

一种铜箔载体的制备方法及铜箔载体.pdf
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一种铜箔载体的制备方法及铜箔载体.pdf
本发明公开了一种铜箔载体的制备方法,包括以下步骤:S1:提供内衬层,所述内衬层的中间部分为支撑区域,边缘部分为粘结区域,粘结区域附着有粘结树脂;S2:将内衬层放在两片铜箔之间,形成叠合体;S3:将所述叠合体送入压机进行真空、高温高压压制,得到铜箔载体。根据本发明提供的方法制得的铜箔载体,可以同时满足支撑强度、真空度、封闭效果、铜箔可剥离性的要求,可以用于在铜箔表面进行精细线路后半埋嵌线路方法制作,其铜箔上的精细线路在被埋入PP内,仅保留部分铜箔层在介质层PP表面,根据需求从而降低沉铜电镀后PP外侧的总铜厚
一种铜箔载体的制作方法及铜箔载体.pdf
本发明提供了一种铜箔载体的制作方法及铜箔载体,其制作方法包括:在第一铜箔上粘附封装粘结框,将第二铜箔设置在第一铜箔粘附封装粘结框的一侧,以形成叠配组合结构。对叠配组合结构进行真空处理和热压固化,以生成铜箔载体。与现有技术相比,本发明提供的铜箔载体的制作方法及铜箔载体,具有不需要内衬层,以此可以节约成本、减少工序及其它异常;另外,铜箔上印制粘结边框层时只需要1面铜箔即可,简化工艺;在后续蚀刻线路时不会产生铜箔浮起,不会产生蚀刻液渗漏的问题;具有耐受高温高压,定位捞铣后铜箔可分离且不污染铜层表面的优点。
一种铜箔载体的制作方法及铜箔载体.pdf
本发明提供了一种铜箔载体的制作方法及铜箔载体,其制作方法包括:在第一铜箔上粘附封装粘结框,将第二铜箔设置在第一铜箔粘附封装粘结框的一侧,以形成叠配组合结构。对叠配组合结构进行真空处理和热压固化,以生成铜箔载体。与现有技术相比,本发明提供的铜箔载体的制作方法及铜箔载体,具有不需要内衬层,以此可以节约成本、减少工序及其它异常;另外,铜箔上印制粘结边框层时只需要1面铜箔即可,简化工艺;在后续蚀刻线路时不会产生铜箔浮起,不会产生蚀刻液渗漏的问题;具有耐受高温高压,定位捞铣后铜箔可分离且不污染铜层表面的优点。
一种载体超薄铜箔及其制备方法.pdf
本发明公开了一种载体超薄铜箔,包括载体层、中间层与超薄铜箔层,中间层为厚度为10?20nm的合金层,超薄铜箔层的厚度为3?5μm。本发明还提供了上述载体超薄铜箔的制备方法,包括步骤:(1)选取铝箔作为载体,清洗载体表面;(2)在载体表面电镀合金层作为中间层;(3)在合金层上电镀超薄铜箔层。本发明能够制备具有比较适当、均匀稳定剥离强度的5μm以下的超薄铜箔。
一种附载体超薄铜箔及其制备方法.pdf
本发明公开了一种附载体超薄铜箔,包括金属箔载体层、合金层与超薄铜箔层;超薄铜箔层的厚度为1?4μm,通过光催化沉积法沉积于合金层上;合金层通过电镀沉积于金属箔载体层上,电解液为含有稀土元素Ce的Ni?Co合金溶液。本发明还提供了上述附载体超薄铜箔的制备方法,包括步骤:(1)对金属箔载体层进行预处理;(2)在金属箔载体层表面电沉积合金层;(3)在合金层表面沉积超薄铜箔层:在含有光催化剂的硫酸铜混合溶液中通过光催化沉积法在金属箔载体层上形成超薄铜箔层。本发明能够得到可与载体稳定分离的超薄铜箔,剥离后的超薄铜箔