一种新型蚀刻片连续曝光机及其工艺方法.pdf

(19)中华人民共和国国家知识产权局*CN103279012A*(12)发明专利申请(10)申请公布号(10)申请公布号CNCN103279012103279012A(43)申请公布日2013.09.04(21)申请号201310099268.0(22)申请日2013.03.26(71)申请人宁波东盛集成电路元件有限公司地址315800浙江省宁波市北仑区大港三路51号(72)发明人何公明(74)专利代理机构上海申新律师事务所31272代理人竺路玲(51)Int.Cl.G03F7/20(2006.01)权权利要求书1页利要求书1页说明书3页说明书3页附图3页附图3页(54)发明名称一种新型蚀刻片连续曝光机及其工艺方法(57)摘要本发明公开一种新型蚀刻片连续曝光机，其中，包括：上台框与下台框，所述上台框与所述下台框之间的空间形成曝光区域，所述上台框与下台框两侧下方均设有一支撑板，两所述支撑板之间设有一滚轴，且所述滚轴位于曝光区域的一侧，所述滚轴与所述曝光区域之间设有固定传送滑轮，利用固定固定传送滑轮将滚轴上的产品送入曝光区域内进行对产品的曝光。通过使用本发明一种新型蚀刻片连续曝光机，有效地提高曝光机在生产过程中连续性减少加工时运输材料的时间，其结构简单，给人的使用带来了更大的便捷。CN103279012ACN103279ACN103279012A权利要求书1/1页1.一种新型蚀刻片连续曝光机，其特征在于，包括：上台框与下台框，所述上台框设于所述下台框上方，所述上台框与所述下台框之间的空间形成曝光区域，所述上台框与下台框均为矩形，所述下台框下侧面顶角处均设有一小气缸，所述上框台下侧面顶角处均设有一大气缸，所述上台框与下台框两侧下方均设有一支撑板，所述小气缸与所述大气缸均连接于所述支撑板顶面，每一所述支撑板的长度长于所述上台框与所述下台框的长度，两所述支撑板之间设有一滚轴，且所述滚轴位于曝光区域的一侧，所述滚轴与所述曝光区域之间设有固定传送滑轮。2.根据权利要求1所述的新型蚀刻片连续曝光机，其特征在于，每一所述支撑板顶面位于所述大气缸的外侧各设有一上灯滑轨支架，两所述上灯滑轨支架之间设有一上灯滑轨。3.根据权利要求2所述的新型蚀刻片连续曝光机，其特征在于，所述上灯滑轨下侧设有上发光元件。4.根据权利要求1所述的新型蚀刻片连续曝光机，其特征在于，两所述支撑板之间且位于所述下台框下方设有一下灯滑轨。5.根据权利要求4所述的新型蚀刻片连续曝光机，其特征在于，所述下灯滑轨上方设有一下发光元件。6.根据权利要求1所述的新型蚀刻片连续曝光机，其特征在于，所述支撑板顶面呈阶梯型，所述支撑板顶面由高至下依次为小气缸、大气缸以及上灯滑轨支架。7.一种新型蚀刻片连续曝光机及其使用方法，其特征在于，包括以下工艺步骤：步骤一，在滚轴上安装需要进行曝光的产品；步骤二，滚动固定传送滑轮将产品一端插入固定传送滑轮内；步骤三，利用小气缸控制下台框向下，大气缸控制上台框向上，将滚动固定传送滑轮传出的产品送入曝光区域内；步骤四，利用小气缸控制下台框向上，大气缸控制上台框向下，通过所述上台框与下台框夹住产品，并进行曝光；步骤五，对产品完成曝光，利用小气缸控制下台框向下，大气缸控制上台框向上，将曝光完的产品送出曝光区域。8.根据权利要求7所述的新型蚀刻片连续曝光机的工艺方法，其特征在于，当小气缸控制下台框向上，大气缸控制上台框向下，进行对产品夹紧的同时固定传送滑轮停止转动。2CN103279012A说明书1/3页一种新型蚀刻片连续曝光机及其工艺方法[0001]技术领域本发明涉及半导体制造领域，尤其涉及一种新型蚀刻片连续曝光机及其工艺方法。背景技术[0002]众所周知，曝光机是指通过开启灯光发出UVA波长的紫外线，将胶片或其他透明体上的图像信息转移到涂有感光物质的表面上的设备。以往在对产品曝光的过程中是使用单面曝光的。随着世界微电子技术的不断创新，一些特殊器件如传感器、双向可控硅、大功率整流器件的需求量与日俱增，半导体制造行业越来越多地需要用特殊的光刻方法作为电力半导体器件的加工手段，因此双面对准曝光机的特殊地位越来越突出。[0003]但是现有的双面曝光机在进行曝光的过程中，首先把产品放置在加工平台上由掩膜板盖在所要曝光产品的表面上，之后通过光源对掩膜板照射，将掩膜板内的图案投印在产品表面，之后取出产品再放入下一个待加工产品，这样分段的操作不仅在加工的时候带来许多不方便，同时影响了生产的效率。发明内容[0004]本发明公开了一种新型蚀刻片连续曝光机，用以解决现有技术曝光机在工作的过程中效率不高的问题。[0005]为实现上述目的，本发明采用的技术方案是：一种新型蚀刻片连续曝光机，其中，包括：上台框与下台框，所述上台框设于所述下台框上方，所述上台框与所述下台框之间的空间形成曝光区