显示基板及其制作方法、显示面板及显示装置.pdf

(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN112366209A(43)申请公布日2021.02.12(21)申请号202011249588.6G09F9/30(2006.01)(22)申请日2020.11.10(71)申请人京东方科技集团股份有限公司地址100015北京市朝阳区酒仙桥路10号申请人成都京东方光电科技有限公司(72)发明人刘莉刘全滕健王明慧熊星曹钦亚王云(74)专利代理机构北京市立方律师事务所11330代理人张筱宁(51)Int.Cl.H01L27/12(2006.01)H01L27/32(2006.01)H01L21/77(2017.01)G09F9/33(2006.01)权利要求书2页说明书9页附图9页(54)发明名称显示基板及其制作方法、显示面板及显示装置(57)摘要本申请实施例提供了一种显示基板及其制作方法、显示面板及显示装置。该显示基板包括位于常规显示区和位于常规显示区的四角处的呈弧形的拉伸区，该制作方法包括：制备包括柔性衬底、堆叠结构以及特定金属层的待刻蚀基板，特定金属层为距离柔性衬底最远的采用干法刻蚀的金属层；对待刻蚀基板进行图形化处理，以形成贯穿堆叠结构以及部分柔性衬底拉伸槽，拉伸槽位于拉伸区。本实施例通过先形成特定金属层，再对堆叠结构以及柔性衬底进行刻蚀的制作方法来形成拉伸槽，使得拉伸槽形成之后没有通过干法刻蚀的金属层，金属没有进入拉伸槽内的机会，能够从根本上避免拉伸槽内金属残留的问题，从而提升柔性衬底在拉伸区的拉伸性能。CN112366209ACN112366209A权利要求书1/2页1.一种显示基板的制作方法，所述显示基板包括位于常规显示区和位于所述常规显示区的四角处的拉伸区，所述拉伸区呈弧形，其特征在于，所述显示基板的制作方法包括：制备待刻蚀基板，所述待刻蚀基板包括柔性衬底、位于所述柔性衬底上的堆叠结构以及位于所述堆叠结构远离所述柔性衬底一侧的特定金属层，所述堆叠结构包括有源层、至少一个导电层以及多个绝缘层，所述特定金属层为距离所述柔性衬底最远的采用干法刻蚀的金属层；对所述待刻蚀基板进行图形化处理，以形成贯穿所述堆叠结构以及部分所述柔性衬底拉伸槽，所述拉伸槽位于所述拉伸区。2.根据权利要求1所述的显示基板的制作方法，其特征在于，对所述待刻蚀基板进行图形化处理，包括：在所述特定金属层远离堆叠结构的一侧涂覆光刻胶，并对所述光刻胶进行曝光、显影以去除待刻蚀区域的所述光刻胶；以曝光、显影后的所述光刻胶作为掩膜，对所述待刻蚀区域的所述堆叠结构以及所述柔性衬底进行干刻以形成所述拉伸槽。3.根据权利要求2所述的显示基板的制作方法，其特征在于，还包括：在对所述待刻蚀基板进行图形化处理之前，在所述特定金属层远离所述柔性衬底的一侧形成特定无机绝缘层。4.根据权利要求3的显示基板的制作方法，其特征在于，以曝光、显影后的所述光刻胶作为掩膜，对所述待刻蚀区域的所述堆叠结构以及所述柔性衬底进行干刻以形成所述拉伸槽，包括：以曝光、显影后的所述光刻胶作为掩膜，对所述堆叠结构进行第一干刻以形成贯穿所述堆叠结构的第一拉伸槽部；以形成所述第一拉伸槽部的所述堆叠结构作为掩膜，对所述柔性衬底进行第二干刻以形成贯穿部分所述柔性衬底的第二拉伸槽部，所述拉伸槽包括所述第一拉伸槽部和所述第二拉伸槽部，所述柔性衬底在第二干刻条件下的刻蚀速度大于所述特定无机绝缘层在所述第二干刻条件下的刻蚀速度。5.根据权利要求1所述的显示基板的制作方法，其特征在于，制备待刻蚀基板，包括：提供一玻璃基板，在所述玻璃基板上形成所述柔性衬底；在所述柔性衬底远离所述玻璃基板的一侧形成所述堆叠结构；在所述堆叠结构远离所述柔性衬底的一侧形成所述特定金属层。6.根据权利要求5所述的显示基板的制作方法，其特征在于，所述堆叠结构还包括缓冲层，所述导电层包括第一导电层，所述绝缘层包括第一绝缘层和第二绝缘层；在所述柔性衬底远离玻璃基板的一侧形成所述堆叠结构，包括：在所述柔性衬底远离所述玻璃基板的一侧形成所述缓冲层；在所述缓冲层远离所述柔性衬底的一侧形成所述有源层，所述有源层包括多个有源岛；在所述有源层远离所述柔性衬底的一侧形成所述第一绝缘层；在所述第一绝缘层远离所述柔性衬底的一侧形成所述第一导电层，所述第一导电层包括多个栅极；2CN112366209A权利要求书2/2页在所述第一导电层远离所述柔性衬底的一侧形成所述第二绝缘层。7.根据权利要求6所述的显示基板的制作方法，其特征在于，在所述堆叠结构远离所述柔性衬底的一侧形成特定金属层，包括：在所述堆叠结构远离所述柔性衬底的一侧形成金属材料层，并采用干法刻蚀对所述金属材料层进行图形化处理以形成源漏电极层，所述源漏电极层作为所述特定金属层，所述源漏电极层包括的多个源极和多个漏极。8.根据权利要求6所述