

连续粉末镀膜装置.pdf
英瑞****写意
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连续粉末镀膜装置.pdf
本发明涉及粉末颗粒表面镀膜技术,具体为连续粉末镀膜装置。解决现有粉末镀膜设备生产效率低、镀膜均匀性差的问题。连续粉末镀膜装置,包括倾斜设置、被驱转动、密闭的炉管,以炉管的位置高的一端为前端、位置低的一端为后端,炉管的前段外部套有加热炉,炉管密封配置有炉管内腔的抽真空管道,炉管的前端密封设置有向炉管内腔输送粉末料的送料机构,炉管的后端密封设置有镀膜材料蒸汽输送管道,镀膜材料蒸汽输送管道与镀膜材料蒸汽产生装置密封连接,炉管的后端还密封设置有出料机构。本发明让粉末在炉管内扬起并顺势而下,镀膜材料蒸汽逆向而上并均
粉末镀膜装置及粉末镀膜方法.pdf
本发明涉及一种粉末镀膜装置及方法,在向反应腔体内充入第一前驱体及第二前驱体时,可调节抽气机构的抽气速率使得反应腔体的进气速率大于出气速率。因此,将会在反应腔体内维持较高压力。这样,能够防止前驱体未来得及发生吸附或反应即被抽走,增加了前驱体在反应腔体内停留的时间,从而确保粉末的表面发生充分的吸附反应。同时,由于反应腔体内的压力较高,故抽气侧与进气侧的压差较小,从而还能有效控制粉末流化时的飞溅区高度。如此,能防止因粉末大量吸附在抽气侧,而影响前驱体的吸附与清除。因此,上述粉末镀膜装置及方法能够减少前驱体的浪费
粉末镀膜装置及方法.pdf
本发明公开了一种粉末镀膜装置,包括循环连接的四个相同腔室,每个腔室由依次连通的反应区、样品盛放区和传料区构成,反应区设在样品盛放区上方,反应区顶端设有入口,入口下方架设竖直的旋转轴,该旋转轴的轴向上设有粉末流化台,该旋转轴两侧的反应区侧壁设有进气孔和出气孔,出气孔侧壁内设有多孔挡板;样品盛放区上部设有进料口,底部与倾斜设置的传料区的低端连通;传料区内设有螺旋传料杆,高端与下一个腔室的反应区入口连通;传料区最低端设有出料口。本发明中粉末以可控量的方式进入反应气体或清洗气体中;每个腔室中都不会发生完整的反应过
一种连续式镀膜装置.pdf
本发明提供一种连续式镀膜装置,包括真空镀膜腔室,所述真空镀膜腔室包括前腔室和后腔室,在后腔室内通过支撑架支撑倾斜平行设置的靶材、阴极及背板、载片架,所述载片架用于承载基片;在所述前腔室内通过支撑架支撑倾斜平行设置的正电极板与负电极板,基片从正电极板与负电极板之间通过,所述正电极板与负电极板在镀膜真空压力条件下起辉光,构成真空清洁设备;所述前腔室和后腔室通过中间设置的狭缝连通,所述狭缝供基片从前腔室移动到后腔室。在本发明提供的连续式镀膜装置的工作辉光区域与阴极靶材溅射区域相连,使得基片在镀膜前不接触腔室里的
粉末镀膜设备.pdf
本申请公开了粉末镀膜设备。粉末镀膜设备包括反应器和混合器。反应器内具有反应腔,反应腔设置有进气口和抽气口。混合器内具有混合腔,混合腔设置有混合进口和混合出口,混合出口与进气口连通。其中,混合腔内设置有混气件,用于改变混合腔内的气体流动状态。通过上述方式,本申请能够提高粉末镀膜的质量。