

传送单元及用于处理基板的装置和方法.pdf
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传送单元及用于处理基板的装置和方法.pdf
公开了传送单元及用于处理基板的装置和方法,尤其是用于对基板进行液体处理的装置和方法。一种用于处理基板的装置包括:液体处理室,其将液体供应到所述基板上以对基板进行液体处理;干燥室,其去除基板上的残留液体;以及传送单元,其将基板在液体处理室和干燥室之间传送,其中所述传送单元包括支撑基板的手构件,以及测量基板上残留液体的重量的重量测量单元。基板上残留液体的重量可以通过在传送基板时测量基板的重量来测量。
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公开了传送单元及用于处理基板的装置和方法,尤其是用于对基板进行液体处理的装置和方法。一种用于处理基板的装置包括:液体处理室,其将液体供应到所述基板上以对基板进行液体处理;干燥室,其去除基板上的残留液体;以及传送单元,其将基板在液体处理室和干燥室之间传送,其中所述传送单元包括支撑基板的手构件,以及测量基板上残留液体的重量的重量测量单元。基板上残留液体的重量可以通过在传送基板时测量基板的重量来测量。
用于处理基板的传送单元和装置.pdf
本发明提供了一种用于传送基板的装置。传送基板的单元被描述为包括:支撑结构、用于放置基板的第一手部、与第一手部堆叠并且放置基板的第二手部、在支撑结构中引导第一支撑杆的运动以支撑第一手部的第一导轨、在支撑结构中引导第二支撑杆的运动以支撑第二手部的第二导轨、以及减小设置在支撑结构中的排放流体通道的压力的减压构件。排放流体通道包括:与第一导轨连通的第一流体通道、与第二导轨连通的第二流体通道、以及通过将第一流体通道和第二流体通道组合形成的第三流体通道。减压构件减小第三流体通道的压力。
用于处理基板的装置和用于处理基板的方法.pdf
本发明涉及用于处理基板的装置和用于处理基板的方法。本发明构思提供了一种掩模处理装置。该掩模处理装置包括支承单元,该支承单元被配置成支承并旋转掩模,该掩模在其多个单元内具有第一图案并且在该多个单元的区域之外具有第二图案;以及加热单元,该加热单元具有激光照射器,该激光照射器用于将激光照射到支承在该支承单元上的该掩模的特定区域;以及控制器,该控制器被配置成控制该支承单元和该加热单元,并且其中该支承单元包括:支承部,该支承部用于支承该掩模;以及移动台部,该移动台部被配置成移动该支承部的位置,并且其中该控制器控制该
用于处理基板的装置和方法.pdf
本发明涉及用于处理基板的装置和方法。一种用于处理基板的装置包括:光处理腔室,其具有内部空间;支承单元,其支承所述内部空间中的所述基板;以及照射单元,其将光照射到所述内部空间中的所述基板以去除残留在所述基板上的有机物,其中,所述照射单元包括:第一光源,其将第一光照射到所述基板;以及第二光源,其将第二光照射到所述基板,所述第二光与所述第一光具有不同的波长范围。