用于处理基板的传送单元和装置.pdf

(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN112289722A(43)申请公布日2021.01.29(21)申请号202010713689.8(22)申请日2020.07.22(30)优先权数据10-2019-00883542019.07.22KR(71)申请人细美事有限公司地址韩国忠清南道(72)发明人孔泰景宣珍成韩基元(74)专利代理机构北京市中伦律师事务所11410代理人钟锦舜酒向飞(51)Int.Cl.H01L21/677(2006.01)H01L21/67(2006.01)权利要求书3页说明书9页附图9页(54)发明名称用于处理基板的传送单元和装置(57)摘要本发明提供了一种用于传送基板的装置。传送基板的单元被描述为包括：支撑结构、用于放置基板的第一手部、与第一手部堆叠并且放置基板的第二手部、在支撑结构中引导第一支撑杆的运动以支撑第一手部的第一导轨、在支撑结构中引导第二支撑杆的运动以支撑第二手部的第二导轨、以及减小设置在支撑结构中的排放流体通道的压力的减压构件。排放流体通道包括：与第一导轨连通的第一流体通道、与第二导轨连通的第二流体通道、以及通过将第一流体通道和第二流体通道组合形成的第三流体通道。减压构件减小第三流体通道的压力。CN112289722ACN112289722A权利要求书1/3页1.一种用于传送基板的单元，所述单元包括：支撑结构；第一手部，用于放置所述基板；第二手部，与所述第一手部堆叠并且用于放置所述基板；第一导轨，设置在所述支撑结构中并且构造成引导第一支撑杆的运动以支撑所述第一手部；第二导轨，设置在所述支撑结构中并且构造成引导第二支撑杆的运动以支撑所述第二手部；以及减压构件，用于减小设置在所述支撑结构中的排放流体通道的压力，其中所述排放流体通道包括：第一流体通道，设置为与所述第一导轨连通；第二流体通道，设置为与所述第二导轨连通；以及第三流体通道，通过组合所述第一流体通道和所述第二流体通道而形成，其中，所述减压构件减小所述第三流体通道的压力。2.根据权利要求1所述的单元，其中所述第一流体通道和所述第二流体通道具有弯曲的部分。3.根据权利要求1或权利要求2所述的单元，其中所述第一导轨形成在所述支撑结构的侧表面上，并且其中所述第二导轨形成在所述支撑结构的顶表面上。4.根据权利要求1或权利要求2所述的单元，其中所述支撑结构包括：主体，包括所述排放流体通道、所述第一导轨和所述第二导轨；第一分隔部，定位于所述第一流体通道中并且构造成干扰气流，使得所述第一流体通道的气流管线被绕过；第二分隔部，定位于所述第二流体通道中并且构造成干扰气流，使得所述第二流体通道的气流管线被绕过，并且其中所述第三流体通道定位成比所述第一流体通道和所述第二流体通道更靠近于所述主体的中心轴。5.根据权利要求4所述的单元，其中所述第一分隔部从所述第一导轨向内定位，以面向所述第一导轨。6.根据权利要求5所述的单元，其中所述第一分隔部设置为从形成所述第一流体通道的顶表面向下延伸并且与形成所述第一流体通道的底表面间隔开。7.根据权利要求4所述的单元，其中所述第二分隔部定位在所述第二导轨下，同时面向所述第二导轨。8.根据权利要求4至7中任一项所述的单元，其中所述第三流体通道是通过组合所述第一流体通道和所述第二流体通道而形成，并且具有朝向所述中心轴延伸的第一区域以及从所述第一区域向下延伸的第二区域，并且其中所述第一区域被定位为高于所述第一分隔部的下端。9.一种用于传送基板的单元，所述单元包括：支撑结构；2CN112289722A权利要求书2/3页第一手部，用于放置所述基板；第二手部，与所述第一手部堆叠并且用于放置所述基板；第一导轨，设置在所述支撑结构中并且构造成引导第一支撑杆的运动以支撑所述第一手部；第二导轨，设置在所述支撑结构中并且构造成引导第二支撑杆的运动以支撑所述第二手部；并且其中所述第一导轨形成在所述支撑结构的侧表面上，并且其中所述第二导轨形成在所述支撑结构的顶表面上。10.根据权利要求9所述的单元，其中设置多个第一导轨和多个第二导轨，其中所述多个第一导轨设置在所述支撑结构的相反侧表面上，其中所述多个第二导轨形成在所述支撑的顶表面上。其中将所述第一支撑杆连接至所述多个第一导轨，并且其中将所述第二支撑杆连接至所述多个第二导轨。11.根据权利要求10所述的单元，其中所述第一手部定位在所述第二手部上。12.根据权利要求11所述的单元，其进一步包括减压构件，用于减小设置在所述支撑结构中的排放流体通道的压力，其中所述排放流体通道包括：第一流体通道，设置为与所述第一导轨连通；第二流体通道，设置为与所述第二导轨连通；第三流体通道，通过组合所述第一流体通道和所述第二流体通道而形成；并且其中，所述减压构件减小所述第三流体通道的压