一种铜箔载体的制备方法及铜箔载体.pdf
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一种铜箔载体的制备方法及铜箔载体.pdf
本发明公开了一种铜箔载体的制备方法,包括以下步骤:S1:提供内衬层,所述内衬层的中间部分为支撑区域,边缘部分为粘结区域,粘结区域附着有粘结树脂;S2:将内衬层放在两片铜箔之间,形成叠合体;S3:将所述叠合体送入压机进行真空、高温高压压制,得到铜箔载体。根据本发明提供的方法制得的铜箔载体,可以同时满足支撑强度、真空度、封闭效果、铜箔可剥离性的要求,可以用于在铜箔表面进行精细线路后半埋嵌线路方法制作,其铜箔上的精细线路在被埋入PP内,仅保留部分铜箔层在介质层PP表面,根据需求从而降低沉铜电镀后PP外侧的总铜厚
一种载体超薄铜箔及其制备方法.pdf
本发明公开了一种载体超薄铜箔,包括载体层、中间层与超薄铜箔层,中间层为厚度为10?20nm的合金层,超薄铜箔层的厚度为3?5μm。本发明还提供了上述载体超薄铜箔的制备方法,包括步骤:(1)选取铝箔作为载体,清洗载体表面;(2)在载体表面电镀合金层作为中间层;(3)在合金层上电镀超薄铜箔层。本发明能够制备具有比较适当、均匀稳定剥离强度的5μm以下的超薄铜箔。
一种可剥离超薄载体铜箔的制备方法.pdf
本发明涉及一种可剥离超薄载体铜箔的制备方法,为5G通信高频高速印制电路板提供关键性材料。本发明的可剥离超薄载体铜箔按照顺序依次为18μm载体铜箔、浸镀金属层、有机阻挡层、剥离层、超薄铜箔层及粗化层,本发明的浸镀金属层能够降低铜面的等电位点,增强载体铜箔与有机层的结合力,满足抗剥离强度的要求;将有机层和金属层共同作为剥离层使用,能够解决单一有机层在电沉积超薄铜箔层时容易引起导电不良、厚度不均匀以及使用前易于脱离载体的问题。本发明所制备的超薄载体铜箔厚度均在5μm左右,且都能成功剥离,表面也无铜粉和剥离层的残
一种载体铜箔及其制备方法和应用.pdf
本发明提供了一种载体铜箔及其制备方法和应用,包括电解铜箔以及设置于所述电解铜箔一侧的载体层;其中,所述电解铜箔的厚度为3‑9μm。本发明提供的载体铜箔可以有效避免超薄铜箔在生产、运输、使用过程中产生褶皱、撕裂、打折等问题,可实现以卷对卷方式连续化生产,适合大面积推广;同时载体层易于剥离,且剥离载体层后既不会损害铜箔层,也无载体层残留;同时本发明提供的制备方法简单,易于操作。
表面处理铜箔、附载体铜箔、基材、及树脂基材.pdf
本发明涉及一种表面处理铜箔、附载体铜箔、基材、及树脂基材。提供一种可在去除铜箔后赋予基材面的轮廓形状的表面处理铜箔,该轮廓形状可维持微细配线形成性,且实现无电镀铜被膜的良好密合力。提供一种基材,从表面处理层侧将表面处理铜箔贴合在基材,将该表面处理铜箔去除时,该基材的该铜箔去除侧表面的三维表面积B与二维表面积A的比B/A为1.01~1.5。提供一种树脂基材,从表面处理层侧将表面处理铜箔贴合在树脂基材,将该表面处理铜箔去除时,该树脂基材的该铜箔去除侧表面的黑色面积率为10~50%,且该树脂基材的该铜箔去除侧表