真空镀膜与真空镀膜机.docx

富森钛金设备真空镀膜
真空镀膜材料也被称为真空镀膜用“源物质”，主要分为两类：一是真空蒸发法镀膜用的源物质:蒸发材料，二是真空溅射法镀膜用源物质：溅射靶材。
真空蒸发法是在真空条件下，用蒸发源加热蒸发材料，使之蒸发或升华进入气相，气相粒子流直接射向基片并在基片上沉积或结晶形成固态薄膜。真空蒸发镀膜是发展较早的镀膜技术，其设备相对简单,沉积速度高,膜层纯度高,应用相当广泛。按蒸发源不同,蒸发法主要有:电阻加热蒸发、电子束蒸发、电弧蒸发和激光蒸发等。
真空蒸发镀膜的物理过程：
1.采用各种形式的热能转换方式，使镀膜材料粒子蒸发或升华，称为具有一定能量的气态粒子
2.气态粒子通过基本上无碰撞的直线运动方式传输到基体
3.粒子沉积在机体表面上并凝聚成膜
4组合薄膜的原子重新排列火发生化学变化
薄膜沉积的厚度均匀性是一个经常需要考虑的问题。而且，需要同时沉积的面积越大，则沉积的均匀性越难得到保证。下图示出了对于点蒸发源和面蒸发源计算得出的沉积厚度随衬底尺寸大小的变化情况。由图中的曲线我们看到，点蒸发源所对应的沉积均匀性稍好于面蒸发源的情况。我们可以镀的产品：
1．建筑五金：卫浴五金（如水龙头）．门锁．门拉手．卫浴、门锁、五金合叶、家具等
2．制表业：可用于表壳．表带的镀膜、水晶制品
3．其它小五金：皮革五金．不锈钢餐具．眼镜框、刀具、模具等．
4．大型工件：汽车轮毂、不锈钢板．招牌．雕塑等
5、不锈钢管和板（各种类型表面）
6、家具、灯具、宾馆用具
7、锁具、拉手、卫浴五金、高尔夫球头、不锈钢餐具、器血等五金制品镀超硬装饰膜。
8、手表、表带、眼镜、首饰等装饰品镀超耐磨装饰（金银）纳米膜和纳米膜和纳米叠层膜。

迪通恒业科技溅射镀膜
当高能粒子(通常是由电场加速的正离子)冲击固体表面时，固体表面的原子、分子与这些高能粒子交换动能，从而由固体表面飞溅出来，这种现象叫做溅射。这些被溅射出来的原子带有一定的动能，并且会沿着一定的方向射向衬底，从而实现在衬底上薄膜的沉积。
溅射现象是1842年由格洛夫发现的。1870年开始。溅射现象就用于了薄膜的制作。然而，使之实用化并在工业上广泛的应用却是在1930年以后。
真空溅射法是物理气相沉积法中的后起之秀。随着高纯靶材和高纯气体制备技术的发展，溅射镀膜技术飞速发展，在多元合金薄膜的制备方面显示出独到之处，主要溅射方法有：直流溅射、射频溅射、磁控溅射和反应溅射。在溅射装置内配以离子束源以及在衬底上施加偏压等方法使溅射方法不断推陈出新，以适应对薄膜材料瞬息万变的需求。此外，人们又综合蒸发法和溅射法两种方法的优缺点，取长补短，发展出一些新的方法，如离子镀和离子束辅助沉积等。
溅射方法
溅射沉积装置
溅射法使用的靶材可以根据材质分为纯金属、合金及各种化合物。一般来讲，金属与合金的靶材可以用冶炼或粉末冶金的方法制备，其纯度及致密性较好；化合物靶材多采用粉末热压的方法制备，其纯度及致密性往往要稍逊于前者。
主要的溅射方法可以根据其特征分为以下四种：
〔1)直流溅射；(2)射频溅射；(3)磁控溅射；(4)反应溅射。但是根据使用目的，各种的溅射方法内又可能有一些具体的差别。例如，在直流溅射方法中又可以结合进各种的施加偏压的方法。另外，还可以将上述各种方法结合起来构成某种新的方法，比如，将射频技术与反应溅射相结合就构成了射频反应溅射法。
沉积薄膜的密度遵循以下规律：
(1)随着落膜厚度的增加，薄膜的密度逐渐增加并且趋于一极限位。并且，这一极限值一般仍要低于理论密度。
(2)金属薄膜的相对密度一般要高于陶瓷等化合物材料。
(3)薄膜材料中含有大量的空位和孔洞,并且还存在大量的显微空洞。