一种染液均匀装置.pdf

(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号(10)申请公布号CNCN103526493103526493A(43)申请公布日2014.01.22(21)申请号201310489627.3(22)申请日2013.10.18(71)申请人江苏海大印染机械有限公司地址214112江苏省无锡市新区梅村南丰一路8号(72)发明人陈丽洁周伟红吴建中高一中俞雅莹(74)专利代理机构南京经纬专利商标代理有限公司32200代理人张惠忠(51)Int.Cl.D06B23/00(2006.01)权权利要求书1页利要求书1页说明书2页说明书2页附图1页附图1页(54)发明名称一种染液均匀装置(57)摘要本发明公开了一种染液均匀装置，包括搅拌轴、轮毂和至少两个搅拌叶，轮毂连接在搅拌轴的下端，搅拌叶均匀分布在轮毂上，所述搅拌叶为X型伸缩架，轮毂上设有用于调节X型伸缩架收缩或伸长的定位结构，搅拌轴上设有用于检测染缸大小的光电传感器，光电传感器将信号传给控制器，控制器控制微型电机驱动定位结构运动或停止，所述X型伸缩架的远端为橡胶杆。与现有技术相比，本发明的有益效果是：X型伸缩架在使用时可以跟据染缸的不同规格伸长或收缩，以适配不同规格的染缸，节约了成本，X型伸缩架远端的橡胶杆既能与染缸充分接触，使染液充分均匀，又不会损坏染缸。CN103526493ACN10352649ACN103526493A权利要求书1/1页1.一种染液均匀装置，其特征在于：包括搅拌轴（1）、轮毂（2）和至少两个搅拌叶（3），轮毂（2）连接在搅拌轴（1）的下端，搅拌叶（3）均匀分布在轮毂（2）上，所述搅拌叶（3）为X型伸缩架（4），轮毂（2）上设有用于调节X型伸缩架（4）收缩或伸长的定位结构（5），搅拌轴（1）上设有用于检测染缸大小的光电传感器（7），光电传感器（7）将信号传给控制器（8），控制器（8）控制微型电机（9）驱动定位结构（5）运动或停止，所述X型伸缩架（4）的远端为橡胶杆。2.根据权利要求1所述的染液均匀装置，其特征在于：所述定位结构（5）为两个滑块（6），通过调节两个滑块（6）之间的间距，调节X型伸缩架（4）的收缩或伸长。3.根据权利要求1所述的染液均匀装置，其特征在于：所述X型伸缩架（4）通过螺栓和螺母可拆卸连接在定位结构（5）上。2CN103526493A说明书1/2页一种染液均匀装置技术领域[0001]本发明涉及一种染液均匀装置。背景技术[0002]在染布前，需要将染料和溶剂放在染缸里进行搅拌，为了使染液充分均匀，染液搅拌装置需与染缸充分接触，但是现有的染液搅拌装置的搅拌液为金属的，容易损坏染缸；另外因为染缸有大小之分，各种规格的染缸需配备不同型号的染液搅拌装置，增加了成本。发明内容[0003]本发明需要解决的上述问题是针对上述现有技术的不足，而提供一种既不会损坏染缸，又能适配不同规格的染缸的染液均匀装置。[0004]为解决上述技术问题，本发明采用的技术方案是：一种染液均匀装置，包括搅拌轴、轮毂和至少两个搅拌叶，轮毂连接在搅拌轴的下端，搅拌叶均匀分布在轮毂上，所述搅拌叶为X型伸缩架，轮毂上设有用于调节X型伸缩架收缩或伸长的定位结构，搅拌轴上设有用于检测染缸大小的光电传感器，光电传感器将信号传给控制器，控制器控制微型电机驱动定位结构运动或停止，所述X型伸缩架的远端为橡胶杆。[0005]所述定位结构为两个滑块，通过调节两个滑块之间的间距，调节X型伸缩架的收缩或伸长。[0006]所述X型伸缩架通过螺栓和螺母可拆卸连接在定位结构上。[0007]与现有技术相比，本发明的有益效果是：X型伸缩架在使用时可以跟据染缸的不同规格伸长或收缩，以适配不同规格的染缸，节约了成本，X型伸缩架远端的橡胶杆既能与染缸充分接触，使染液充分均匀，又不会损坏染缸。附图说明[0008]图1是本发明的染液均匀装置的结构示意图；其中，1、搅拌轴，2、轮毂，3、搅拌叶，4、X型伸缩架，5、定位结构，6、滑块、7、光电传感器，8、控制器，9、微型电机。具体实施方式[0009]下面结合附图详细说明本发明的优选技术方案。[0010]如图1所示，一种染液均匀装置，包括搅拌轴1、轮毂2和至少两个搅拌叶3，轮毂2连接在搅拌轴1的下端，搅拌叶3均匀分布在轮毂2上，搅拌叶3为X型伸缩架4，轮毂2上设有用于调节X型伸缩架4收缩或伸长的定位结构5，搅拌轴1上设有用于检测染缸大小的光电传感器7，光电传感器7将信号传给控制器8，控制器8控制微型电机9驱动定位结构5运动或停止，X型伸缩架4的远端为橡胶杆。3CN103526493A说明书2/2页[0011]定位结构5为两个滑块6，通过调节两个滑块6之间的间距，调节X型伸缩架4的收缩或伸长，可以适配不同规格的染缸，节约成本。[0012]X型伸缩架4通过螺栓和螺