一种用于构筑成形基材清洗的自动化双面清洗设备.pdf
康平****ng
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一种用于构筑成形基材清洗的自动化双面清洗设备.pdf
本发明公开了一种用于构筑成形基材清洗的自动化双面清洗设备,包括控制系统、传感系统、金属基材翻转系统和清洗系统。本发明采用干湿复合擦洗的清洁方式,可以有效去除金属基材表面的油污,灰尘等残留物,显著提高表面清洗质量。本发明在两条水平导轨中间按照合适的距离布置双工位,以实现龙门框架和清洗系统在不同工位之间的转换,减少清洗过程的辅助时间,提高整个清洗机构的效率。本发明主要是针对边长超过20cm的大尺寸金属基材的清洗,所设计的结构更适合进行工程化应用。本发明结构简单,自动化程度高,不会重新引入污染物和破坏工金属基材
一种用于构筑成形的基材清洗方法.pdf
本发明公开了一种用于构筑成形的基材清洗方法,通过分析基材表面污染物种类(主要以油污、颗粒、粘屑等为主),选用高压气流喷射清洗主要去除铣削切屑和灰尘等。用清洗液喷淋辅助辊子擦拭的方式拭除基材表面的油污等有机污染物。用喷头式超声清洗能够去除基材表面的微小颗粒物,喷头式超声清洗机能提供高洁净度清洗效果,并能保护基材免受损害,有效防止颗粒再附着,彻底清除微细污染。最后用去离子水清洗清洗液残留。相比传统基材清洗方式,清洗效率高,清洗质量均一,清洗效果好,可以应用于自动化清洗设备,极大的降低了基材清洗过程中的人力损耗
一种玻璃板双面清洗设备.pdf
本发明公开了一种玻璃板双面清洗设备,包括机架,在所述机架上设置清洗治具机构,对应所述清洗治具机构上方设置支撑架,在所述支撑架前方设置去毛刺机构,在所述支撑架内部设置摆动清洗机构,在所述机架右侧设置输送机构,在所述机架前方设置移栽机构,所述输送机构和所述清洗治具机构均位于所述移栽机构工作范围内,在所述输送机构上从左至右依次设置烘干机构和视觉检测机构;采用上述方案,本发明结构简单,使用方便,实现自动化,节省人工,可对玻璃板实现双面清洗功能,而且结构紧凑,清洗治具和清洗装置上下对应全面清洗,清洗完成后对工件进行
一种半导体硅片双面清洗设备.pdf
本发明公开了一种半导体硅片双面清洗设备,涉及半导体硅片技术领域;改善单片式单面清洗效率较低的问题,而本发明包括清洗框和设置在清洗框顶部的保护框,所述清洗框的内表面转动连接有转动轴,所述转动轴的外周设置有安装环,所述转动轴的外表面与安装环的内表面之间通过固定杆固定连接,所述转动轴的外表面固定连接有支撑杆;本发明通过安装环的设置,使装置可以同时对多个半导体硅片进行清洗,通过联动机构的设置,对半导体硅片的边缘进行夹持固定,保证半导体硅片清洗稳定的同时,使装置可以清洗半导体硅片的两面,从而增加装置的清洗效率,通过
一种半导体硅片双面清洗设备.pdf
本发明涉及半导体生产设备技术领域,且公开了一种半导体硅片双面清洗设备,包括底座,所述底座的顶部固定安装有支撑架,所述底座的内部掏空设置,所述底座的内部设置有转动杆,所述转动杆的左右两端分别与底座的左右两侧壁转动设置。该半导体硅片双面清洗设备,将半导体硅片通过固定槽放置到两个清洗盘之间时,在半导体硅片侧面挤压力的作用下会使清洗夹杆发生转动,进而可以对半导体硅片进行夹紧固定防止在清洗时对其表面造成伤害,同时,半导体硅片在进入到清洗盘之间时,其半导体硅片的外表面会在清洗杆上面滑动,进而利用此状态可以对半导体硅片