具有集成导体元件的电子装置及其制造方法.pdf
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相关资料
具有集成导体元件的电子装置及其制造方法.pdf
一种电子装置包括具有安装面和电连接网络的支撑板。集成电路芯片安装在安装面上并连接至电连接网络。封装块使得集成电路芯片嵌入。由导电材料制成的额外元件至少部分地嵌入在封装块中。额外导电元件具有平行于支撑板延伸的主要部分,并且具有电连接至集成电路芯片的次要部分。开口形成在封装块中,并且次要部分延伸进入该开口中以形成电链路。额外导电元件可以是天线。
半导体元件及其制造方法.pdf
一种半导体元件及其制造方法,制造方法包含形成栅极结构于半导体基板上;沉积含碳密封层于栅极结构之上;沉积含氮密封层于含碳密封层之上;引入含氧前驱物于含氮密封层上;加热基板使含氧前驱物解离成氧自由基,以将氧自由基掺杂至含氮密封层中;于加热基板后,蚀刻含氮密封层及含碳密封层,使得含氮密封层及含碳密封层的剩余物留在栅极结构的侧壁上作为栅极间隙壁。
半导体发光元件及其制造方法.pdf
本公开涉及半导体发光元件,其特征在于,包括:主体,其包括底部,在底部形成有至少一个以上的孔;半导体发光元件芯片,其位于各个至少一个以上的孔内,包括多个半导体层和电极,多个半导体层包括通过电子和空穴的复合生成光的有源层,上述电极与多个半导体层电连接;以及密封材料,其覆盖半导体发光元件芯片,其中,形成孔的底部内侧面具有多个倾斜角。
具有掩埋栅结构的半导体装置及其制造方法.pdf
一种半导体装置包括:衬底,其包括由隔离层限定的有源区;掩埋栅结构,其设置在衬底中形成的沟槽中;以及第一掺杂区和第二掺杂区,形成在有源区中并且由沟槽隔开,其中,掩埋栅结构包括共形地覆盖沟槽的栅电介质层;以及栅电极,其包括在栅电介质层上部分地填充沟槽的第一部分和形成在第一部分上的第二部分,其中,第二部分包括:第一部分中所包括的材料和包括磷(P)、锗(Ge)或它们的组合的掺杂剂,以及其中,第一部分不与第一掺杂区和第二掺杂区横向重叠,并且第二部分的全部或部分与第一掺杂区和第二掺杂区横向重叠。
半导体元件及其制造方法.pdf
半导体元件具备:在基板上形成的包含碳化硅的半导体层(10);形成在半导体层(10)表面上的第1导电类型半导体区域(15);在半导体层表面(10s)上包围第1导电类型半导体区域(15)的第2导电类型半导体区域(14);以及具有与第1导电类型半导体区域(15)和第2导电类型半导体区域(14)接触的导电面(19s)的导电体(19),在半导体层表面(10s)上,第1导电类型半导体区域(15)具有沿着第1轴(i)延伸的至少一个第1带状部分(60、61),第1导电类型半导体区域(15)的沿着第1轴(i)的宽度(C1)