一种在位式气囊抛光头的修整装置及其修整方法.pdf

(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号(10)申请公布号CNCN103624685103624685A(43)申请公布日2014.03.12(21)申请号201310687425.X(22)申请日2013.12.16(71)申请人福建省三明机床有限责任公司地址365500福建省三明市沙县高新技术产业开发区金沙园金明东路(72)发明人刘文志严积淼余辅华(74)专利代理机构厦门市首创君合专利事务所有限公司35204代理人李雁翔(51)Int.Cl.B24B53/12(2006.01)权权利要求书1页利要求书1页说明书4页说明书4页附图4页附图4页(54)发明名称一种在位式气囊抛光头的修整装置及其修整方法(57)摘要本发明公开了一种在位式气囊抛光头的修整装置及其修整方法，修整装置包括在位设置的修磨装置和优化设置的机床本体运动件，气囊抛光头是球冠形的，修磨装置整体通过修磨底座与机床立柱连接，修磨底座上设置有两平行导轨，砂轮主轴设置在砂轮主轴箱内，砂轮主轴箱架设在底板上，底板通过滑块与导轨活动连接，两导轨中间设置有气缸，气缸的活塞杆末端与滑块传动连接；圆弧截面形砂轮设置在砂轮主轴输出端，修磨电机与砂轮主轴另一端传动连接，砂轮的加工面与气囊抛光头的抛光垫的表面活动靠接。利用抛光机床本身的运动实现在位修整，结构简单、成本低、操作简单，可以避免气囊抛光头重复装拆影响修整及抛光精度，使用效果更理想。CN103624685ACN10362485ACN103624685A权利要求书1/1页1.一种在位式气囊抛光头的修整装置，修整装置包括在位设置在抛光机床上的修磨装置和机床本体运动件，机床本体设有底座，底座上设有工作台和立柱，工作台上设有伸缩式防护罩，工作台与底座沿机床Y方向可前后移动活动连接；拖板与立柱沿机床X方向可左右移动活动连接；方箱设于拖板上并与拖板沿机床Z方向可上下移动活动连接；各部件的移动和摆转和旋转均通过数控系统信号控制连接；其特征在于：设于方箱下端的A轴电机与斜向设置的A摆臂的上端摆转传动连接；设于A摆臂下端的B轴电机与设于A摆臂下端的B摆臂上端摆转传动连接，主轴一端与B摆臂下端连接，气囊抛光头设于主轴另一端；气囊抛光头是球冠形的，修磨装置整体通过修磨底座与机床立柱固定连接，修磨底座上设置有两平行导轨，砂轮主轴设置在砂轮主轴箱内，砂轮主轴箱架设在底板上，底板通过滑块与导轨活动连接，两导轨中间设置有气缸，气缸的活塞杆末端与滑块传动连接；圆弧截面形砂轮设置在砂轮主轴输出端，修磨电机与砂轮主轴另一端传动连接，砂轮的加工面与气囊抛光头的抛光垫的表面活动靠接。2.根据权利要求1所述的一种在位式气囊抛光头的修整装置，其特征在于：所述的修磨电机通过固定架与砂轮主轴箱并排设置，修磨电机传动轴通过主动轮、皮带与设置在砂轮主轴输出端的从动轮传动连接。3.根据权利要求2所述的一种在位式气囊抛光头的修整装置，其特征在于：所述的气缸及两导轨整体的靠外端罩设有伸缩式后挡罩；修磨电机的靠内方的固定架上设有前挡罩；修磨底座两侧对应滑块处设置有限位挡板。4.根据权利要求1或2或3所述的一种在位式气囊抛光头的修整装置，其特征在于：所述的气缸的活塞杆穿过活塞杆固定架上的圆口设置在底板上，活塞杆末端与滑块传动连接。5.根据权利要求1或2或3所述的一种在位式气囊抛光头的修整装置，其特征在于：所述的气缸通过缸架与修磨底座连接。6.根据权利要求1或2或3所述的一种在位式气囊抛光头的修整装置，其特征在于：所述的砂轮主轴箱外还罩设有防护罩。7.一种根据权利要求1所述的在位式气囊抛光头的修整方法，其特征在于，所述的修整方法是利用连接设置在抛光机床立柱上的修磨装置，同时通过气囊抛光机床本身各相关运动部件的移动和摆转和旋转，实现对气囊抛光头的抛光垫表面的在位修整，修整过程包括下列步骤：(a)、气缸动作使砂轮向内移动，直至碰到限位装置停止；(b)、开启抛光机床主轴；调整Z轴电机使方箱移动到设定高度；调整抛光机床B轴电机使抛光机床主轴轴线运动到修整姿态即水平姿态；调整X轴电机使拖板移动到直至气囊抛光头的抛光垫的表面与圆弧截面形砂轮面接触；(c)、通过控制机床X轴电机来控制气囊抛光头的微量进给；通过控制抛光机床A轴电机来控制球冠形气囊抛光头与圆弧截面形砂轮的相对摆动；(d)、修整结束后，气缸动作使砂轮向外移动，通过数控系统调整各电机直至机床回复到加工姿态。2CN103624685A说明书1/4页一种在位式气囊抛光头的修整装置及其修整方法技术领域[0001]本发明涉及抛光技术，尤其涉及气囊抛光机上的在位式气囊抛光头的修整装置以及通过抛光机床本身的旋转和平移实现对该气囊抛光头进行修整的方法。背景技术[0002]气囊抛光技术是二十世纪90年代提出的一种抛光方法，尤其