显示基板及其制备方法、显示面板、显示装置.pdf

(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN112331581A(43)申请公布日2021.02.05(21)申请号202011323625.3(22)申请日2020.11.23(71)申请人京东方科技集团股份有限公司地址100015北京市朝阳区酒仙桥路10号申请人绵阳京东方光电科技有限公司(72)发明人芦月孙超超赵祖彬王腾飞(74)专利代理机构北京博思佳知识产权代理有限公司11415代理人张玲玲(51)Int.Cl.H01L21/66(2006.01)H01L27/32(2006.01)权利要求书2页说明书8页附图2页(54)发明名称显示基板及其制备方法、显示面板、显示装置(57)摘要本申请提供一种显示基板及其制备方法、显示面板、显示装置。所述显示基板包括显示区及弯折区。所述制备方法包括：形成多个间隔排布的信号线及与所述信号线一一对应的测试电极，所述信号线由所述显示区延伸至所述弯折区，所述信号线与对应的所述测试电极电连接；对于任相邻的两个信号线，采用电学特性检测仪对该相邻的两个信号线对应的测试电极之间施加电压，并获取所述电学特性检测仪检测到的电参数；根据相邻的两个信号线对应的所述电参数判断在该相邻的两个信号线之间是否存在金属残留；若任相邻的两个信号线之间均不存在金属残留，在所述显示区形成发光层。CN112331581ACN112331581A权利要求书1/2页1.一种显示基板的制备方法，其特征在于，所述显示基板包括显示区及弯折区；所述制备方法包括：形成多个间隔排布的信号线及与所述信号线一一对应的测试电极，所述信号线由所述显示区延伸至所述弯折区，所述信号线与对应的所述测试电极电连接；对于任相邻的两个信号线，采用电学特性检测仪对该相邻的两个信号线对应的测试电极之间施加电压，并获取所述电学特性检测仪检测到的电参数；根据相邻的两个信号线对应的所述电参数判断在该相邻的两个信号线之间是否存在金属残留；若任相邻的两个信号线之间均不存在金属残留，在所述显示区形成发光层。2.根据权利要求1所述的显示基板的制备方法，其特征在于，所述电参数为电阻值，所述根据相邻的两个信号线对应的所述电参数判断在该相邻的两个信号线之间是否存在金属残留，包括：若相邻的两个信号线对应的所述电阻值小于第一预设阈值，则确定该相邻的两个信号线之间存在金属残留；若相邻的两个信号线对应的所述电阻值大于或等于所述第一预设阈值，则确定该相邻的两个信号线之间不存在金属残留；或者，所述电参数为电流值，所述根据相邻的两个信号线对应的所述电参数判断在该相邻的两个信号线之间是否存在金属残留，包括：若相邻的两个信号线对应的所述电流值大于第二预设阈值，则确定该相邻的两个信号线之间存在金属残留；若相邻的两个信号线对应的所述电流值小于或等于所述第二预设阈值，则确定该相邻的两个信号线之间不存在金属残留。3.根据权利要求1所述的显示基板的制备方法，其特征在于，所述测试电极及所述信号线在一次构图工艺中完成；和/或，所述信号线为数据线。4.根据权利要求1所述的显示基板的制备方法，其特征在于，所述形成多个间隔排布的信号线及与所述信号线一一对应的测试电极之前，所述制备方法还包括：形成叠加设置的多个膜层，所述多个膜层位于所述显示区及所述弯折区；对所述多个膜层进行刻蚀，以在所述弯折区形成凹陷部。5.根据权利要求1所述的显示基板的制备方法，其特征在于，所述信号线的端部包括两个分支结构，其中一个所述分支结构与对应的所述测试电极电连接，另一个所述分支结构用于与芯片电连接；和/或，所述测试电极的面积范围为36100μm2～44100μm2。6.一种显示基板，其特征在于，所述显示基板包括显示区及弯折区；所述显示基板还设有多个间隔排布的信号线及与所述信号线一一对应的测试电极，所述信号线由所述显示区延伸至所述弯折区，所述信号线与对应的所述测试电极电连接；所述显示基板还包括位于所述信号线上的发光层，所述发光层位于所述显示区。7.根据权利要求6所述的显示基板，其特征在于，所述测试电极及所述信号线的厚度及2CN112331581A权利要求书2/2页材料均相同；和/或，所述信号线为数据线。8.根据权利要求6所述的显示基板，其特征在于，所述显示基板形成凹陷部，所述凹陷部位于所述弯折区。9.根据权利要求6所述的显示基板，其特征在于，所述信号线的端部包括两个分支结构，其中一个所述分支结构与对应的所述测试电极连接，另一个所述分支结构用于与芯片连接；和/或，所述测试电极的面积范围为36100μm2～44100μm2。10.一种显示面板，其特征在于，所述显示面板包括权利要求6至9任一项所述的显示基板。11.一种显示装置，其特征在于，所述显示装置包括权利要求10所述的显示面板。3CN112331581A说明书1/8页