一种低残留的洁面组合物及其制备方法.pdf

(19)国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN114917136A(43)申请公布日2022.08.19(21)申请号202210699764.9A61K8/86(2006.01)(22)申请日2022.06.20A61K8/60(2006.01)A61K8/64(2006.01)(71)申请人水羊化妆品制造有限公司A61Q19/10(2006.01)地址410000湖南省长沙市长沙高新开发A61Q1/14(2006.01)区谷苑路390号A61Q17/04(2006.01)(72)发明人戴跃锋汪建明闫加雷钱景茹张廷志(74)专利代理机构北京集佳知识产权代理有限公司11227专利代理师任洁芳(51)Int.Cl.A61K8/26(2006.01)A61K8/44(2006.01)A61K8/92(2006.01)A61K8/46(2006.01)权利要求书2页说明书14页附图4页(54)发明名称一种低残留的洁面组合物及其制备方法(57)摘要本申请公开了一种低残留的洁面组合物，包括泥清洁剂、氨基酸表面活性剂、辅助表面活性剂、助剂和溶剂；其中，所述泥清洁剂包括伊利水云母和水辉石。本申请还提供一种低残留的洁面组合物的制备方法。本发明提供的洁面组合物，采用氨基酸表面活性剂作为主体，并复配辅助表面活性剂，同时加入伊利水云母和水辉石作为泥清洁剂，保证温和的同时，大大降低了洗后表面活性剂在皮肤的残留，降低了产品对皮肤的长期伤害。CN114917136ACN114917136A权利要求书1/2页1.一种低残留的洁面组合物，其特征在于，包括泥清洁剂、氨基酸表面活性剂、辅助表面活性剂、助剂和溶剂；其中，所述泥清洁剂包括伊利水云母和水辉石。2.根据权利要求1所述的低残留的洁面组合物，其特征在于，所述洁面组合物还包括卸妆剂，所述卸妆剂选自聚甘油‑4癸酸酯、糖脂、枯草菌脂肽钠中的任意一种或多种。3.根据权利要求2所述的低残留的洁面组合物，其特征在于，以重量百分比计，洁面组合物包括泥清洁剂0.2‑30％、氨基酸表面活性剂10‑20％、辅助表面活性剂9‑28％、助剂22‑45.7％、卸妆剂0.21‑10％，余量为溶剂。4.根据权利要求3所述的低残留的洁面组合物，其特征在于，以重量百分比计，洁面组合物中包括聚甘油‑4癸酸酯0.1‑4％、糖脂0.1‑5％、枯草菌脂肽钠0.01‑1％。5.根据权利要求1所述的低残留的洁面组合物，其特征在于，所述氨基酸表面活性剂选自椰油酰甘氨酸钾、椰油酰甘氨酸钠、椰油酰基甘氨酸三乙醇胺盐、月桂酰甘氨酸钾、月桂酰甘氨酸钠、月桂酰基甘氨酸三乙醇胺盐、棕榈油酰甘氨酸钾、棕榈油酰甘氨酸钠、棕榈油酰基甘氨酸三乙醇胺盐中的任意一种或多种；所述辅助表面活性剂选自月桂基甘醇羧酸钠、椰油酰两性基二乙酸二钠、月桂醇磺基琥珀酸酯二钠、椰油酰胺丙基甜菜碱、椰子油单乙醇酰胺磺基琥珀酸单酯二钠盐、烷基磷酸酯盐中的任意一种或多种。6.根据权利要求1所述的低残留的洁面组合物，其特征在于，助剂包括pH调节剂、增稠剂、防腐剂、保湿剂中的任意一种或多种。7.根据权利要求6所述的低残留的洁面组合物，其特征在于，所述洁面组合物以重量百分比计，包括pH调节剂1‑1.6％、增稠剂0.5‑3％、防腐剂0.5‑1.1％、保湿剂20‑40％、8.根据权利要求6所述的低残留的洁面组合物，其特征在于，所述pH调节剂选自柠檬酸、氢氧化钾、氢氧化钠中的任意一种或多种；所述增稠剂为丙烯酸酯类共聚物；所述防腐剂选自苯氧乙醇、DMDM乙内酰脲、双咪唑烷基脲、尼泊金甲酯、对羟基苯乙酮、尼泊金乙酯、苯甲酸、苯甲酸钠中的任意一种或多种；所述保湿剂为甘油。9.根据权利要求1所述的低残留的洁面组合物，其特征在于，以重量百分比计，包括以下组分：水辉石4％、伊利水云母12％、聚甘油‑4癸酸酯1％、糖脂0.5％、枯草菌脂肽钠0.1％、椰油酰甘氨酸钾15％、月桂基甘醇羧酸钠13％、椰油酰两性基二乙酸二钠5％、月桂醇磺基琥珀酸酯二钠4％、柠檬酸1％、苯氧乙醇0.2％、对羟基苯乙酮0.5％、甘油30％、丙烯酸酯类共聚物1％、水余量。10.一种权利要求9所述的低残留的洁面组合物的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：将聚甘油‑4癸酸酯、糖脂、枯草菌肽钠、椰油酰甘氨酸钾、月桂基甘醇羧酸钠、椰油酰两性基二乙酸二钠、月桂醇磺基琥珀酸酯二钠，以及柠檬酸、对羟基苯乙酮和部分水升温至80℃混匀，保温20‑40min，得到保温液体；使用剩余水分散增稠剂，得到增稠剂稀释溶液；将保温液体降温至60℃，加入增稠剂稀释液，混匀；然后加入水辉石、伊利水云母、甘2CN114917136A权利要求书2/2页油，混匀；再降温至45℃，加入苯氧乙醇，均质至无结团；然后继续降温至38℃，过滤，即得。3CN114917136A说明书1/1