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(19)国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN114618852A(43)申请公布日2022.06.14(21)申请号202210533387.1(22)申请日2022.05.17(71)申请人江苏浦贝智能科技有限公司地址226600江苏省南通市海安市胡集街道西苏路9号(72)发明人江志祥(74)专利代理机构南通国鑫智汇知识产权代理事务所(普通合伙)32606专利代理师顾新民(51)Int.Cl.B08B11/00(2006.01)B08B5/02(2006.01)B08B7/00(2006.01)B08B13/00(2006.01)H01L21/67(2006.01)权利要求书2页说明书6页附图4页(54)发明名称一种半导体加工用除胶机及除胶方法(57)摘要本发明公开了一种半导体加工用除胶机及除胶方法,涉及半导体除胶领域,包括箱体外壳,所述箱体外壳内部滑动连接有滑动块,所述箱体外壳内部安装有真空泵,所述真空泵与所述滑动块之间连接有气压波纹管,所述滑动块内部设置有喷嘴,所述滑动块顶部设置有限位盘,所述限位盘顶部滑动连接有滑块,所述滑块内部开设有一对与所述喷嘴配合的过槽。本发明通过真空泵负压带动滑动块移动,移动过程中等离子气体随着喷嘴的移动对晶片进行喷涂,并在滑动块复位时通过空气进行残留清除,且可通过重复步骤进行深度吹扫,避免了传统干式除胶法残留较多的弊端。CN114618852ACN114618852A权利要求书1/2页1.一种半导体加工用除胶机,包括箱体外壳(1),其特征在于:所述箱体外壳(1)内部滑动连接有滑动块(10),所述箱体外壳(1)内部安装有真空泵(14),所述真空泵(14)与所述滑动块(10)之间连接有气压波纹管(11),所述滑动块(10)内部设置有喷嘴(7),所述滑动块(10)顶部设置有限位盘(17),所述限位盘(17)顶部滑动连接有滑块(18),所述滑块(18)内部开设有一对与所述喷嘴(7)配合的过槽(20),所述滑块(18)顶部设置有与所述过槽(20)配合的空气管(21),所述滑块(18)顶部设置有与所述过槽(20)配合的等离子气体管(19),所述滑块(18)两侧设置有与所述箱体外壳(1)配合的翼板机构,所述箱体外壳(1)内部上端开设有与所述翼板机构配合的滑槽;所述滑动块(10)两侧皆设置有多组相互配合的封顶板(3),所述封顶板(3)底部设置有固定翼板(12),所述封顶板(3)顶部开设有与所述固定翼板(12)配合的翼板滑槽(13)。2.根据权利要求1所述的一种半导体加工用除胶机,其特征在于:所述箱体外壳(1)内壁设置有与所述滑动块(10)配合的滑动轨道(2),所述滑动块(10)外侧开设有与所述滑动轨道(2)配合的固定槽。3.根据权利要求1所述的一种半导体加工用除胶机,其特征在于:所述箱体外壳(1)内部底端设置有聚水底盘(5),所述聚水底盘(5)顶部设置有透水托盘(4),所述透水托盘(4)顶部放置有晶片(6),所述聚水底盘(5)底部设置有贯穿所述箱体外壳(1)的回液管(8)。4.根据权利要求1所述的一种半导体加工用除胶机,其特征在于:所述箱体外壳(1)与所述滑动块(10)之间连接有多组复位弹簧(9),所述箱体外壳(1)内部开设有与所述真空泵(14)配合的内腔真空吸口(15)。5.根据权利要求1所述的一种半导体加工用除胶机,其特征在于:所述箱体外壳(1)外侧铰接有门板(16),所述箱体外壳(1)靠近所述门板(16)处设置有密封圈。6.实现权利要求1‑5任一项所述的一种半导体加工用除胶机的除胶方法,其特征在于,包括以下步骤:步骤一:将晶片(6)放置于透水托盘(4)顶部,再将透水托盘(4)放置于聚水底盘(5)顶部,关闭门板(16);步骤二:开启设备,真空泵(14)开始工作,对气压波纹管(11)进行抽气,同时通过内腔真空吸口(15)对箱体外壳(1)内部进行抽真空;步骤三:气压波纹管(11)内部空气被抽出,进而开始压缩收紧,从而带动滑动块(10)移动;步骤四:滑动块(10)移动时带动限位盘(17)移动,限位盘(17)相对滑块(18)进行滑动,当滑块(18)滑动至限位盘(17)的一端后,与等离子气体管(19)配合的过槽(20)也达到与喷嘴(7)联通的位置,此时喷嘴(7)开始向晶片(6)喷射等离子气体;步骤五:随着气压波纹管(11)被抽真空,滑动块(10)移动至箱体外壳(1)内部另一端,移动过程中,等离子气体随着喷嘴(7)的移动,对晶片(6)进行均匀的喷涂,等离子气体对晶片(6)顶部光刻胶进行分解,产生的气体随着真空泵(14)的抽气而排出至外部气体回收设备,而等离子气体在反应过后产生的液体穿过透水托盘(4)进入聚水底盘(5),在聚水底盘(5)的汇聚下流进回液管(8),进而输送至外部液体处理设备;步骤六:当