用于基材磁流变抛光的系统.pdf

(19)中华人民共和国国家知识产权局*CN103269828A*(12)发明专利申请(10)申请公布号(10)申请公布号CNCN103269828103269828A(43)申请公布日2013.08.28(21)申请号201180062314.9(74)专利代理机构北京市柳沈律师事务所(22)申请日2011.12.2011105代理人邢岳(30)优先权数据12/977,1802010.12.23US(51)Int.Cl.B24B1/00(2006.01)(85)PCT申请进入国家阶段日2013.06.24(86)PCT申请的申请数据PCT/US2011/0659652011.12.20(87)PCT申请的公布数据WO2012/088002EN2012.06.28(71)申请人QED技术国际股份有限公司地址美国伊利诺伊州(72)发明人W.考登斯基S.格劳德金A.赛克里斯权权利要求书1页利要求书1页说明书5页说明书5页附图5页附图5页(54)发明名称用于基材磁流变抛光的系统(57)摘要用于基材的磁流变抛光的系统。集成流体管理模块(IFMM)提供了在常规MR抛光装置上的MR流体的流变流体性能的动态控制，并将流体分配到轮。充有MR流体的磁屏蔽腔室与承载轮接触。当带状物离开加工区域时，横向线从所述轮上去除使用过的MR流体。补充流体通过滴头加入到所述腔室中，以及优选地，电动混合器搅拌所述腔室内的MR流体。当所述轮转动时，在所述腔室的出口处的槽磁屏蔽插入物在所述承载轮上形成了抛光带。对磁性粒子浓度敏感的传感器提供了用于控制MR流体性质，尤其是在所述MR流体中水含量的信号。在所述腔室内提供了用于冷却流体的装置。CN103269828ACN1032698ACN103269828A权利要求书1/1页1.用于具有承载轮的磁流变抛光系统中的集成流体管理模块，包含：a)其中具有磁屏蔽腔室的壳体，所述腔室具有通向所述承载轮表面的开口；b)在所述腔室内的用于接收使用过的磁流变流体和对其进行补充的装置；以及c)安装到所述壳体的带状物挤出器，其用于从所述腔室将经补充的磁流变流体的带状物挤出到所述轮表面上。2.根据权利要求1的系统，进一步包括在所述壳体和所述轮表面之间的密封装置。3.根据权利要求2的系统，其中所述密封装置部分地围绕着所述开口。4.根据权利要求2的系统，其中所述密封装置包括多个条形磁体。5.根据权利要求1的系统，进一步包括设置在所述腔室内的混合器叶轮。6.根据权利要求5的系统，其中所述混合器叶轮由电机提供动力。7.根据权利要求1的系统，进一步包括设置在所述本体上的带状物导流线，其用于将使用过的磁流变流体从所述轮的表面引导至所述腔室中。8.根据权利要求1的系统，进一步包含将流体供给到所述腔室的装置。9.根据权利要求1的系统，进一步包含用于探测在所述腔室内的磁流变流体中的磁性颗粒的浓度的第一传感器。10.根据权利要求1的系统，进一步包含用于探测在所述腔室内的磁流变流体的温度的第二传感器。11.根据权利要求1的系统，进一步包含设置在所述壳体上用于冷却在所述腔室内的磁流变流体和用于从其中散热的装置。12.用于通过磁流体对基材进行磁流变抛光的系统，包含：a)承载轮；b)一对基本上镜像的磁极片，其在所述承载轮相对侧被彼此相对设置，用于在其中使所述磁流变流体磁硬化的加工区域内产生磁场；以及c)集成流体管理模块，包括其中具有磁屏蔽腔室的壳体，所述腔室具有通向所述承载轮表面的开口；在所述腔室内的用于接收使用过的磁流变流体和对其进行补充的装置；以及安装到所述壳体的带状物挤出器，其用于从所述腔室将经补充的磁流变流体的带状物挤出到所述轮表面上。2CN103269828A说明书1/5页用于基材磁流变抛光的系统技术领域[0001]本发明涉及用于基材的磁辅助的磨蚀性抛光和磨光的系统；更特别地涉及，采用磁流变(MR)抛光流体的系统；以及最特别地，涉及改善的和低成本的系统，其中抛光操作不需要MR流体输送系统，和该抛光操作由通过新型集成管理模块(IFMM)形成的磁性硬化抛光带来执行，所述新型集成管理模块装有MR抛光流体，并具有传感器，以及提供MR流体性能的适当动态控制的MR流体调节装置。背景技术[0002]使用磁性硬化的磁流变流体来磨蚀性抛光和磨光基材是众所周知的。包含分散在液体载体中的软磁磨蚀性颗粒的该流体在磁场存在下呈现出磁感应触变行为。所述流体的表观粘度能够磁性地增加多个量级，使得所述流体的稠度从几乎水状改变至非常稠厚的膏。当将这种膏适当地施加至待成型或磨光的基材表面例如光学元件时，能够获得非常高水平的抛光质量、精度和控制。[0003]Kordonsky等人的于1995年09月12日授权的美国专利No.5449313以及1996年11月26日授权的美国专利No.5577948公