一种新型阵列基板膜层结构及其制备方法.pdf

(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN111969014A(43)申请公布日2020.11.20(21)申请号202010836418.1(22)申请日2020.08.19(71)申请人福建华佳彩有限公司地址351100福建省莆田市涵江区涵中西路1号(72)发明人陈宇怀(74)专利代理机构福州市博深专利事务所(普通合伙)35214代理人张明(51)Int.Cl.H01L27/32(2006.01)H01L51/52(2006.01)权利要求书2页说明书9页附图6页(54)发明名称一种新型阵列基板膜层结构及其制备方法(57)摘要本发明涉及OLED面板阵列基板技术领域，特别涉及一种新型阵列基板膜层结构及其制备方法，包括玻璃基板，玻璃基板的一侧面的正常区上依次层叠设有第一栅极金属层、第一栅极绝缘层、第一有源层、第一源漏极金属层、第一钝化层、第一平坦层、第一阳极层、第一画素定义层和第一阴极层，通过设置第一栅极金属层、第一源漏极金属层和第一阳极层，且正常区的第一栅极金属层、第一源漏极金属层和第一阳极层均采用夹层结构，这样使得正常区拥有良好的显示效果以及更低的功耗；而且使得面板的增透区与正常区的像素密度可以保持一致，改善了现有屏下摄像头终端设备为了保证摄像头区域的透光率对部分像素进行留白缩减像素密度而导致观感上存在色差。CN111969014ACN111969014A权利要求书1/2页1.一种新型阵列基板膜层结构，其特征在于，包括玻璃基板，所述玻璃基板的一侧面的正常区上依次层叠设有第一栅极金属层、第一栅极绝缘层、第一有源层、第一源漏极金属层、第一钝化层、第一平坦层、第一阳极层、第一画素定义层和第一阴极层；所述第一栅极绝缘层上开设有第一过孔，所述第一过孔中填充有第一源漏极金属层，所述第一源漏极金属层分别与第一栅极金属层、第一栅极绝缘层、第一有源层和第一钝化层接触，所述第一源漏极金属层上开设有第二过孔，所述第二过孔中填充有第一钝化层，所述第一钝化层分别与第一有源层和第一源漏极金属层接触，所述第一钝化层上开设有第三过孔，所述第一平坦层上开设有第四过孔，所述第四过孔与第三过孔相对设置且相通，所述第三过孔和第四过孔中均填充有第一阳极层，所述第三过孔中的第一阳极层分别与第一源漏极金属层和第一钝化层接触，所述第四过孔中的第一阳极层分别与第一平坦层和第一画素定义层接触，所述第一画素定义层上开设有第五过孔，所述第五过孔中填充有第一有机发光层，所述第一有机发光层分别与第一阳极层、第一画素定义层和第一阴极层接触；所述第一栅极金属层、第一源漏极金属层和第一阳极层均为夹层结构。2.根据权利要求1所述的新型阵列基板膜层结构，其特征在于，所述夹层结构包括第一透明层和第一金属层，所述第一透明层与第一金属层层叠设置。3.根据权利要求2所述的新型阵列基板膜层结构，其特征在于，所述第一透明层的材质为氧化铟锡。4.根据权利要求1所述的新型阵列基板膜层结构，其特征在于，所述夹层结构包括第二透明层、第三透明层和第二金属层，所述第二金属层位于第二透明层和第三透明层之间且分别与第二透明层和第三透明层接触。5.根据权利要求1所述的新型阵列基板膜层结构，其特征在于，所述第二过孔对应第一有源层的位置设置。6.根据权利要求1所述的新型阵列基板膜层结构，其特征在于，所述第一源漏极金属层上还开设有第六过孔，所述第六过孔中填充有第一钝化层，所述第六过孔中填充的第一钝化层分别与第一栅极绝缘层、第一栅极金属层和第一平坦层接触。7.一种权利要求1所述的新型阵列基板膜层结构的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：S1、提供一玻璃基板，在玻璃基板的一侧面的正常区上覆盖有第一栅极金属层；S2、形成第一栅极绝缘层，且覆盖于所述第一栅极金属层表面，在所述第一栅极金属层中形成第一过孔；S3、形成第一有源层，且覆盖于所述第一栅极金属层表面；S4、形成第一源漏极金属层，所述第一源漏极金属层分别覆盖于第一有源层和第一栅极绝缘层表面且第一过孔中填充有第一栅极金属层；在第一源漏极金属层中形成第二过孔；S5、形成第一钝化层，所述第一钝化层覆盖于第一源漏极金属层表面且第二过孔中填充有第一钝化层；在第一钝化层中形成第三过孔；S6、形成第一平坦层，且覆盖于所述第一钝化层表面，在第一平坦层中形成第四过孔；S7、形成第一阳极层，所述第一阳极层覆盖于第一平坦层表面且第三过孔和第四过孔中填充有第一阳极层；2CN111969014A权利要求书2/2页S8、形成第一画素定义层，且分别覆盖于所述第一钝化层和第一阳极层表面，在第一画素定义层中形成第五过孔；S9、在所述第五过孔中形成第一有机发光层；S10、形成第一阴极层，且覆盖于所述第一画素定义层表面。8.根据权利要求7所述的新型阵列基板膜层结构的制备方法，其特征