

钴靶材的加工方法.pdf
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相关资料
钴靶材的加工方法.pdf
一种钴靶材的加工方法,包括:提供钴靶材;对所述钴靶材表面进行切削;对切削后的钴靶材表面进行磨削,所述磨削采用金刚石砂轮或立方氮化硼砂轮,所述金刚石砂轮的砂轮线速为15米/秒~35米/秒、立方氮化硼砂轮的砂轮线速为20米/秒~40米/秒,磨削吃刀量为0.005~1毫米。本发明提供的钴靶材的加工方法,使得经过切削后的钴靶材表面的粗糙度进一步的降低,获得了符合溅射需求的钴靶材。
钴靶材组件的制作方法.pdf
一种钴靶材组件的制作方法,所述方法包括:提供钴靶材,所述钴靶材的钴含量大于90%;利用化学镀工艺,在所述钴靶材焊接面上形成镍镀层;将化学镀处理后的钴靶材焊接至背板。采用本发明的技术方案,可以提供结合牢固度高的钴靶材组件。
高纯钴靶材的制备方法.pdf
本发明提供的高纯钴靶材的制备方法,包括:将钴粉装入模具;冷压成型;真空热压烧结。与传统的通过高真空电子束熔炼炉获得高纯钴锭、然后对钴锭反复进行塑性变形和退火制得钴靶坯的工艺相比,本发明通过粉末冶金的真空热压烧结技术直接由粉末制得钴靶坯,获得致密且分布均匀的可用于半导体靶材制造用的钴靶坯,克服了钴靶材由于质地坚硬易碎,而在塑性变形加工过程中容易产生裂纹而导致报废率高的问题。
一种靶材制备装置及其靶材加工方法.pdf
本发明提供了一种靶材制备装置,包括烧结炉体、复合加热模具、加压装置和加热装置,所述烧结炉体的内腔为真空或气氛保护腔体,复合加热模具置于烧结炉体的内腔内;所述复合加热模具设有内腔,被加工的靶材粉末置于复合加热模具的内腔内;所述加压装置与复合加热模具连接,且加热装置与加压装置连接,可直接对样品加热,复合加热模具可以单独加热。本发明还提供了由上述装置实现的靶材加工方法。本发明可用于制造大尺寸、高熔点、高密度及组成成分的熔点差别较大的合金靶材,同时本发明具有设备简单、烧结时间短、能量效率高、设备及模具损耗小、成本
一种钴钽锆靶材的制备方法.pdf
本发明揭示了一种钴钽锆靶材的制备方法,包括以下步骤:按照靶材所需的配比称量Co、Zr和Ta原材料,将原材料装入磁悬浮感应熔炼炉的水冷坩埚内,得到混合物料;将混合物料进行熔炼后得到合金锭;将合金锭进行精炼后得到合金熔体;将合金熔体进行浇铸后得到铸锭;将铸锭进行热轧后得到靶坯;将靶坯进行机加工后得到靶材。本发明提供的一种钴钽锆靶材的制备方法,通过结合熔炼、精炼两种不同的方式制备钴钽锆合金靶材,能有效解决现有技术制备钴钽锆合金靶材纯度底、晶粒大小分布不均且工艺复杂的技术问题。