一种钕铁硼磁体表面高结合力高耐蚀涂层的制备方法.pdf

(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN112725855A(43)申请公布日2021.04.30(21)申请号202011583420.9C25D5/36(2006.01)(22)申请日2020.12.28(71)申请人安徽大地熊新材料股份有限公司地址231500安徽省合肥市庐江高新技术产业开发区(72)发明人曹玉杰吴玉程刘友好查善顺李磊黄秀莲刘家琴陈静武衣晓飞(74)专利代理机构合肥天明专利事务所(普通合伙)34115代理人汪贵艳(51)Int.Cl.C25D5/50(2006.01)C25D7/00(2006.01)C25D3/22(2006.01)权利要求书1页说明书5页(54)发明名称一种钕铁硼磁体表面高结合力高耐蚀涂层的制备方法(57)摘要本发明公开了一种钕铁硼磁体表面高结合力高耐蚀涂层的制备方法，包括以下步骤：电镀Zn镀层：采用电镀方法在预处理后的磁体表面电镀Zn镀层；激光重熔处理：采用激光重熔技术对磁体表面的Zn镀层进行处理，使Zn镀层的孔隙率为3‑4％；热处理：对激光重熔处理后的Zn镀层进行热处理。本发明能够显著降低Zn镀层的孔隙率，使Zn镀层与基体之间形成冶金结合，并有效解决磁体前处理过程中部分残留的氢离子等有害杂质，解决了传统电镀Zn镀层后在进行钝化处理所带来的环境污染问题。最终在磁体表面制备出高结合力、高耐蚀的Zn镀层。CN112725855ACN112725855A权利要求书1/1页1.一种钕铁硼磁体表面高结合力高耐蚀涂层的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：(1)电镀Zn镀层：采用电镀方法在预处理后的磁体表面电镀Zn镀层；(2)激光重熔处理：采用激光重熔技术对磁体表面的Zn镀层进行处理，使Zn镀层的孔隙率为3‑4％；(3)热处理：对激光重熔处理后的Zn镀层进行热处理。2.根据权利要求1所述的一种钕铁硼磁体表面高结合力高耐蚀涂层的制备方法，其特征在于：步骤(1)中所述的预处理是对倒角处理后的烧结钕铁硼磁体依次进行除油、酸洗处理。3.根据权利要求2所述的一种钕铁硼磁体表面高结合力高耐蚀涂层的制备方法，其特征在于：所述除油是指采用浓度为4～6wt％的NaOH溶液作为除油液对烧结钕铁硼磁体进行浸渍处理，除油液的温度为55～65℃、处理时间为10～16min；所述酸洗处理是采用3～5wt％的HNO3溶液进行酸洗处理，其酸洗时间为30～60s。4.根据权利要求1所述的一种钕铁硼磁体表面高结合力高耐蚀涂层的制备方法，其特征在于：所述步骤(1)中电镀Zn镀层的Zn镀液是由以下组份按质量比制备而成：氢氧化钠90‑130g/L、氧化锌8‑12g/L、三乙醇胺15‑35mL/L、光亮剂0.1～0.3wt％。5.根据权利要求4所述的一种钕铁硼磁体表面高结合力高耐蚀涂层的制备方法，其特征在于：所述光亮剂是由以下组份制备而成：水杨醛30～40wt％、甲醛20～25wt％、苄叉丙酮8～12wt％、2.4‑二氯苯甲醛6～10wt％，余量为去离子水。6.根据权利要求1所述的一种钕铁硼磁体表面高结合力高耐蚀涂层的制备方法，其特征在于：所述电镀的温度10～30℃、电流密度为0.8～3A/dm2、时间为90～150min。7.根据权利要求1所述的一种钕铁硼磁体表面高结合力高耐蚀涂层的制备方法，其特征在于：所述步骤(2)中激光重熔处理的工艺为：激光波长为808～1064nm、激光功率为300～600W，保护气为纯度高于99.99％的氩气、气体流量为5～30L/min，扫描速度为50～300mm/min，激光器与镀Zn层的距离为2～5mm，激光焦点处的斑点为圆形。8.根据权利要求1所述的一种钕铁硼磁体表面高结合力高耐蚀涂层的制备方法，其特征在于：所述步骤(3)中热处理的温度为380～410℃、时间为1～5h。2CN112725855A说明书1/5页一种钕铁硼磁体表面高结合力高耐蚀涂层的制备方法技术领域[0001]本发明属于磁性材料防护领域，具体涉及一种钕铁硼磁体表面高结合力高耐蚀涂层的制备方法。背景技术[0002]烧结钕铁硼磁体具有优异的磁性能和较高的性价比，被广泛应用于新能源汽车、风力发电、医疗器械、家用电器以及航空航天等诸多领域。烧结钕铁硼磁体属于多相结构，各相之间的电位差相差较大，尤其是晶界相的化学活性最高，在腐蚀性环境中极易发生腐蚀，导致磁体因腐蚀而失效。[0003]目前，主要采用以下两种方式来改善磁体的耐腐蚀性能，一是合金化法，在合金熔炼时添加微量的Al、Cu、Zn等元素提高磁体的本征的耐腐蚀性能，此种方式是以牺牲磁体的磁性能作为代价，不能从根本上解决磁体本身极差的耐蚀性，且提高幅度有限；二是表面防护法，在磁体表面涂覆一层或多层的金属或有机涂层，从根本上隔绝外界腐蚀介质与磁体的直接接触，可以显著