙二醇单丁基醚、乙酸甲酯、乙酸乙酯、乙酸丁酯中的任意一种或几种。4.如权利要求1所述的一种高延展性光学硬化膜，其特征在于，所述引发剂包括2，4，6-三甲基苯甲酰基-二苯基氧化膦、1-羟基环己基苯基甲酮、2，4，6-三甲基苯甲酰基膦酸乙酯、2-甲基-1-(4-甲硫基苯基)-2-吗啉基-1-丙酮、2-异丙基硫杂蒽酮、2-苄基-2-二甲基氨基-1-(4-吗啉苯基)丁酮、苯基双(2，4，6-三甲基苯甲酰基)氧化膦中的任意一种或两种。5.如权利要求1所述的一种高延展性光学硬化膜，其特征在于，所述添加剂包括表面流平助剂、二氧化硅粒子分散液、助引发剂、反应催化剂中的任意一种或两种。6.如权利要求1所述的一种高延展性光学硬化膜，其特征在于，所述三官能度或四官能度的不饱和官能团的聚合物为三官能度或四官能度的聚氨酯丙烯酸酯低聚物。7.如权利要求1所述的一种高延展性光学硬化膜，其特征在于，所述高延展性硬化层(1)的厚度为1～10μm，所述底涂层(2)的厚度为0.1～10μm，所述基材层(3)的厚度为75～125μm。8.一种如权利要求1～7任意一项所述的高延展性光学硬化膜的制备方法，其特征在于，包括如下步骤：第一涂布步骤：取已经涂布好的基材层(3)，在所述基材层(3)的上层先单面涂布底涂液，经过烘箱加热，挥发掉溶剂后，再进行UV固化得到底涂层(2)；第二涂布步骤：在完成第一涂布步骤的情况下，在所述底涂层(2)的上层涂布高延展性硬化涂液，再经烘箱加热，挥发掉溶剂后，再进行UV固化得到高延展性硬化层(1)。9.如权利要求8任意所述的一种高延展性光学硬化膜的制备方法，其特征在于，所述第一涂布步骤中，所述底涂层(2)采用微凹涂布方式进行涂布，涂布辊的转速为3～17m/min，基材的进料速度为5～25m/min，烘箱温度为60～150℃，固化时间为2～5min，UV固化能量为100～300mJ/cm2。10.如权利要求8任意所述的一种高延展性光学硬化膜的制备方法，其特征在于，所述第二涂布步骤中，所述高延展性硬化层(1)采用微凹涂布方式进行涂布，涂布辊的转速为3～17m/min，涂完底涂层(2)的基材的进料速度为5～25m/min，烘箱温度为60～150℃，固化时间为2～4min，UV固化能量为100～600mJ/cm2。2CN111849008A说明书1/6页一种高延展性光学硬化膜及其制备方法技术领域[0001]本发明涉及保护膜技术领域，具体涉及一种高延展性光学硬化膜及其制备方法。背景