一种半导体硅片双面清洗设备.pdf

(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN113909177A(43)申请公布日2022.01.11(21)申请号202111200824.X(22)申请日2021.10.15(71)申请人南通睿基自动化技术有限公司地址226001江苏省南通市崇川区工农路488号201单元(72)发明人顾建季国鈊(74)专利代理机构苏州瞪羚知识产权代理事务所(普通合伙)32438代理人周治宇(51)Int.Cl.B08B1/02(2006.01)B08B1/00(2006.01)B08B3/10(2006.01)B08B5/02(2006.01)B08B13/00(2006.01)权利要求书1页说明书4页附图3页(54)发明名称一种半导体硅片双面清洗设备(57)摘要本发明涉及半导体生产设备技术领域，且公开了一种半导体硅片双面清洗设备，包括底座，所述底座的顶部固定安装有支撑架，所述底座的内部掏空设置，所述底座的内部设置有转动杆，所述转动杆的左右两端分别与底座的左右两侧壁转动设置。该半导体硅片双面清洗设备，将半导体硅片通过固定槽放置到两个清洗盘之间时，在半导体硅片侧面挤压力的作用下会使清洗夹杆发生转动，进而可以对半导体硅片进行夹紧固定防止在清洗时对其表面造成伤害，同时，半导体硅片在进入到清洗盘之间时，其半导体硅片的外表面会在清洗杆上面滑动，进而利用此状态可以对半导体硅片进行预清理，进而提高该装置的清洗效果。CN113909177ACN113909177A权利要求书1/1页1.一种半导体硅片双面清洗设备，包括底座（1），其特征在于：所述底座（1）的顶部固定安装有支撑架（11），所述底座（1）的内部掏空设置，所述底座（1）的内部设置有转动杆（12），所述转动杆（12）的左右两端分别与底座（1）的左右两侧壁转动设置，所述支撑架（11）的左右两侧壁上设置有气体管（2），两个所述气体管（2）分别转动贯穿支撑架（11）的两侧壁并延伸至外侧，左侧所述气体管（2）的延伸部固定连接有电机（21）。2.根据权利要求1所述的一种半导体硅片双面清洗设备，其特征在于：两个所述气体管（2）延伸部的外表面与转动杆（12）的外表面之间套设有皮带（22），所述底座（1）顶部外表面的左右两侧开设有放置槽（13），两个所述皮带（22）远离气体管（2）的一端分别设置在两个放置槽（13）的内部，所述支撑架（11）远离底座（1）顶部的一端固定连接有清洗管（3），所述清洗管（3）的左右两侧分别设置有清洗喷头（31），所述底座（1）的顶部中轴处固定连接有两个清洗盘（32），两个所述清洗盘（32）之间形成一个固定槽（33）。3.根据权利要求2所述的一种半导体硅片双面清洗设备，其特征在于：所述清洗盘（32）的左右两侧外壁上分别铰接有若干个清洗夹杆（4），若干个所述清洗夹杆（4）远离清洗盘（32）的一端分别转动设置有若干个清洗杆（41），所述清洗夹杆（4）把清洗杆（41）设置成上长下短。4.根据权利要求3所述的一种半导体硅片双面清洗设备，其特征在于：两个所述气体管（2）的外表面分别铰接有若干个弧形离心杆（5），若干个所述弧形离心杆（5）远离气体管（2）外表面的一端分别固定连接有若干个弧形清洗增强杆（51），每两个所述清洗杆（41）之间设置一个弧形清洗增强杆（51）。5.根据权利要求4所述的一种半导体硅片双面清洗设备，其特征在于：若干个所述弧形离心杆（5）的外表面分别固定连接有弧形拉杆（6），若干个所述弧形拉杆（6）远离弧形离心杆（5）外表面的一端固定连接有活塞杆（61），所述活塞杆（61）设置在气体管（2）的内部。6.根据权利要求5所述的一种半导体硅片双面清洗设备，其特征在于：所述活塞杆（61）滑动贯穿气体管（2）的侧壁并延伸至外侧，若干个所述弧形拉杆（6）分别与活塞杆（61）的延伸部外表面固定连接。7.根据权利要求6所述的一种半导体硅片双面清洗设备，其特征在于：所述活塞杆（61）远离弧形拉杆（6）的一端固定连接有挤压板（7），所述挤压板（7）滑动设置在气体管（2）的内部，所述气体管（2）远离挤压板（7）的一端侧壁上分别开设有若干个气体孔（71）。2CN113909177A说明书1/4页一种半导体硅片双面清洗设备技术领域[0001]本发明涉及半导体生产设备技术领域，具体为一种半导体硅片双面清洗设备。背景技术[0002]半导体指常温下导电性能介于导体与绝缘体之间的材料。半导体在集成电路、消费电子、通信系统、光伏发电、照明、大功率电源转换等领域都有应用，如二极管就是采用半导体制作的器件。无论从科技或是经济发展的角度来看，半导体的重要性都是非常巨大的。大部分的电子产品，如计算机、移动电话或是数字录音机当中的核心单元都和半导体有着极为密切的关联。常见的半导体材料有硅、锗、